【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】ホルミルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物に、カルボニルオレフィン化反応を行う工程を含む、式（１）で表されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】ホルムアルデヒドを放出せず、熱架橋性を有し、また、紙処理剤として使用すると、低熱処理条件下で得られた紙であっても耐水性に優れ、さらに、繊維処理剤として使用すると、柔軟性に富む繊維が得られる熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】トリカルバリル酸、アコニチン酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、テトラヒドロフランテトラカルボン酸、メチルテトラヒドロフタル酸とマレイン酸のエン付加物、トリメリット酸、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸からなる群より選ばれる一種以上のポリカルボン酸の存在下、カルボキシル基と熱架橋反応し得る官能基を含むエチレン性不飽和単量体Ａを乳化重合させることにより、カルボキシル基と熱架橋反応し得る官能基を有する高分子重合体と、前記ポリカルボン酸とを含む水性エマルジョンを得て、かつ前記ポリカルボン酸のカルボキシル基の少なくとも一部を前記高分子重合体の官能基と反応させてなることを特徴とする熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】押出機内でのサージングの発生を抑制できるＳＰＳペレットの製造方法を提供する。
【解決手段】重合器において、重合触媒を用いてスチレンモノマーを重合して、シンジオタクチック構造を主に有するスチレン系重合体を含む粉体状物を製造し、前記粉体状物を押出機で押出溶融するスチレン系重合体ペレットの製造方法であって、前記粉体状物を重合器から前記押出機に供給する前に、前記粉体状物に前記重合触媒の失活剤を添加するスチレン系重合体ペレットの製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低粘度の星型共重合体の合成が可能なリビングラジカル重合開始剤を提供する。
【解決手段】ハロゲン原子を末端に有する分岐鎖を１分子中に少なくとも３本有するリビングラジカル重合開始剤であって、前記ハロゲン原子のうち最も近接する２個のハロゲン原子間の結合中に少なくとも１個のベンゼン環を有し、かつ前記ハロゲン原子間において結合する原子の最小数が９〜３０個であり、該９〜３０個の原子のうちの前記ベンゼン環に結合する２つ原子が該ベンゼン環のメタ位又はパラ位において結合しているリビングラジカル重合開始剤である。 （もっと読む）

【課題】レンズを加工する工程においても傷を生じることのない十分な硬さを有するコーティング層が得られ、かつ、発色濃度が高く、退色速度が速く、繰り返し耐久性も高いといった優れたフォトクロミック特性を有するフォトクロミック眼鏡レンズが得られるフォトクロミック硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ｉ）分子内に、ケージ状構造のシルセスキオキサン骨格と、ウレタン結合、チオウレタン結合、及びウレア結合から選ばれる少なくとも一つの結合基と、ラジカル重合性基とを有する重合性単量体、並びに（ＩＩ）フォトクロミック化合物を含んでなるフォトクロミック硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】成膜性に優れた光学フィルム製造用の組成物及び該組成物から形成される光学フィルムの提供。
【解決手段】以下の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む組成物、及び該組成物から形成される光学フィルム。（Ａ）式（Ａ）で表される化合物


［式中、Ｙ^１は芳香族複素環式基などを表す。Ｄ^１及びＤ^２は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−などを表す。Ｇ^１及びＧ^２は脂環式炭化水素基などを表す。Ｌ^１及びＬ^２のうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。］（Ｂ）メルカプト基を有する化合物。（Ｃ）光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】溶出が抑制された高解像性のネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程（１）と、液浸媒体を介して浸漬露光する工程（２）と、工程（２）の後にベークを行い、露光部において露光により光塩基発生剤成分から発生した塩基と、レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、未露光部において、レジスト膜に予め供給された酸の作用により、基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）と、アルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法であって、レジスト膜の水に対する後退角が６５°以上であることを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】反応阻害や着色やケン化反応の進行をほとんど引き起こすことなく、低重合度で無機イオン成分の残留が少ないポリビニルアセタールを製造することができるポリビニルアセタールの製造方法を提供する。また、該ポリビニルアセタールの製造方法を用いて製造されるポリビニルアセタールを提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールを過酸化水素と接触させて低重合度化する工程１、及び、酸触媒を用いて酸性条件にした系において、前記工程１で低重合度化したポリビニルアルコールをアルデヒドと反応させてアセタール化する工程２を有し、工程１において、波長が２００〜３００ｎｍの紫外線を照射するポリビニルアセタールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
パターン形成後にラフネスが発生したり、パターン自体をうまく描けないなどの欠陥を防止するために、樹脂中に光酸発生機能を組み込んだレジスト樹脂であって、「酸の作用によって現像液への溶解性が変化する部位」と「光酸発生機能を有する部位」が規則正しく配置されたレジスト樹脂を提供する。
【解決手段】
下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する含フッ素スルホン酸塩樹脂。
【化１】


