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Fターム[4J100CA03]の内容

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【課題】優れたCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に含まれる樹脂製造用化合物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。


[式(I)中、Tは、単結合、−CO−O−(CH−又は炭素数6〜14の芳香族炭化水素基を表す。nは1〜6の整数を表す。Rは、水素原子又はメチル基を表す。Rは、水素原子又は酸に不安定な基を表す。] (もっと読む)


【課題】加工性及び粘着性の両方に優れた粘着性ハイドロゲル、並びに、それを用いた粘着性ゲルシート及び電極パッドを提供する。
【解決手段】粘着性ハイドロゲルは、厚み0.75mmの粘着性ゲルシートに成形し裁断して2枚の25mm×40mmの試験体シートを作製し、該試験体シートをそれぞれ上側冶具1および下側冶具2の互いに対向する曲率半径R=7.5mmの円柱面1a及び2a上に各試験体シートの長さ方向の中心線が水平となるように固定し、2Nの荷重で30秒間試験体シート同士を押し付けた後、50μm/secの速度で上側冶具1を鉛直方向上向きに移動させることによって試験体シート同士を引き剥がしたときの剥離荷重を測定して剥離荷重の時間変化曲線を作成し、該剥離荷重の時間変化曲線と時間軸との間に挟まれた部分の面積値を加工性評価値として算出する加工性評価方法により得られた加工性評価値が、4.0〜20.0[N・sec]の範囲内である。 (もっと読む)


【課題】従来よりも低粘度の星型共重合体の合成が可能なリビングラジカル重合開始剤を提供する。
【解決手段】ハロゲン原子を末端に有する分岐鎖を1分子中に少なくとも3本有するリビングラジカル重合開始剤であって、前記ハロゲン原子のうち最も近接する2個のハロゲン原子間の結合中に少なくとも1個のベンゼン環を有し、かつ前記ハロゲン原子間において結合する原子の最小数が9〜30個であり、該9〜30個の原子のうちの前記ベンゼン環に結合する2つ原子が該ベンゼン環のメタ位又はパラ位において結合しているリビングラジカル重合開始剤である。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性、塗布性及び引き置き安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】構成単位(a0−1)と、酸分解性基を含む構成単位(a1)とを有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するる樹脂成分(A1)を含有する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、及び含窒素有機溶剤成分(S)を含有するレジスト組成物。
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【課題】高い信号強度の電気信号を発することができるセンサに好適な電気化学素子の提供。
【解決手段】芳香族ビニル化合物に由来する構造単位からなる重合体ブロック(A)及びオレフィン性不飽和化合物に由来する構造単位からなる重合体ブロック(B)を有し、かつ、前記重合体ブロック(A)が下記一般式(1)で表される官能基を有するブロック共重合体(Z)からなる高分子電解質層と、該高分子電解質層の両面にそれぞれ接合した2つの電極を備える電気化学素子。

(式中、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基を表す。) (もっと読む)


【課題】耐ブロッキング性、ヒートシール強度および落袋強度に優れ、かつ熱処理による包装袋表面のゆず肌の発生が軽減される積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層とシール層とで構成され、基材層は、プロピレン単位を主要な単位とする重合体成分50〜84重量%と、エチレン単位の含有量が20〜60重量%である共重合体成分50〜16重量%とからなるプロピレン系共重合体(重合体(I))60〜85重量%、およびエチレン単位と、炭素数4〜20のα−オレフィン単位とを有し、密度が910〜950kg/mである共重合体(重合体(II))40〜15重量%を含有し、シール層は、重合体(I)85〜95重量%、および重合体(II)15〜5重量%を含有し、基材層に含有される重合体(II)の重量割合がシール層に含有される重合体(II)の重量割合より多いことを特徴とする積層フィルム。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、形成されるレジストパターンの耐パターン倒れ性やドライエッチング時におけるレジストパターンに対する高いエッチング選択性を維持しつつ、高い屈折率及び吸光係数を有するレジスト下層膜を形成可能なレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法並びに重合体を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]電子求引性基が結合する芳香族構造を有する構造単位(I)と、ラクトン構造を有する構造単位、環状カーボネート構造を有する構造単位及び環状イミド構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位(II)とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。 (もっと読む)


【課題】合わせガラスを構成するのに用いられた場合に、得られた合わせガラスの遮音性を高めることができる合わせガラス用中間膜を提供する。
【解決手段】本発明に係る合わせガラス用中間膜2Aは、第1の層2のみの1層の構造を有する。第1の層2は、熱可塑性樹脂と、下記式(1)で表される第1の可塑剤とを含む。本発明では、第1の層2がジエステル化合物である第2の可塑剤をさらに含む。
【化1】
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【課題】良好な現像時間依存性を以って、超微細の孔径を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンの提供。
【解決手段】(P)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、(C)活性光線又は放射線の照射により塩基性が低下する、塩基性化合物又はアンモニウム塩化合物を含有する組成物であって、前記化合物(C)の前記化合物(B)に対するモル比率[C]/[B]が0.4以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。R、R及びRは、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 (もっと読む)


