【課題】簡便かつ効率的な、金属不純物量が極めて少ない半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法及び該共重合体を製造するための重合開始剤の精製方法の提供。
【解決手段】本発明の重合体の製造に用いる重合開始剤の精製方法は、有機溶剤に溶解された重合開始剤の溶液を、公称孔径が１．０μｍ以下のフィルターに通液させて、重合開始剤溶液のナトリウム含有量を、重合開始剤の質量に対して、３００ｐｐｂ以下に低減させる、通液工程を含んでなるものである。さらに、本発明の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法は、上記の精製方法により精製された重合開始剤の存在下、ラジカル重合反応により、該半導体リソグラフィー用重合体を合成する、重合工程を含むものである。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｘ^１はアルカンジイル基；Ｘ^２は、酸素原子等を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩及びこの塩を含む酸発生剤とレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗは、式（Ｗ１）〜式（Ｗ５）から選ばれる式で表される基；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、且つ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−、ｍ１〜ｍ５は、それぞれ１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基。］ （もっと読む）

【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】イオン導電の利点を維持しつつ、吸湿による形状変化が抑制され、多様な環境下であっても安定して高品位な電子写真画像を得る電子写真用導電性部材、電子写真装置およびプロセスカートリッジの提供。
【解決手段】特定のアルキレンオキサイドオリゴマーをグラフト結合させた変性アクリロニトリルブタジエンゴム（変性ＮＢＲ）を含有する導電性弾性層を有する電子写真用導電性部材とすることで、高いイオン導電性を得ると共に吸水による形状変化を低減する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージンが良好であり、且つ欠陥が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】水白化耐性の有意な向上を伴う、ストーン塗料のようなコーティングのためのコポリマー分散物の提供。
【解決手段】コポリマーは（メタ）アクリラートＣ_６−Ｃ_２２アルキルエステルまたはバーサティックビニルエステルから選択される少なくとも１種の非イオン性モノマーを共重合単位として含み；前記非イオン性モノマーの量が１５％から５０％未満の範囲であり；並びに、前記ポリアミンの量が前記コポリマーの乾燥重量を基準にした乾燥重量パーセンテージで０．１〜２％の範囲である。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好なレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基；Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子；ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供。
【解決手段】特定式に示される１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物及び該（メタ）アクリレート化合物を重合してなる重合物である。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−；ｍ１〜ｍ５はそれぞれ１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^５は環状エーテル構造を含む基；Ｚ１^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】従来から知られる酸発生剤を含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのマスクエラーファクター（ＭＥＦ）が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−を表す。ｍ１〜ｍ５は、それぞれ独立に、１〜６の整数を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 離型性に優れ、さらには、低ソリ性、低反射率、優れた耐傷性を有する硬化性樹脂組成物、その硬化物、このような硬化性樹脂組成物の硬化物を有してなる微細凹凸構造物品、および反射防止板を提供する。
【解決手段】
下記式（１）：
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の整数である）で示される繰り返し単位を有するビニル系重合体を含有するナノインプリント用硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】
塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。
【解決手段】
（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光により酸を生成する化合物と、（Ｃ）熱架橋剤と、（Ｄ）所定の構造単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１１）〜（ａ０−１３）のいずれかの構成単位（ａ０−１）、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）及びアクリル酸エステルから誘導され、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する［式中、ＲはＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Ｘ^１は単結合又は２価の連結基であり、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３は環状の飽和炭化水素基である。ただしＷ^２はＯＨ基を有する。Ｒ^１はＯＨ基含有飽和炭化水素基であり、ｐは１〜３であり、Ｘ^２、Ｘ^３は２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はＨ、アルキル基、ＯＨ基又はＯＨ基を有するアルキル基である。］
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【課題】感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。また、下記Ｘが、炭素数２〜４のアルカンジイル基であり、下記Ｚが、Ｘに結合する炭素原子と共に炭素数５〜８の２価の単環の脂環式基を形成する基であるとよい。
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【課題】高解像性及び高密着性でかつエッチング耐性に優れるネガ型の感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性高分子２０〜９０質量％、（Ｂ）エチレン性不飽和付加重合性モノマー５〜７５質量％、及び（Ｃ）光重合開始剤０．０１〜３０質量％を含有する感光性樹脂組成物であって、該（Ａ）アルカリ可溶性高分子が、下記一般式（Ｉ）：


［式中、Ｒ₁は水素原子又はメチル基を表し、そしてＲ₂は炭素数が６〜２０のアルキル基を表す。］で表される単量体単位構造を含み、該（Ｂ）エチレン性不飽和付加重合性モノマーが、分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和基及び少なくとも１つのイソシアヌル環構造を有するイソシアヌル環含有不飽和化合物を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においても熱収縮が抑制され、かつ耐カール性を有する多層多孔膜を得ることのできる多層多孔膜用共重合体を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル酸エステル単量体と、不飽和カルボン酸単量体と、架橋性単量体と、これらの単量体と共重合可能なその他の単量体と、を含む単量体組成物を共重合して得られる共重合体を含む組成物であって、
前記単量体組成物中における不飽和カルボン酸単量体の割合が１．０質量％以上であり、前記架橋性単量体以外の単量体から計算される共重合体のＴｇが−２５℃以下である、多層多孔膜用共重合体組成物。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においても熱収縮が抑制され、かつ耐カール性を有する多層多孔膜を得ることのできる多層多孔膜用共重合体組成物を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル酸エステル単量体と、架橋性単量体と、これらの単量体と共重合可能なその他の単量体と、を含む単量体組成物を共重合して得られる共重合体を含む組成物であり、前記単量体組成物中における不飽和カルボン酸単量体の割合が１．０質量％未満であり、前記架橋性単量体以外の単量体から計算される共重合体のＴｇが−２５℃以下である、多層多孔膜用共重合体組成物と、無機粒子を含む多孔層形成用塗布液。 （もっと読む）