【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状、残渣低減、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、また、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、樹脂の製造方法の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂（Ｐ）を含有し、前記樹脂（Ｐ）の分散度が１．２０以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】ブタジエン系重合体ゴムにシリカ及びヒドラジド化合物を配合した、耐摩耗性、低燃費性、及びウェットグリップ性に優れたゴム組成物、及びそれを用いたタイヤを提供すること。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、ゴム成分として、（Ａ）質量平均分子量が０．６〜１７０万である溶液重合した変性ブタジエン重合体及び／又は変性スチレン−ブタジエン共重合体からなる変性ブタジエン系重合体ゴムを１０質量％以上含み、補強充填剤として、（Ｂ）１００〜３５０ｍ^２／ｇのＢＥＴ比表面積で、表面の含水率が０．５０〜５．００質量％のシリカをゴム成分１００質量部に対して８０〜２５０質量部含み、また、（Ｃ）ヒドラジド化合物をゴム成分１００質量部に対して０．２〜４質量部を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた防曇性及び耐水性を発揮することができ、かつ、表面強度の高い塗膜を形成することが可能な防曇性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】水溶性ポリビニルアセタール樹脂及び水を含有する防曇性樹脂組成物であって、平均重合度が１０００〜３５００、アセタール化度が２１〜４０モル％及び水酸基量が４５〜６４モル％であり、かつ、アセタール化された全構成単位のうち、芳香族アルデヒドによってアセタール化された構成単位の割合が９０％以上である防曇性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い防曇性を発揮することができ、かつ、優れた塗工性、耐水性及び接着性を実現することが可能な防曇性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】水溶性ポリビニルアセタール樹脂及び水を含有する防曇性樹脂組成物であって、平均重合度が１５００〜３５００、水酸基量が６５〜８０モル％及びアセタール化度が４〜２０モル％であり、かつ、アセタール化された全構成単位のうち、芳香族アルデヒドによってアセタール化された構成単位の割合が９０％以上である防曇性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低ヒステリシスロス性能とウェットスキッド抵抗性能に優れ、これらの性能バランスに優れ、耐摩耗性と破壊強度とのバランスに優れた変性共役ジエン系重合体組成物、これを構成する、耐コールドフロー性に優れた変性共役ジエン系重合体、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系重合体を得る工程と、アルコキシシリル基と窒素原子とを有する変性剤を、２回以上に分けて分割添加し、前記共役ジエン系重合体の活性末端に、前記変性剤を反応させる工程と、
を、有する変性共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】重合末端にチオカルボニルチオ基と、側鎖に複数のラジカル重合が可能な二重結合とを備え、有機溶媒に可溶な重合体の提供。
【解決手段】チオカルボニルチオ基を有する連鎖移動剤と、ラジカル重合開始剤との存在下で、１分子中に２つのラジカル重合可能な二重結合を有し、かつ、非対称構造であるモノマーを含むモノマー成分をラジカル重合して得られる、重合末端にチオカルボニルチオ基と、側鎖にラジカル重合が可能な複数の二重結合とを備えている重合体。この重合体は、アセトン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、トルエンのいずれかに溶解する。 （もっと読む）

【課題】ベチュリンから得られるポリマー、ポリエステル、ポリウレタン及びエステル化合物並びにそれらの製造法を提供し、更には、優れたベチュリンモノマーの抽出法を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）


で示される繰返し単位を有するポリマー。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、短時間で効率良く、（メタ）アクリル酸エステルを製造するための製造方法を提供する
【解決手段】多価アルコールを酸触媒と重合禁止剤とが共存する反応系に、マイクロ波を照射して加熱して（メタ）アクリル酸エステル化反応させることを特徴とする（メタ）アクリル酸エステルの製造方法。マイクロ波照射による製造方法により、プラスチック基材に対する密着性が良好な当該アクリル酸エステルの製造を可能にするものである。 （もっと読む）

【課題】無機粉末の分散性に優れ、高い防曇性及び耐水性を実現することが可能な防曇性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】水溶性ポリビニルアセタール樹脂及び水を含有する防曇性樹脂組成物であって、前記水溶性ポリビニルアセタール樹脂は、平均重合度が１００〜８００の水溶性ポリビニルアセタール樹脂と、平均重合度が１５００〜３５００の水溶性ポリビニルアセタール樹脂との混合水溶性ポリビニルアセタール樹脂であり、水酸基量が６５〜８０モル％及びアセタール化度が５〜２０モル％であり、かつ、アセタール化された全構成単位のうち、芳香族アルデヒドによってアセタール化された構成単位の割合が９０％以上である防曇性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高速剥離時における粘着力が小さく、かつ、浮きや剥がれといった問題を生じない程度に低速剥離時の接着力が高く、特に透明性が高い再剥離用粘着剤組成物、再剥離用粘着剤層および再剥離用粘着シートを提供する。
【解決手段】再剥離用粘着剤組成物は、ガラス転移温度が０℃未満のポリマ−（Ａ）１００質量部と、重量平均分子量が１０００以上３００００未満であり、下記一般式（１）で表される、脂環式構造を有する（メタ）アクリル系モノマーをモノマー単位として含む（メタ）アクリル系重合体（Ｂ）０．０５質量部〜３質量部と、を含むことを特徴とする。ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）ＣＯＯＲ^２ （１）
［式（１）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基であり、Ｒ^２は、脂環式構造を有する脂環式炭化水素基である］ （もっと読む）

