【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、新規な化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有し、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基］。
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【課題】解像性に優れるレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつ酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含有するレジスト組成物。［式（Ｉ）中、環Ｈ^１は、置換基を有していてもよい炭素数３〜２０の芳香族複素環を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基を表す。］
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【課題】パルプや無機繊維などをバインダー樹脂の水性分散体とともに凝集させて、紙あるいは不織布、シート状物等を製造する抄紙技術において、硫酸や硫酸バンドの使用量が少ない場合にも、凝集性に優れるバインダー樹脂を提供する。
【解決手段】カルボン酸塩型アニオン系界面活性剤（Ａ）の存在下で、アクリル系単量体を含む単量体混合物を乳化重合する抄紙加工用アクリル系樹脂分散体を製造する方法、および前記抄紙加工用アクリル系樹脂分散体を用いた抄紙方法にある。 （もっと読む）

【課題】 重合反応中に発生する粗大凝集物の発生が極めて少なく、かつ、重合反応系外からの過大な加熱を必要とせず、省エネルギー性に優れた効率のよいゴムと繊維の接着剤用重合体ラテックスの提供。
の提供。
【解決手段】 脂肪族共役ジエン３０〜８０重量部、ビニルピリジン５〜３０重量部、およびそれらと共重合可能な他の単量体０〜６５重量部からなる重合性単量体合計１００重量部を乳化重合して得られる共重合体ラテックスであって、単量体の一部または全量を仕込み完了後、重合系内の温度Ｔ１が０〜４０℃の範囲で重合を開始した後、重合系内の温度Ｔ２を４５〜８０℃の範囲に到達させるに際し、その温度上昇（Ｔ２−Ｔ１）に必要な熱量の１５％以上を重合による重合熱を利用して昇温させることを特徴とする製造方法で得られたゴムと繊維の接着剤用共重合体ラテックス （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ジエン系重合体とシリカと軟化点−２０〜２０℃の液状レジンとを含み、前記ジエン系重合体が、下記（Ａ）と（Ｂ）を反応させて得られる変性されたジエン系重合体であり、ゴム成分１００質量部に対する前記液状レジンの含有量が３〜４０質量部であるタイヤ用ゴム組成物。（Ａ）：下記（Ｃ）の存在下に、共役ジエンモノマー又は共役ジエンモノマーと芳香族ビニルモノマーとを重合させることにより得られるアルカリ金属末端を有する活性共役ジエン系重合体。（Ｂ）：官能基を有する変性剤。（Ｃ）：下記式（１）で表される化合物と有機アルカリ金属化合物を反応させて得られる化学種。
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【課題】本発明の目的は、密集コンタクトホールパターン形成において、ホールブリッジの発生を抑制することができるブリッジ耐性に優れ、さらに解像性を十分満足するフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］単環のラクトン基を含む構造単位（Ｉ−１）及び酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有する重合体、［Ｂ］多環のラクトン基を含む構造単位（Ｉ−２）及び酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有する重合体、並びに［Ｃ］感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】 非ブリードアウト性、相溶性、耐水性及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合により、光劣化が抑制され、耐久性にも優れた塗料であり、特に、外観、耐光性、耐傷性等に優れた光硬化性塗膜の形成可能な積層フィルム用塗料を提供する。
【解決手段】
紫外線吸収型ポリマー（Ａ）とポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとからなるポリマー組成物であって、紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分（ｈ）とを重合させて得られる重合生成物であり、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンは、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く。）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及びポリイソシアネート（ｄ）と、アクリレート類（ｅ）を含む反応成分を反応させて得られる反応生成物であることを特徴とする塗料。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性をバランスよく改善できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分１００質量％中、特定の窒素含有化合物に由来する構成単位を主鎖中に有する変性スチレンブタジエンゴムを５質量％以上含み、前記ゴム成分１００質量部に対して、シリカを１０〜１５０質量部、軟化点−２０〜２０℃のレジンを３〜４０質量部含むタイヤ用ゴム組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ジエン系重合体とシリカとガラス転移温度−４０〜−１０℃の、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含み、前記ジエン系重合体が、下記（Ａ）と（Ｂ）を反応させて得られる変性されたジエン系重合体であり、前記ジエン系ゴムゲルの含有量がゴム成分１００質量部に対して１０〜３０質量部であるタイヤ用ゴム組成物。（Ａ）：下記（Ｃ）の存在下に、共役ジエンモノマー又は共役ジエンモノマーと芳香族ビニルモノマーとを重合させることにより得られるアルカリ金属末端を有する活性共役ジエン系重合体。（Ｂ）：官能基を有する変性剤。（Ｃ）：下記式（１）で表される化合物と有機アルカリ金属化合物を反応させて得られる化学種。
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【課題】ＥＵＶ用又はＥＢ用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ａ５−０−１）又は（ａ５−０−２）で表される基を含む構成単位（ａ５）を有する重合体（Ａ１）を含有し、該構成単位（ａ５）を誘導するモノマー量が、該重合体（Ａ１）に対して１００ｐｐｍ以下であるレジスト組成物。式中、Ｑ^１及びＱ^２は単結合又は２価の連結基である。Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は有機基であり、Ｒ^４とＲ^５とは相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。ただし、式中の基−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】良好なウェットグリップ性能を維持又は改善しつつ、耐摩耗性を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いたタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分、シリカ、ジエン系重合体と、水酸化アルミニウムを含み、前記ジエン系重合体が、下記（Ａ）と（Ｂ）を反応させて得られる変性されたジエン系重合体であり、前記ジエン系重合体の数平均分子量が１０００〜１０００００であり、ゴム成分１００質量部に対する前記ジエン系重合体の含有量が２〜２００質量部であるタイヤ用ゴム組成物。（Ａ）：下記（Ｃ）の存在下に、共役ジエンモノマー又は共役ジエンモノマーと芳香族ビニルモノマーとを重合させることにより得られるアルカリ金属末端を有する活性共役ジエン系重合体。（Ｂ）：官能基を有する変性剤。（Ｃ）：下記式（１）で表される化合物と有機アルカリ金属化合物を反応させて得られる化学種。
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【課題】減水性に優れ、凝結遅延がなく、さらにフレッシュコンクリートの粘性が低く練り混ぜが容易であり、施工性に優れたセメント分散剤を提供する。
【解決手段】下記単量体（ａ）、（ｂ）及び必要に応じ（ｃ）を反応して得られる共重合体もしくはその塩であって、単量体（ａ）乃至（ｃ）の共重合比が質量基準で（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝５０〜９５：５〜５０：０〜４０である共重合体もしくはその塩（Ａ）と、（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝０〜４５：５〜３０：３０〜９０である共重合体もしくはその塩（Ｂ）とを含有する水硬性組成物用混和剤。（ａ）下記一般式（１）：Ｒ^１Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ（１）で表される化合物１モルに対し、炭素数２〜４のアルキレンオキサイドを０〜１０モル付加し、さらに該付加物をα，β−不飽和カルボン酸と反応させて得られるエステル化合物、（ｂ）α，β−不飽和カルボン酸又はその塩、及び、（ｃ）その他の共重合可能な単量体。 （もっと読む）

