【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得、その上に置換又は非置換のメチロール基と結合する窒素原子及び／又は芳香族基を有する架橋剤を含む溶液を塗布、ベークによってネガパターン表面で架橋することにより、ネガパターンのスペース部分の寸法を縮小させるパターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物が帯電防止性、硬化物の透明性および高温高湿試験後の透明性に優れる活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 （メタ）アクリロイル基を含有する３級アミン塩（Ａ１）と、（メタ）アクリロイル基を含有しない酸性化合物（ａ０）と（メタ）アクリロイル基を含有しないアミン（ｂ２）から構成されるアミン塩（Ａ２）、アミン塩骨格を含有せず（メタ）アクリロイル基を含有する化合物（Ｂ）、並びに光重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】ラフネス特性およびパターン倒れの改善を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｃ）下記一般式（ＺＩ−３）、（ＺI−４）又は（ＺＩ−５）で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、樹脂（Ａ）が酸の作用により分解する基を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有し、該酸分解性の基が分解して脱離する基が環構造を有し、該環構造が極性基を置換基として有し、もしくは、該環構造が極性原子を環構造内に含み、且つ、前記脱離基が脱離して生成する化合物のｌｏｇＰ値が０以上２．８未満であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】繰り返してパターン形成しても、パターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および非重合性化合物（Ｃ）を含有するインプリント用硬化性組成物であって、該インプリント用硬化性組成物に対する前記非重合性化合物（Ｃ）の溶解が発熱的であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】湿潤状態で使用される軟質樹脂デバイスにおいて、当該軟質樹脂デバイスの使用に好ましい湿潤状態を使用者が容易に把握することができる軟質樹脂デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】軟質樹脂デバイス１０は、基材１１と、該基材１１の表面の少なくとも一部に形成された親水性ポリマーからなり、大気中において厚さが変化すると共に、該厚さに応じて、厚さ範囲が大きい方から順に完全湿潤状態、準湿潤状態、および、乾燥状態を取るコーティング層１２とを有し、上記準湿潤状態においてコーティング層１２に凹部１３が形成される。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂（Ｐ）及び活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を含む、パターン形成方法。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】焼結性が高く、シリコン半導体基板との密着性に優れる電極を形成することが可能な導電ペースト、及び、太陽電池の裏面アルミ電極を形成する際に好適に使用可能な太陽電池用導電性粒子分散ペーストを提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル樹脂と、導電微粒子と、有機溶剤とを含有する導電ペーストであって、前記（メタ）アクリル樹脂は、エステル置換基の炭素数が１〜６のアクリルモノマーとエステル置換基に水酸基又はポリエチレンオキサイドを有するアクリルモノマーとから得られるものであり、前記エステル置換基に水酸基又はポリエチレンオキサイドを有するアクリルモノマーの組成比が５重量％以上４０重量％未満であり、かつ、重量平均分子量が５０００〜４００００であり、前記（メタ）アクリル樹脂の含有量が、１〜１０重量％である導電ペースト。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性等の基本特性のみならず、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、より良好な断面形状のパターンを形成することができるフォトレジスト組成物、及びこの組成物を用いたネガ型のレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、（２）上記レジスト膜に露光する工程、及び（３）上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒含有現像液を用いて現像する工程を含むネガ型のレジストパターン形成方法であって、上記フォトレジスト組成物が、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有する。
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【課題】優れた耐スクラッチ性と高い屈折率とを両立できる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物を下記式（１）


（式中、Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂは非ラジカル重合性置換基、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはアルキレン基、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂは水素原子又はメチル基、Ｒ^４ａおよびＲ^４ｂは非ラジカル重合性置換基、ｋ１およびｋ２は、それぞれ０〜４の整数、ｍ１およびｍ２はそれぞれ０以上の整数、ｎ１およびｎ２はそれぞれ１〜４の整数、ｐ１およびｐ２はそれぞれ０〜４の整数を示す。ただし、ｎ１＋ｐ１≦５、ｎ２＋ｐ２≦５である。）
において、ｍ１＋ｍ２の平均値を、８．５〜１７に調整した多官能性（メタ）アクリレートとフェノキシベンジル（メタ）アクリレートとで構成する。 （もっと読む）

【課題】高感度な化学増幅型レジストとして有用な新規な酸分解性をもつ重合性単量体、これを用いて重合または共重合された重合体、およびそれを用いたレジストおよびそのパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性単量体、およびその重合体。