（式中、Ａはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは１〜１０の整数を表す。Ｗは２価の連結基を表す。Ｒ^１は酸不安定基を表す。M⁺は、１価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】良好な現像時間依存性を以って、超微細の孔径を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンの提供。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により塩基性が低下する、塩基性化合物又はアンモニウム塩化合物を含有する組成物であって、前記化合物（Ｃ）の前記化合物（Ｂ）に対するモル比率［Ｃ］／［Ｂ］が０．４以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィのための組成物を提供する。
【解決手段】下記のＡを含むポリマーとシランから形成されるポリマーを含む組成物。Ａ）下記の構造単位１：


（式中、Ｌは、Ｃ−Ｃ結合でありであり；Ｍは２価の結合基、Ｓｉ上に酸素含有基、ハライドから選択される基を持つ。） （もっと読む）

【課題】低コストで良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法及びガスバリア層、並びにガスバリア性フィルム又はガスバリア層を用いた装置を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム１０は、プラスチック基材１と、プラスチック基材１上に設けられた有機層２と、有機層２上に設けられた無機層３とを有し、その有機層２を、水酸基を構造内に含まないアルキレンオキサイド変性フルオレンアクリレートを架橋してなる層とする。 （もっと読む）

【課題】ネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法、及びこれに用いることができ、保存安定性に優れたレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分と、酸供給成分と、フッ素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含み、かつ、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含まない化合物（Ｆ）とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程（１）と、前記レジスト膜を露光する工程（２）と、前記工程（２）の後にベークを行う工程（３）と、前記レジスト膜をアルカリ現像し、前記レジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法、及び前記工程（１）で用いる前記レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像によるネガ型パターン形成において、現像後のパターン倒れ及びブリッジ欠陥の発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂（Ｐ）、
特定の一般式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）のいずれかで表される化合物（Ｂ）、及び溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】水溶性やイオン性のビニルモノマー、溶媒、あるいは両者を用いても、高収率で重合体を得ることができる重合開始剤を提供し、さらにこれを用いたビニルモノマーの重合方法を提供する。
【解決の手段】
ｔ−Ｂｕ_ｎＺｎＸ_{（２−ｎ）}・（ＭＹ_ｍ）_ｌ （１）
（式（１）中、ｎは１〜２の実数であり、Ｘはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のいずれかを表し、Ｍは周期表第１族および第２族から選ばれる金属を示し、Ｙはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のいずれかを表し、ｍは１〜２の整数を示し、ｌは０．１〜６の実数である。）で示される有機亜鉛化合物と金属塩との錯体からなる重合開始剤および、この重合開始剤を用いるビニルモノマーの重合方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】酸素遮断性が高いコーティングを提供することができる新規なコーティング組成物、該組成物を用いた、現像性と現像して得られる画像の強度に優れる画像形成材料及び平版印刷版原版、並びに優れた酸素遮断性フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位を有するポリマーを含むことを特徴とするコーティング組成物。該組成物を含む保護層を有する画像形成材料及び平版印刷版原版。該組成物を含む酸素遮断層を有するフィルム。
【化１】


式中、Ｍ^ｎ＋はｎ価の正電荷を有するカチオンを表し、ｎは１〜４の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】分子内に、ベンジルチオカルバメート基（−Ｐｈ−ＣＨ_２−ＳＣＳＮＲ_２）を含有する高分子化合物（Ａ）と、分子内に２個以上の不飽和二重結合を含有する不飽和二重結合化合物（Ｂ）とを含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）

【課題】着色を抑えたＮ−ビニルラクタム系重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アゾ系重合開始剤および／または有機過酸化物と還元剤との存在下、アルコールを必須に含む水性溶媒中で、Ｎ−ビニルラクタムを必須とする単量体成分を重合する工程を含むことを特徴とするＮ−ビニルラクタム系重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】熱導電性が向上した定着器部材を提供する。
【解決手段】定着器部材１００の熱導電性を向上させるため、コア−シェル粒子を定着器部材１００の層に分散させる。コア−シェル粒子は、シェル層に囲まれたグラフェンコアを含む。シェル層は、ポリペンタフルオロスチレン、ポリスチレンおよびポリジビニルベンゼンからなる群から選択されるポリマーを含む。コア−シェル粒子は、定着器部材１００の中間層１２０または剥離層１３０に分散させることができる。 （もっと読む）

【課題】フルオロポリマーの製造に好適な新規組成物、及び、この組成物を使用したフルオロポリマー水性分散液を製造するための新規な製造方法を提供する。
【解決手段】炭素数が１０〜２０の全フッ素化飽和炭化水素、及び、含フッ素界面活性剤を含むことを特徴とする組成物。 （もっと読む）