【課題】良好な耐薬品性、機械強度及び柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性高分子：４０〜８０質量％、（Ｂ）光重合開始剤：０．１〜２０質量％、及び（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物：０．１〜５０質量％を含有する感光性樹脂組成物であって、該（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物として、分子内に少なくとも一つの炭素数が４以上のアルキレンオキサイド基と、少なくとも１つのウレタン結合を有する化合物：０．１〜３２質量％を含有することを特徴とする前記感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低圧縮永久歪性と、成形品表面の低摩擦性とを兼ね備えるフッ素ゴム成形品を与え得る架橋性フッ素ゴム組成物、それを架橋して得られる成形品、及び、上記成形品を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フッ素ゴム（Ａ）とフッ素樹脂（Ｂ）とを含む架橋性フッ素ゴム組成物であって、前記フッ素樹脂（Ｂ）は、テトラフルオロエチレン単位（ａ）及びヘキサフルオロプロピレン単位（ｂ）のみからなり、（ａ）／（ｂ）が、モル比で８０．０〜８７．３／１２．７〜２０．０である共重合体（Ｂ１）、又は、テトラフルオロエチレン単位（ａ）、ヘキサフルオロプロピレン単位（ｂ）、並びに、テトラフルオロエチレン及びヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体に基づく重合単位（ｃ）からなり、（ａ）／（ｂ）が、８０．０〜９０．０／１０．０〜２０．０であり、（ｃ）／｛（ａ）＋（ｂ）｝が、モル比で０．１〜１０．０／９０．０〜９９．９である共重合体（Ｂ２）であることを特徴とする架橋性フッ素ゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＥＦ、ＤＯＦ及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する（メタ）アクリレート単位（Ｉ）、単環の脂環式基を有する酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）及びラクトン基を含む構造単位（ＩＩＩ）を有する重合体、並びに［Ｂ］感放射線性酸発生体、を含有するフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】接着性能を満足し、かつ低誘電率で、耐加湿信頼性を有する粘着剤層を実現することができる粘着剤を提供すること。
【解決手段】炭素数１０〜１８のアルキル基をエステル末端に有するアルキル（メタ）アクリレートを３０〜９９．５重量％および環状窒素含有モノマーを０．５〜５０重量％を含むモノマー成分を重合することにより得られた（メタ）アクリル系ポリマーを含むことを特徴とする粘着剤。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジスト膜に対する高い屈折率と高い吸光係数とを有し、耐パターン倒れ性に優れるレジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位（Ｉ）と、ラクトン構造を有する構造単位及び環状カーボネート構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位（ＩＩ）とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。式（１）中、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜２の整数である。
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【課題】複雑な操作や時間のかかる処理によらず、効率的に、特に半導体発光装置用封止剤として有用な二官能のイソシアヌレート化合物の濃度を高めることができるイソシアヌレート化合物の精製方法、これを用いた半導体発光装置用封止剤の製造方法、半導体発光装置用封止剤、光半導体用封止材及び光半導体素子の提供を目的とする。
【手段】イソシアヌレート化合物を含有する半導体発光装置用封止剤の製造方法であって、
下記式（ＩＩ）で表される化合物と、下記式（Ｉ）で表される化合物と、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物とを含有する原料混合物に対し、少なくとも特定の抽出工程を経ることにより、前記式（ＩＩ）で表される化合物の混合比を高める処理を含む半導体発光装置用封止剤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、撥水性、耐溶出性及び溶解性についての特性を満たしつつ、剥がれ耐性及び露光余裕度をバランス良く両立することができる液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ１］下記式（ｉ）で表される基を含む構造単位（Ｉ−１）を有する重合体、［Ａ２］上記［Ａ１］重合体と異なる重合体、及び［Ｂ］溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物である。下記式（ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の（ｎ＋１）価の炭化水素基である。ｎは、１〜３の整数である。［Ａ２］重合体の成膜状態での水との後退接触角は、［Ａ１］重合体よりも大きいことが好ましい。
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【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


［式中、Ｑ^Ｉ１及びＱ^Ｉ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、ｎは、０又は１を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０又は１を表し、Ｘ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、ｎが０の時、Ｘ^１は単結合ではなく、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）