【課題】更なる高密度記録化に対応すべく磁性体を高度に分散するための手段を提供すること。
【解決手段】下記構造単位ａを含むことを特徴とする変性ビニル系樹脂。［構造単位ａにおいて、Ｘ¹は硫酸基と有機アミンから形成される塩または該塩を含む置換基を表す。］
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【課題】粘弾性を制御し、特にタイヤに用いた場合に低燃費性とウェットスキッド性を改善する。
【解決手段】エポキシ化天然ゴムのエポキシ基の少なくとも一部をラテックス中でジイミド又はその誘導体により還元することで水酸基化して得られ、式（１）及び／又は式（２）で表される構成単位を有する変性ジエン系ゴムである。
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【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光性が無く透明性にすぐれ、廃棄の際には環境への悪影響が無く、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタのアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物を炭酸エステル化することによる１０−（置換カルボニルオキシ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物の製造法及び、該（メタ）アクリレート化合物並びに該（メタ）アクリレート化合物を含む紫外線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；ｒは１又は２；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基、但し、Ａ^１１が単結合の時、ｓ＝１かつＸ^１０は酸素原子である；Ｒ^２は、酸に不安定な基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。環Ｗ^２は置換基を有していてもよい炭素数３〜３４のラクトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；ｎは１〜３の整数；Ａ¹は式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 本発明は、短時間でＰＥＢを行うことができ、それによりスループットの向上や、酸拡散距離を短くすることができることによる解像性の向上が達成できるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被加工基板上に波長６００〜２０００ｎｍの範囲の光を吸収する下層膜を形成し、該下層膜上にフォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を露光した後、波長６００〜２０００ｎｍの光を照射して加熱することでポストエクスポジュアーベーク（ＰＥＢ）を行い、その後現像によってパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電極間にステップによる電気的接合の欠陥がなく、分子配列の規則性が高く、電気的特性が向上した高分子結晶デバイスを提供する。
【解決手段】螺旋型ポリアセチレンからなる高分子結晶４０１と一対の電極４０３，４０４を備えたデバイスにおいて、前記一対の電極４０３，４０４の各々の電極の少なくとも一部を、前記螺旋型ポリアセチレンからなる高分子結晶の同一テラス４０２内に配置する。また、前記一対の電極４０３，４０４間を結ぶ任意の直線のうち、少なくとも一部を、螺旋型ポリアセチレンの螺旋軸に平行になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】転がり抵抗性能とウェット性能のバランスを向上する。
【解決手段】天然ゴム及び／又は合成イソプレンゴムからなるジエン系ゴムを変性してなるものであって、前記ジエン系ゴムの主鎖における二重結合部分の酸化により生成したエポキシ基と、前記ジエン系ゴムの主鎖に結合した式：−Ａ_ｎ−ＮＨＲ^１（Ａは炭素数１〜９の２価の基、ｎは０又は１、Ｒ^１は水素又はアルキル基）で表されるアミノ基含有基とを含有し、エポキシ基の含有量がイソプレンユニットに対して５〜２５モル％であり、アミノ基含有基の含有量がイソプレンユニットに対して０．５〜１０モル％であり、エポキシ基に対するアミノ基含有基の比率（アミノ基含有基／エポキシ基）がモル比で０．０５〜０．５である変性ジエン系ゴム。該変性ジエン系ゴムを含むゴム成分１００質量部に対してシリカを１０〜１２０質量部含有するゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】トナーの帯電量および帯電量の立ち上がりが温湿度環境の変化に影響されやすく、プリント時に画像濃度の変化が生じたり、特に高温高湿下において、帯電量分布の不均一性にともなう画像かぶりなどの不具合が生じる場合があった。
【解決手段】帯電成分と、着色剤を含有するトナー粒子を有するトナーが、下記式（１）で表される部分構造を側鎖として有する重合体を含有することを特徴とする。


（Ｒ¹は、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１以上１８以下のアルキル基、又は、炭素数１以上１８以下のアルコキシル基を示す。Ｒ²は、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１以上１８以下のアルキル基、又は、炭素数１以上１８以下のアルコキシル基を示す。ｍは０以上３以下の整数を示し、ｍが２または３の場合、Ｒ¹はそれぞれ独立して選択できる。ｎは１以上３以下の整数を示す。＊は、重合体における連結位置を表す。） （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、下水処理場における下水混合生汚泥や下水余剰汚泥、下水消化汚泥、各種余剰汚泥に対して良好な凝集とケーキ含水率低下能の高い汚泥脱水剤を開発することにより、種々の脱水機に対応でき、脱水ケーキ含水率低下の要求を満足し、同時に架橋あるいは分岐した水性高分子の難点とされる薬剤添加量の増加にも対応でき汚泥脱水剤を、ポリアミジン系水溶性高分子を用いず、市販品として汎用されている（メタ）アクリル系単量体を使用して開発する。
【解決手段】
下記（Ａ）と下記（Ｂ）を含有する凝集処理剤によって達成できる。
（Ａ）；特定のカチオン性単量体８０〜１００モルとその他の単量、および前記単量体混合物に対し２０〜３００ｐｐｍの架橋性単量体を添加して重合した水性高分子。
（Ｂ）；（Ａ）とは異なる特定のカチオン性単量体８０〜１００モルとその他の単量体を添加して重合した水性高分子。