（式（１）中、Ｒ^２〜Ｒ^１４は、水素、炭化水素基。） （もっと読む）

【課題】吸水性ポリマー粒子の改良された製造方法の提供、特に方法の間に生じる水性ポリマーゲルの改良された乾燥を提供する
【解決手段】モノマー溶液を重合させ、得られたヒドロゲルを暖めたガス流を使用して乾燥することによる吸水性ポリマーの製造方法により解決され、前記方法は、乾燥を少なくとも２個の温度帯域中で実施し、該温度帯域のガス導入温度は、Ｔ_ｎがＴ_ｎ＋ａに等しくない条件を満たし、指数ｎおよびａはそれぞれ０より大きい整数であり、および／またはガス流をヒドロゲルに対してベルト乾燥機の前方部分で下からおよび該乾燥機の後方部分で上から流し、ヒドロゲルの含水量１５〜４５質量％で流れの逆転を行う、および／またはヒドロゲル層に対して該乾燥機中で少なくとも部分的に下から流し、ガス速度が、ベルトからヒドロゲルが離れるために必要なガス速度の５〜３０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来の紫外線吸収剤を用いた場合に比して、耐光性、非ブリードアウト性、相溶性、耐水性、及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合で、光劣化が抑制されるとともに、耐久性の向上した塗料を提供する。
【解決手段】
紫外線吸収型ポリマー（Ａ）と、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとを含むポリマー組成物を含有してなる塗料が提供される。紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分（ｈ）とを含む重合成分を重合させて得られる重合生成物であり、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンとしては、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く。）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及び／又はポリアミン（ｄ）と、ポリイソシアネート（ｅ）と、を含む反応成分を反応させて得られる反応生成物の水分散体が用いられる。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、スカムの低減、及び、現像欠陥の低減を同時に満足したパターンを形成できるネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスクを提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（ａ）、及び、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位（ｂ）を有する高分子化合物、並びに、（Ｂ）架橋剤を含有する、ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低温での離型性に優れ、フィルミングの発生が少なく、低温定着性と耐熱保存性とを両立し、長期使用においても高画質が得られる、小粒径かつ粒度分布の狭いトナー。
【解決手段】少なくともポリエステル樹脂とスチレン／アクリル樹脂とアクリル樹脂とを含むトナー粒子のトナーであって、前記樹脂のフローテスターにおけるダイ穴径およびダイ長さが１．０ｍｍ、せん断応力が７．３５５×１０^５Ｐａ、昇温速度が３．０℃／ｍｉｎでのＴ１／２法温度が下記式（１）乃至（３）を満たし、且つ、該トナー粒子は前記ポリエステル樹脂粒子の外側に前記スチレン／アクリル樹脂微粒子から成る層Ａと、前記アクリル樹脂微粒子から成る層Ｂを含み、前記樹脂微粒子層Ａが層Ｂの外側にあるトナー。７０℃≦ポリエステル樹脂≦１００℃・・・（１）１２０℃≦スチレン／アクリル樹脂≦２００℃・・・（２）１２０℃≦アクリル樹脂≦１５０℃・・・（３） （もっと読む）

【課題】弱溶剤に溶解させた場合において顔料分散性、色調安定性や色調経時安定性にも優れた調色塗料又は原色塗料を調製できる顔料分散用樹脂及びこれを用いた顔料分散体、並びに、この顔料分散体を用いて得られる調色塗料及び原色塗料を提供すること。
【解決手段】（変性）アクリル樹脂及び弱溶剤を含む顔料分散用樹脂溶液であって、（変性）アクリル樹脂は、数平均分子量２，０００〜１４，０００、酸価及びアミン価の少なくとも一方が０．１〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ水酸基価０〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、（変性）アクリル樹脂分に対して特定の重合性不飽和モノマー１０〜３５質量％及びホモポリマーのＳＰ値が９．２以下となる（メタ）アクリル酸エステル系モノマー１５質量％以上９０質量％未満を含有する顔料分散用樹脂溶液、この顔料分散用樹脂溶液及び顔料を含有する顔料分散体並びに前記顔料分散体を含有する調色塗料又は原色塗料。 （もっと読む）

【課題】体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高く、電気的安定性の高い層間絶縁膜を形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）で表される構成単位と、式（ａ２）で表される構成単位と、式（ａ３）で表される構成単位及び／又は式（ａ４）で表される構成単位とを有する共重合体、（成分Ｂ）発生酸のｐＫａが４以下である光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】ＫｒＦ光、電子線及びＥＵＶ光を用い、高解像かつ高エッチング耐性を有し、更に現像残渣欠陥が低減されたネガ型のパターンを形成可能なパターン形成方法、その方法に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位を含有し、且つ、芳香族基を含有する、酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する非イオン性化合物、及び、（Ｃ）溶剤を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像することによりネガ型パターンを形成する工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】環境依存性の少ない現像剤担持体及び現像装置の提供。
【解決手段】基体及び樹脂層を有し、該樹脂層はアクリル樹脂を含有しており、該アクリル樹脂は下記式（１）で示されるユニット（１）及び下記式（２）で示されるユニット（２）を有している現像剤担持体。式（１）中、Ｒ_１は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ_２は、炭素数１以上４以下のアルキレン基を示す。「＊」は、式（２）中の「＊＊」との結合部を示す。式（２）中、Ｒ_３は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ_４は、炭素数１以上４以下のアルキレン基を示し、Ｒ_５、Ｒ_６及びＲ_７は、炭素数１以上１８以下のアルキル基を示し、Ａ⁻は、アニオンを示す。
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び露光ラチチュードに優れ、パターンサイズの現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位（ａ１）を樹脂（Ｐ）中の全繰り返し単位に対して２０モル％以上有する樹脂（Ｐ）、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）膜を露光する工程、及び（ウ）露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を有するパターン形成方法。
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【課題】高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性および露光後加熱温度依存性（ＰＥＢＳ：Post Exposure Bake Sensitivity）を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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