【課題】実質的にジエンが存在しない、コポリマー鎖間のタクチシティー及びコモノマーのマーカーの均一な分布をし、さらに、タクチシティーの統計的に、わずかの分子内差しか示さない、メタロセン触媒の存在下で製造されるエチレンプロピレンのコポリマーの提供。
【解決手段】ａ）立体特異的ポリプロピレン重合触媒錯体を用いて、溶液法において６０℃以上の反応温度でプロピレン及びエチレンコモノマーを重合する工程並びに、ｂ）７５重量％以上プロピレン単位、及び５乃至２５重量％エチレン単位を有するプロピレンコポリマーを回収する工程であって、前記コポリマーが、３５℃より高く、１１０℃より低い融点及びＭｗ＞６．１０＊Ｐ＊ｅ(３３７０／Ｔ)(式中、Ｍｗ＝重量平均分子量、Ｔ＝ケルビン度での重合反応温度、Ｐ＝リットル当りモルでの、重合反応域における定常状態プロピレン濃度)の重量平均分子量を有する、工程を含む方法。 （もっと読む）

【課題】弱溶剤に溶解させた場合において顔料分散性、色調安定性や色調経時安定性にも優れた調色塗料又は原色塗料を調製できる顔料分散用樹脂及びこれを用いた顔料分散体、並びに、この顔料分散体を用いて得られる調色塗料及び原色塗料を提供すること。
【解決手段】（変性）アクリル樹脂及び弱溶剤を含む顔料分散用樹脂溶液であって、（変性）アクリル樹脂は、数平均分子量２，０００〜１４，０００、酸価及びアミン価の少なくとも一方が０．１〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ水酸基価０〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、（変性）アクリル樹脂分に対して特定の重合性不飽和モノマー１０〜３５質量％及びホモポリマーのＳＰ値が９．２以下となる（メタ）アクリル酸エステル系モノマー１５質量％以上９０質量％未満を含有する顔料分散用樹脂溶液、この顔料分散用樹脂溶液及び顔料を含有する顔料分散体並びに前記顔料分散体を含有する調色塗料又は原色塗料。 （もっと読む）

【課題】伸長回復率、伸長回復力に優れ、かつ引裂強度と衝撃強度に優れる多層フィルムを提供する。
【解決手段】要件（ａ１）と（ａ２）と（ａ３）を充足するエチレン系樹脂（Ａ）５０〜１００重量％、
および要件（ｂ１）と（ｂ２）を充足し、エチレン系樹脂（Ａ）と異なるエチレン系樹脂（Ｂ）０〜５０重量％
を含有する芯層と、
要件（ｃ１）と（ｃ２）と（ｃ３）を充足するエチレン−α−オレフィン共重合体（Ｃ）を含有する二つの表面層とを有するチューブ状エチレン系樹脂多層フィルム。
（ａ１）：Ｎ_C5が炭素原子１０００個あたり０．１未満
（ａ２）：Ｅａが４０ｋＪ／ｍｏｌ以上
（ａ３）：密度が９００〜９２１ｋｇ／ｍ^３
（ｂ１）：ビカット軟化点が１００℃以下
（ｂ２）：ＭＦＲが０．１〜７ｇ／１０分
（ｃ１）：Ｅａが４０ｋＪ／ｍｏｌ未満
（ｃ２）：ＭＦＲが０．１〜２ｇ／１０分
（ｃ３）：密度が９００〜９２５ｋｇ／ｍ^３ （もっと読む）

【課題】体積抵抗率及び絶縁破壊電圧が高く、電気的安定性の高い層間絶縁膜を形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）で表される構成単位と、式（ａ２）で表される構成単位と、式（ａ３）で表される構成単位及び／又は式（ａ４）で表される構成単位とを有する共重合体、（成分Ｂ）発生酸のｐＫａが４以下である光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】直線性に優れる着色パターンを形成可能な着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造及びエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位と、式（ｘ）で表される単量体に由来する構造単位とを有する共重合体を含む樹脂であり、式（ｘ）で表される単量体に由来する構造単位の含有量が、該共重合体を構成する構造単位全量に対して、０．１モル％以上１０モル％以下である着色感光性樹脂組成物。［式（ｘ）中、Ｒ^ａ１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^ａ２は、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基を表す。］
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【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Ｘ^１は、単結合又は−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。環Ｗは、炭素数３〜３６の脂肪族環を表し、該脂肪族環を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよく、該脂肪族環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基等に置き換わっていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ディフェクトの発生を低減することができ、且つ保存安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、末端にフッ素化アルキルエステル基を有するフッ素含有有機基を側鎖に有する化合物成分（Ｆ）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】低い軟化温度、硬さ、弾力性、低い遊走度（migration）およびブルーミング、ならびに耐変色性を有するホットメルト接着剤を提供する。
【解決手段】プロピレン、ならびにエチレンおよびＣ_４−２０α−オレフィンからなる群より選択される少なくとも一つのコモノマーのコポリマーを含み、前述のコポリマーは、（ｉ）約５０モルパーセントより大きな含有量のプロピレンから誘導された構造単位（units）、（ｉｉ）１９０Ｃにおいて約５０ｃＰから約１００，０００ｃＰまでのブルックフィールド粘度、および（ｉｉｉ）約１．５から約１５までのＭＷＤを有し、また、（ｉｖ）約５０ｐｐｍ未満の残留触媒金属を含むホットメルト接着剤。 （もっと読む）