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【課題】本発明の目的は、合成が容易であり、且つ、側鎖に安定ラジカルを有する重合体を効率的に得る製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の一は、所定の式（１）または（２）で表される（メタ）アクリル酸エステル（ａ）である。また、本発明の一は、前記（メタ）アクリル酸エステル（ａ）を含む単量体成分を重合して得られる重合体である。また、本発明の一は、前記重合体にエネルギーを与え、所定の式（３）で表される単量体（ａ’）構造単位を含む重合体を得る製造方法である。該製造方法により、合成が容易であり、且つ、側鎖に安定ラジカルを有する重合体を効率的に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】転がり抵抗性能とウェット性能を高度に両立することができ、また製造性に優れたシリカ含有ゴムマスターバッチを提供する。
【解決手段】エポキシ化率が１０〜３０モル％のエポキシ化天然ゴムのラテックスと、水中に湿式シリカが分散したシリカスラリーと、を混合してなる混合液を、凝固させずに噴霧乾燥することを特徴とするシリカ含有ゴムマスターバッチの製造方法である。前記シリカスラリーは、カチオン界面活性剤等の界面活性剤で処理されていることが好ましい。また、該製造方法により得られたシリカ含有ゴムマスターバッチを含むゴム組成物であり、該ゴム組成物は、前記シリカ含有ゴムマスターバッチを、エポキシ化天然ゴムの含有量がゴム成分１００質量部中１０〜１００質量部となるように配合してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物表面における「脈離」等の皺模様の発生を抑制できるラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のキャスティング成形用の光学材料用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物（Ａ）の１種又は２種以上と、硬化遅延剤としてのα−メチルスチレンダイマーを含有することを特徴とする。α−メチルスチレンダイマーの含有量は、例えば、前記ラジカル硬化性化合物（Ａ）の総量１００重量部に対して０．０５〜３．０重量部である。前記ラジカル硬化性化合物（Ａ）としては、分子内に芳香環又は脂環を有する（メタ）アクリル酸エステルであるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高解像性のレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、光塩基発生剤成分とを含有するレジスト組成物を用いて、支持体上にレジスト膜を形成する工程（１）と、前記レジスト膜を露光する工程（２）と、前記工程（２）の後にベークを行い、前記レジスト膜の露光部において、前記露光により前記光塩基発生剤成分から発生した塩基と、前記レジスト膜に予め供給された酸とを中和させ、前記レジスト膜の未露光部において、前記レジスト膜に予め供給された酸の作用により、前記基材成分のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させる工程（３）と、前記レジスト膜をアルカリ現像し、前記レジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程（４）とを含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】抗体や抗原等のリガンドが温度によって失活しない温度で長期保存しても溶解状態及び分散状態が損なわれない、ＵＣＳＴを示す温度応答性高分子の水溶液及び温度応答性粒子の水分散体を提供する。
【解決手段】含有水の状態で上限臨界溶液温度（ＵＣＳＴ）を示す温度応答性高分子の水溶液又は該高分子を含有する温度応答性粒子の水分散体にＵＣＳＴ降下剤を所定量含有させて前記水溶液又は水分散体のＵＣＳＴを保存温度以下にせしめて保存する。 （もっと読む）

【課題】従来の保湿剤に比べて高い保湿性能を有すると共に皮膚への使用感にも優れ、かつ容易に製造もできる保湿性重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の保湿性重合体は、中性アミノ酸と親水性アミノ酸とを含むアミノ酸単量体が多官能性重合体にグラフト重合した構造を有する。また、本発明の保湿性重合体の製造方法は、中性アミノ酸及び親水性アミノ酸を含むアミノ酸単量体と、多官能性重合体と、有機酸アンモニウム塩とを準備する。そして、前記有機酸アンモニウム塩の存在下、この有機酸アンモニウム塩の融解温度以上の温度で前記アミノ酸単量体を前記多官能性重合体にグラフト重合する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の芳香族多環化合物で、紫外域の吸収や蛍光が問題無く透明性に優れ、高圧水銀ランプ等を用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその重合性組成物の提供。
【解決手段】下式の化合物を塩基の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイルと反応させて得る、９，１０−２置換[（メタ）アクリロイルオキシ]−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン化合物及び該（メタ）アクリレート化合物の重合物。
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【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂；式（ａ４−８）で表される構造単位を有する樹脂；（Ｂ）酸発生剤；（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^３は、式（ｂ）で表されるスルホラン環基；Ａ^a41は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｒ^a42は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】メディア及び高圧逆相液体クロマトグラフィー（ＲＰＣ）における使用に好適な剛性ポリマーマトリックスを提供する選択された多孔度及び透過性特性を有する新規なマクロポーラスポリマーの提供。
【解決手段】（ａ）５０から１００重量％のポリビニル芳香族モノマー及び（ｂ）０から５０重量％のモノ不飽和ビニル芳香族モノマーのマクロポーラスポリマーであって、（ｉ）特定の全多孔度；（ｉｉ）特定のオペレイショナルなメソポロシティー；（ｉｉｉ）特定の平均粒子直径；（ｉｖ）特定の表面積；（ｖ）１０バール圧において７００から１，８００未満の流れ抵抗値及び６０バール圧において１，５００から７，０００未満の流れ抵抗値；及び（ｖｉ）ポリマーについて７５から１５０グラムインシュリン／リッターである総インシュリン容量及びポリマーについて６０から１５０グラムインシュリン／リッターである動的インシュリン容量を有する、ポリマー。 （もっと読む）