【課題】適当な異常分散性を有するとともに、加工が容易である光学用の材料組成物および光学素子を提供する。
【解決手段】酸化スズの微粒子と、１分子中に芳香環、縮合多環、カルバゾール環、フルオレン環から選ばれる官能基の少なくとも１つと１個以上の重合性官能基の両方を有する有機化合物と、重合開始剤とを含む材料組成物の硬化物において、アッベ数νｄ、Ｆ線とｇ線の異常分散度ΔθｇＦとしたとき、１０≦νｄ≦４０かつ０．０１０≦ΔθｇＦ≦０．０７５である材料組成物およびその硬化物を用いた光学素子。 （もっと読む）

【課題】電子線やＥＵＶを露光源とする光リソグラフィー技術により、優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンの製造できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物に含有される新規な化合物を提供すること。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。
〔１〕式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、
Ｘは、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基などを表すが、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して脂肪族炭化水素基を形成していると好ましい。］
〔２〕前記化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の１つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストの解像性及び金属めっき耐性が良好であり、かつレジスト剥離性の良好な光重合性樹脂組成物、光重合性樹脂積層体、レジストパターンの形成方法、並びに回路基板、リードフレーム及び半導体パッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（Ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、及び（Ｃ）光重合開始剤：０．０１〜２０質量％を含有する光重合性樹脂組成物であって、該（Ａ）バインダー用樹脂が特定構造の化合物を含むモノマー成分の重合生成物である、光重合性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規な重合体、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有し、該構成単位（ａ１）として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが３．０ｋＪ／ｍｏｌ以上異なる２種を含む重合体。該重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】溶媒の冷却や溶解時の加熱を必要とせず、乾燥時間と溶解時間の合計の工程通過時間を短縮できるようにした、リソグラフィー用重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、前記重合反応溶液を重合体に対する貧溶媒と混合し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程と、前記析出物を固形分含有量が６５〜９０質量％の範囲内となるように乾燥させて、微乾燥粉末を得る微乾燥工程と、前記微乾燥粉末を、重合体に対する良溶媒に溶解させる溶解工程とを有し、前記溶解工程において、前記微乾燥粉末の温度が０〜４５℃であり、前記良溶媒の温度が０〜４０℃である、リソグラフィー用重合体溶液を製造する。 （もっと読む）

【課題】
汎用プラスチックと比較して非常に高い熱伝導率を有しながら、押出成形性やブロー成形性にも優れた熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
熱可塑性ポリエステル系樹脂、単体での熱伝導率が５Ｗ／ｍ・Ｋ以上を示す高熱伝導性無機化合物、メタクリル酸メチル３０〜１００重量％、メタクリル酸メチルを除く（メタ）アクリル酸エステルの単量体０〜７０重量％、およびこれらと共重合可能なビニル系単量体０〜２０重量％を共重合して得られる、１００ｃｃのトルエンに０．４ｇを溶解して３０℃で測定した比粘度が０．５〜７である共重合体（Ｃ）、よりなることを特徴とする、高熱伝導性熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）ヘキサフルオロプロピル酸エステル基を側鎖に有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として、ラクトン環由来の骨格及び／又は水酸基を有する骨格及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
【効果】レジスト保護膜を使うことなく高速スキャンに耐えうる高撥水性かつ高滑水性のレジスト膜を実現し得る。更には、アルカリ現像液による上記ポリマーの加水分解により現像後のレジスト膜表面を親水性に改質し、その結果、ブロッブ欠陥が大幅に抑制できる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、
Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。
Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｌは、０〜３の整数を表す。ｍは、０〜３の整数を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐湿性、耐傷性、機械的な強度、偏光膜との密着性、及び、光学等方性に優れる偏光膜保護フィルム、並びに、それを備える偏光板を提供する。
【解決手段】メタクリル酸単量体及びメタクリル酸エステル単量体から形成される第一の構造単位５０〜９５質量％と、Ｎ−置換基がアリール基もしくはアリールアルキル基からなるＮ−置換マレイミド化合物から形成される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、Ｎ−置換基がアルキル基もしくはシクロアルキル基からなるＮ−置換マレイミド化合物から形成される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％とを有するアクリル系熱可塑性樹脂から形成される光学等方性偏光膜保護フィルム。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】高温高湿の環境に置いた場合でも、基板との密着性に優れる塗膜を製造可能な硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む硬化性樹脂組成物。（Ａ）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位と、オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位とを含む共重合体；（Ｂ）グリシジルエーテル型エポキシ樹脂及びグリシジルエステル型エポキシ樹脂からなる郡から選ばれる少なくとも１種；（Ｃ）多価カルボン酸無水物及び多価カルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】新規な光反応性液晶配向剤、及び該光反応性液晶配向剤から形成される光配向層を有する液晶表示素子を提供する。
【解決手段】式(１−１)


で表されるポリマーを含む光反応性液晶配向剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）が良好なレジスト組成物に好適な塩およびレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−ＣＯ−（Ｌ^ａは、２価の炭素数１〜１２の飽和炭化水素基を表す。）又は＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ｂ−Ｏ−ＣＯ−（Ｌ^ｂは、２価の炭素数１〜１２の飽和炭化水素基を表す。）を表す。Ｘ^１は、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−を表す。Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｌは、０〜３の整数を表す。ｍは、１〜３の整数を表す。ｎは、１又は２を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］、および、当該塩とアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】改善された機械的特性を有する熱可塑性加硫物を提供。
【解決手段】熱可塑性加硫物は、少なくとも１つの加硫性エラストマー、少なくとも１つのエチレン／α−オレフィン共重合体および少なくとも１つの熱可塑性ポリマー、例えばポリオレフィンを含み、架橋剤で加硫された組成物である。エチレン／α−オレフィン共重合体は、少なくとも１つのハードブロックおよび少なくとも１つのソフトブロックを有するブロックコポリマーである。ソフトブロックはハードブロックより多量のコモノマーを含む。ブロック共重合体は、加硫性エラストマーと熱可塑性ポリマーの間の相溶化剤として使用されるか、それがＥＰＤＭ型である場合には加硫性エラストマーとして使用される。本熱可塑性加硫物は異形材およびガスケットを作製するために異形押出することができる。 （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｒ¹は、メチル基等を表す。Ｘ^１は、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Ａ^１は、単結合又は結合置換基を表し、Ｘ^２は、単結合または酸素等を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜３６の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素を溶媒とし、少なくとも１種の単量体成分を含有する溶液に、重合開始剤成分として下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）の順に添加して、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹はケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有していてもよい炭素原子数３〜２０のヒドロカルビレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】ナノエッジラフネスを低減することができ、かつ焦点深度に優れるフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される化合物、及び［Ｂ］下記式（２−１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物である。
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