【課題】高ビニルエステル基率と高ビニルアセタール基率を両立し、かつ、アルデヒドや触媒が残存しないポリビニルアセタール樹脂、及び、該ポリビニルアセタール樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ビニルアセタール基率が２０モル％以上、ビニルエステル基率が３０モル％以上であり、アルデヒド残渣が５０ｐｐｍ以下、かつ、触媒残渣が全くないポリビニルアセタール樹脂。 （もっと読む）

【課題】高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ラフネス特性および露光後加熱温度依存性（ＰＥＢＳ：Post Exposure Bake Sensitivity）を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】らせん状構造の置換ポリアセチレン誘導体も得ることができ、特に置換アセチレンの重合開始剤として有用な新規な三座配位子ロジウム錯体を提供する
【解決手段】下記一般式（１）で表わされることを特徴とする三座配位子ロジウム錯体。


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜５の直鎖状又は分岐状のアルキル基、及びアリール基を示す。Ｒ^２及びＲ^３は炭素数１〜５の直鎖状又は分岐状のアルキル基、及びアリール基を示し、但し、Ｒ^２とＲ^３で同一の基となることはない。Ｚは炭素数３〜６のアルキレン基を示す。ＸはＮＨ又はＯを示す。＊は不斉炭素原子を示す。） （もっと読む）

【課題】高感度であり、保存安定性及び硬化膜の透明性に優れ、現像寛容度が広い感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるオキシムスルホネート化合物、酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位を有する樹脂、及び、溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ａｒ¹はｏ−アリーレン基又はｏ−ヘテロアリーレン基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表す。２以上存在するＲ²のうち、少なくとも１つはアルキル基、アリール基又はハロゲン原子である。
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【課題】ポリマーゲル化剤、水及び必要に応じ他の溶媒を含む新規ゲル化剤、並びに新規ヒドロゲルを調製する方法を提供する。
【解決手段】水素結合単位が共有結合している親水性ポリマーを含む水ゲル化剤を用いた新規ヒドロゲル材料であって、前記ヒドロゲルは、付加的な原材料又は添加物を含有していてもよい。これら新規可逆性ヒドロゲルは、その機械的性能及び機能性を容易に微調整することが可能であることから、化粧品への応用及び生物医学的応用に特に適している。 （もっと読む）

【課題】極性および無極性基質の両方にしっかりと結合し、より好ましくは特定のセット時間で種々の温度条件下、攻撃的生成物の存在下で、すぐれた接着強度持続性を有するポリマー組成物を提供。
【解決手段】１種類以上のＣ３ないしＣ４０オレフィンを少なくとも５０ｍｏｌ％含む官能化オレフィンポリマーを含んでなる組成物に関するものであり、オレフィンポリマーは官能化前にはa）１０，０００ないし１００，０００のＭｗ；およびb）ポリマーが１０，０００ないし６０，０００のＭｗを有する場合はポリマーのＭｚで測定した際の枝分かれ指数（ｇ’）０．９８以下、またはポリマーが１０，０００ないし１００，０００のＭｗを有する場合はポリマーのＭｚで測定した際の枝分かれ指数（ｇ’）０．９５以下を有し；Ｃ３ないしＣ４０オレフィンポリマーは少なくとも０．００１重量％の官能基、好ましくは無水マレイン酸を含むものである。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、レジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｘ^１は、単結合又は−ＮＲ^１−を表す。Ｘ^２は、脂肪族炭化水素基を表す。Ｗは、脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、カルボニル基等で置き換わっていてもよく、脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、アルキル基等に置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は、塩基解離性基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、式（ａ−ｇ１）


（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。Ａ^１０及びＡ^１１は、それぞれ独立に脂肪族炭化水素基を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。ｍ１は１又は２を表し、ｍ２は０又は１を表す。但し、ｍ１＋ｍ２＝２の関係を満たす。Ａ⁻は、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオンから選ばれる有機アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能をバランス良く向上できるゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤの各部材（特に、トレッド）に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、スチレン及びアルコキシ置換スチレンを共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体を含むゴム成分と、シリカと、ガラス転移温度−４０〜−１０℃の、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含み、前記ジエン系ゴムゲルの含有量が前記ゴム成分１００質量部に対して、１０〜３０質量部であるゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、耐摩耗性及び破壊強度が高い変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を使用して測定された分子量分布が１．２〜３．５の範囲である多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系重合体を得る工程と、
前記共役ジエン系重合体の重合活性末端に、
（Ｉ）シリル基に結合したアルコキシ基の総数が４個以上であり、１つ以上の窒素原子を有する変性剤（Ａ）を反応させる工程と、
（ＩＩ）シリル基に結合したアルコキシ基の総数が２又は３個であり、１つ以上の窒素原子を有する変性剤（Ｂ）を反応させる工程と、
を有する、
変性共役ジエン系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体等の製造用の高活性触媒成分およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表される金属錯体、およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法。


［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ^３は、炭素数１〜２０の炭化水素基等を表す。Ｌ^１は、Ｍに配位したリガンドを表す。Ｘ^１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ^１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０の炭化水素基等を表し、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２、Ｒ^１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜３０の炭化水素基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、未露光部における残渣の低減を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、現像液、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、ナノインプリント用モールド、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、酸の作用により前記高分子化合物を架橋する、２個以上のベンゼン環と４個以上のアルコキシメチル基とを有するフェノール性化合物、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、露光後に、炭素数７又は８のエステル系溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順番で有する、レジストパターン形成方法。
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