【課題】
パターン形成後にラフネスが発生したり、パターン自体をうまく描けないなどの欠陥を防止するために、樹脂中に光酸発生機能を組み込んだレジスト樹脂であって、「酸の作用によって現像液への溶解性が変化する部位」と「光酸発生機能を有する部位」が規則正しく配置されたレジスト樹脂を提供する。
【解決手段】
下記一般式(3)で表される繰り返し単位を有する含フッ素スルホン酸塩樹脂。
【化1】


(式中、Aはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。nは1〜10の整数を表す。Wは2価の連結基を表す。Rは酸不安定基を表す。M+は、1価のカチオンを表す。) (もっと読む)


【課題】低コストで良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法及びガスバリア層、並びにガスバリア性フィルム又はガスバリア層を用いた装置を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム10は、プラスチック基材1と、プラスチック基材1上に設けられた有機層2と、有機層2上に設けられた無機層3とを有し、その有機層2を、水酸基を構造内に含まないアルキレンオキサイド変性フルオレンアクリレートを架橋してなる層とする。 (もっと読む)


【課題】ネガ型パターンを形成できるレジストパターン形成方法、及びこれに用いることができ、保存安定性に優れたレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分と、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分と、酸供給成分と、フッ素原子及びケイ素原子から選ばれる少なくとも1種を含み、かつ、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含まない化合物(F)とを含有するレジスト組成物を、支持体上に塗布してレジスト膜を形成する工程(1)と、前記レジスト膜を露光する工程(2)と、前記工程(2)の後にベークを行う工程(3)と、前記レジスト膜をアルカリ現像し、前記レジスト膜の未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程(4)とを含むレジストパターン形成方法、及び前記工程(1)で用いる前記レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤現像によるネガ型パターン形成において、現像後のパターン倒れ及びブリッジ欠陥の発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂(P)、
特定の一般式(B−1)〜(B−3)のいずれかで表される化合物(B)、及び溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。
、R及びRは、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れ、ディフェクトを低減可能なレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつフッ素原子を含む構成単位(f1)を有する重合体;該重合体は主鎖の少なくとも一方の末端に式(I−1)で表される基を有することが好ましい;該重合体を含有するレジスト組成物;該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法
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【課題】着色パターンの表面にムラが出る表面欠陥が生じず、生産性に優れた、感光性着色樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるチオール化合物(A)、一般式(2a)で表されるエポキシ化合物(a)と、α,β−不飽和カルボン酸(b)との反応物と、多塩基酸及び/又はその無水物(c)とを反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(B)及び/又はアルカリ可溶性樹脂(B)を含むアルカリ可溶性樹脂(B)、光重合開始剤(C)、色材(D)、及び光重合性モノマー(E)を含有する感光性着色樹脂組成物。
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【解決手段】酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明の酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、即ち溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する効果が非常に高い特徴を有する。このレジスト膜を用いてドットパターン又は格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 得られる硬化物が帯電防止性、硬化物の透明性および高温高湿試験後の透明性に優れる活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 (メタ)アクリロイル基を含有する3級アミン塩(A1)と、(メタ)アクリロイル基を含有しない酸性化合物(a0)と(メタ)アクリロイル基を含有しないアミン(b2)から構成されるアミン塩(A2)、アミン塩骨格を含有せず(メタ)アクリロイル基を含有する化合物(B)、並びに光重合開始剤(C)を必須成分として含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を使用する。 (もっと読む)


【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】分子内に、ベンジルチオカルバメート基(−Ph−CH−SCSNR)を含有する高分子化合物(A)と、分子内に2個以上の不飽和二重結合を含有する不飽和二重結合化合物(B)とを含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 (もっと読む)


【課題】直線性に優れるパターンを形成することができる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂及び重合性化合物を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、炭素数2〜4の環状エーテル構造及びエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位と、式(x)


[式(x)中、Ra1は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。
a2は、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基を表す。]
で表される単量体に由来する構造単位とを有する共重合体を含む樹脂であり、式(x)で表される単量体に由来する構造単位の含有量が、該共重合体を構成する構造単位全量に対して、0.1モル%以上10モル%以下である硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得、その上に置換又は非置換のメチロール基と結合する窒素原子及び/又は芳香族基を有する架橋剤を含む溶液を塗布、ベークによってネガパターン表面で架橋することにより、ネガパターンのスペース部分の寸法を縮小させるパターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 (もっと読む)


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