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Fターム[4J100CA01]の内容

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Fターム[4J100CA01]に分類される特許

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【課題】ディフェクトの発生を低減することができ、且つ保存安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、末端にフッ素化アルキルエステル基を有するフッ素含有有機基を側鎖に有する化合物成分(F)とを含有することを特徴とするレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ポリアクリロニトリル系繊維表面を均質化し、炭素繊維表面の欠陥を低減でき、毛羽や搬送ロールへの巻き付きを低減できるアクリトニトリル系重合体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】還元剤及び酸化剤を用いた水系レドックス懸濁重合によって、アクリロニトリル単量体単位を90質量%以上含むアクリロニトリル系重合体を製造する方法であって、
該還元剤としてナトリウムホルムアルデヒドスルフォキシレートを使用し、該酸化剤として水溶性有機過酸化物を使用して、該アクリロニトリル系重合体に含まれる硫黄原子を5.0×10-5当量/g以下とするアクリロニトリル系重合体の製造方法。及び該方法より得られるアクリロニトリル系重合体。 (もっと読む)


【課題】繰り返して使用しても移動度の変動が抑制される電荷輸送性膜が得られる新規な化合物を提供することである。
【解決手段】下記一般式(I)で示される反応性化合物。一般式(I)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、Dは下記一般式(III)で示される基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。一般式(III)中、Lは、−C(=O)−O−基を1つ以上含む2価の連結基を示す。
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【課題】無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、耐摩耗性及び破壊強度が高い変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を使用して測定された分子量分布が1.2〜3.5の範囲である多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系重合体を得る工程と、
前記共役ジエン系重合体の重合活性末端に、
(I)シリル基に結合したアルコキシ基の総数が4個以上であり、1つ以上の窒素原子を有する変性剤(A)を反応させる工程と、
(II)シリル基に結合したアルコキシ基の総数が2又は3個であり、1つ以上の窒素原子を有する変性剤(B)を反応させる工程と、
を有する、
変性共役ジエン系重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】プロトン伝導率の高い新たなホスホン酸ポリマーを提供する。
【解決手段】ジメチルホスホネートCHCF2PO(OEt)2を源材料とし、中間化合物HOCH2CF2PO(OEt)2を生成した後、該中間化合物と化合物H2C=CFCOClとの反応を経て、H2C=CFCOOCH2CF2PO(OEt)2を生成し、これを重合してポリマーとした後、該ポリマーのエチル基を水素に置換させ構造式(1)で表される分子鎖構造を繰り返し単位として含むホスホン酸ポリマーの製造方法。
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【課題】分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体等の製造用の高活性触媒成分およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(A)で表される金属錯体、およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法。


[式中、Mは、周期律表の9族、10族または11族に属する遷移金属を表す。Rは、炭素数1〜20の炭化水素基等を表す。Lは、Mに配位したリガンドを表す。Xは、酸素または硫黄を表す。Eは、リン、砒素またはアンチモンを表す。R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜40の炭化水素基等を表し、R10、R11及びR12、R13は、それぞれ独立に、炭素数1〜30の炭化水素基等を表す。] (もっと読む)


【課題】シリカ系無機充填剤等の各種無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、実用上十分な耐摩耗性及び破壊強度を満足する変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を使用して測定された分子量分布が1.2〜3.5の範囲である多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって共役ジエン系重合体を得る工程と、
前記共役ジエン系重合体の重合活性末端に、シリル基に結合したアルコキシ基の総数が4個以上であり、1つ以上の窒素原子を有する化合物を、反応させる工程と、
を有する、変性共役ジエン系重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 特定の範囲の分子量分布と、比較的広い組成分布を有し、溶融張力が高く、発泡特性に優れたエチレン系重合体からなるポリエチレン系樹脂発泡体ネットを提供する。
【解決手段】 下記(A)〜(E)の要件を満足するエチレン系重合体を基材樹脂とする発泡体からなる多数の細条が相互に交差し、その交差部が互いに融着してなる網目状に構成された発泡体ネットであって、該ネットを構成する細条の平均密度が0.02〜0.1g/cm3であることを特徴とするエチレン系樹脂発泡体ネット。
(A)密度が920以上945未満。(B)MFRが0.1以上20以下。(C)Mw/Mnが2.0以上7.0以下。(D)分子量分別した際のMnが10万以上のフラクション中に長鎖分岐を主鎖1000炭素数あたり0.15個以上。(E)流動の活性化エネルギー[Ea(kJ/mol)]が30<Ea<60 (1) (F)50℃におけるn−ヘプタン抽出量が0.2重量%以下。 (もっと読む)


【課題】欠陥の発生数が少なく、優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び環状ケトン溶剤を含有するレジスト組成物。


[式中、Raa1は、水素原子又はメチル基;Raa2は、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基;Aaa1は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルカンジイル基又は式(a−1)で表される基を表す。] (もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)で、欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(式(I)で表される構造単位を含まない)、酸発生剤及び式(IA)で表されるアニオンを有する塩を含有するレジスト組成物。
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【課題】高速硬化が可能で硬化反応が停止しにくい活性光線硬化組成物の提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表される塩基反応性化合物及び光塩基発生剤を含む活性光線硬化組成物。


上記式中、Aは脂環式構造又は複素環式構造を表し、置換基を有していても良い。前記複素環式構造が環構成原子として酸素原子を含む活性光線硬化組成物。更に光ラジカル重合開始剤を含む活性光線硬化組成物。更に、ラジカル重合性化合物を含む活性光線硬化組成物。前記ラジカル重合性化合物が多官能モノマーである活性光線硬化組成物。前記活性光線硬化組成物を含む活性光線硬化型インクジェット用インク。 (もっと読む)


【課題】優れたCD均一性でレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥発生数が少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】レジストパターン形成時の露光マージン(EL)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lは、2価の飽和炭化水素基;Rf1及びRf2は、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基を表す。] (もっと読む)


【課題】CD均一性で、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及びアルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、A13は、ハロゲン原子を有していてもよい2価の脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】レジストパターン形成時の露光マージン(EL)に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、R1は、水素原子又はメチル基;A1はアルカンジイル基;R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;Rb1及びRb2は、独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は、2価の飽和炭化水素基;環Wb1は複素環;Rb3は、水素原子又は炭化水素基;Rb4は炭化水素基;mは、0〜6の整数;Z1+は有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)で、且つ、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、酸発生剤、式(II)で表される化合物を含むレジスト組成物。
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【課題】高速硬化が可能で硬化反応が停止しにくい活性光線硬化組成物及び該組成物を用いた活性光線硬化型インクジェット用インクの提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表される塩基反応性化合物及び光塩基発生剤を含む活性光線硬化組成物。


上記式中、Aは脂環式構造又は複素環式構造を表し、置換基を有していても良く、環の中に二重結合を二つ有していても良い。 (もっと読む)


【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス(LER)で、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、A14は、ハロゲン原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】搬送の際にも性能低下を起こさないクリーン性に優れた電気電子機器部品搬送ケースを高い生産性で製造できるポリプロピレン系樹脂を提供する。
【解決手段】揮発性成分量A(単位はppm)と融点T(単位は℃)が下記式1を満足し、かつ揮発性成分量Aが10ppm以下であることを特徴とする電気電子機器部品搬送ケース用ポリプロピレン系樹脂。式1A≦0.67×T−97、さらに融点Tが150℃以上、曲げ弾性率が1300MPa以上であることが望ましい。さらに、ハフニウムを中心金属とするメタロセン触媒を用い製造されることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、A14は、脂肪族炭化水素基を表す。] (もっと読む)


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