【課題】プラスチック基板上に硬化エネルギー放射線によりイメージ通りに硬化ポリマーを形成する方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板上にコートされる光硬化可能なポリマー組成物における形体のフォトリソグラフィックパターニングのための方法であって、プラスチック基板は、金属製障壁のような反射膜でコートされる。また、プラスチック基板は、光硬化放射線を吸収する添加剤を含むポリマー障壁層でコートされるか又は同時押し出し成形される。さらに、プラスチック基板は、光硬化放射線を吸収する内在性添加剤を含む。これらの組み合わせもまた含まれる。プラスチック基板上に支持される光硬化可能なポリマーを含むいずれの素子又は目的物の製造にも適用できるが、プラスチック基板上に支持される光硬化可能なポリマーを含む光導波路の製造に有利に適用されてもよい。 （もっと読む）

【課題】電子線あるいは極紫外線（ＥＵＶ光）を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、優れたパターン形状、高解像性（高い限界解像性など）、高ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能を極めて高次元で同時に満足するパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）電子線又は極紫外線の照射により酸を発生する化合物と、（Ｃ）フッ素原子、フッ素原子を有する基、珪素原子を有する基、炭素数が６以上のアルキル基、炭素数が６以上のシクロアルキル基、炭素数が９以上のアリール基、炭素数が１０以上のアラルキル基、少なくとも１個の炭素数３以上のアルキル基で置換された芳香環基、及び、少なくとも１個の炭素数５以上のシクロアルキル基で置換された芳香環基からなる群より選択される１つ以上の基を有する樹脂と、（Ｄ）溶剤とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程（１）、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程（４）をこの順番で有するパターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】靭性と流動性とのバランスに優れる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記重合体（Ａ１）２０〜８０重量％、下記重合体（Ａ２）５〜５５重量％、および下記共重合体（Ｂ）１０〜５０重量％を含み、２３０℃、２．１６ｋｇ荷重下で測定したメルトフローレート（ＭＦＲ）が２０ｇ／１０分以上である樹脂組成物。
重合体（Ａ１）：極限粘度が０．５ｄｌ／ｇ以上、２．０ｄｌ／ｇ未満であり、分子量分布が３．０未満であり、かつプロピレンに由来する構造単位の含有量が９０重量％以上であるプロピレン重合体
重合体（Ａ２）：極限粘度が２．０ｄｌ／ｇ以上、７．０ｄｌ／ｇ以下であり、分子量分布が３．０以上であり、かつプロピレンに由来する構造単位の含有量が９０重量％以上であるプロピレン重合体
共重合体（Ｂ）：エチレンに由来する構造単位の含有量が２０〜８０重量％である、エチレンとプロピレンまたは炭素数４〜２０のα−オレフィンとの共重合体 （もっと読む）

【解決手段】側鎖末端にヘキサフルオロヒドロキシプロピルカルボニルオキシ基を有する（メタ）アクリレート単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。
【効果】上記レジスト保護膜材料は、高撥水性かつ高滑水性性能を有する。そのため水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト成分の水への溶出が抑えられる上、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィーを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】高分子量のビニルスルホン酸重合体を短時間で製造する方法を提供。
【解決手段】一般式R-C(=O)-NR₁R₂（Rは水素原子又は低級アルキル基を表す。R₁、R₂は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基を表す）で表されるアミド化合物の存在下にビニルスルホン酸を光重合させるビニルスルホン酸単独重合体の製造方法であって、前記アミド化合物の量が、ビニルスルホン酸１モルに対し０．４モル以上２．５モル以下である方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】脱離基を有するフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とエテニル化合物との炭素炭素結合形成反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】グリセリンの脱水反応により得られたアクロレイン含有ガスを分縮により高度に精製でき、凝縮液での析出物の生成を抑制できるアクロレインの製造方法、ならびに、前記アクロレインの製造方法により得られたアクリル酸を用いたアクリル酸の製造方法、および親水性樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】グリセリンを脱水反応させてアクロレイン含有ガスを得るグリセリン脱水工程と、アクロレイン含有ガスを冷却して、アクロレイン含有ガスに含まれるアクロレインの一部、水、および高沸点物質を凝縮させて、精製ガスと凝縮液を得る分縮工程と、精製ガスと凝縮液を気液分離する分離工程とを有し、分縮工程で、アクロレイン含有ガスまたは凝縮液に重合禁止剤を添加することを特徴とするアクロレインの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角を示すことにより、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト膜を形成可能なフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、［Ｂ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有し、フッ素原子を含む重合体、［Ｃ］酸発生体、及び［Ｄ］溶媒を含有するフォトレジスト組成物である。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。但し、Ｒ^４とＲ^５とが互いに結合して、これらが結合している炭素原子と共に炭素数３〜２０の環構造を形成してもよい。
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】アセチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物を還元してヒドロキシエチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とし、次にそれを脱水する反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】感度等の基本性能に加えて、ナノエッジラフネス、解像度、パターン倒れ耐性、ＭＥＥＦ（Ｍａｓｋ Ｅｒｒｏｒ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｆａｃｔｏｒ）に優れるレジスト膜を形成するために用いられる化合物、それを用いて得られる重合体及びその重合体を含有するフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。


（式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。Ｒ^２は、単結合又は２価の連結基である。Ｍ^＋は、１価のカチオンである。）また、式（１）におけるＭ^＋の１価のカチオンは、例えば４−シクロヘキシルチオフェニル・ジフェニルスルホニウムのようなスルホニウム好ましい。 （もっと読む）