【課題】イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れる、レジスト組成物、及びこれらレジスト組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】（ａ１）酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、（ａ２）ラクトン単位を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、並びに（ａ４）多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、かつ（ａ０）（ａ０−１）ジカルボン酸の無水物含有構成単位及び（ａ０−２）フェノール性水酸基含有構成単位を有さない、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を溶解する有機溶剤（Ｃ）と、含窒素有機化合物（Ｄ）とを含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性の酸発生剤（Ｂ）と、酸拡散抑制剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含有し、前記樹脂（Ａ）が、側鎖に環状炭酸エステル構造を有する繰り返し単位（ａ−１）を有する重合体であり、前記酸拡散抑制剤（Ｃ）が、特定構造の窒素含有化合物である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い重合転化率と高分子量化を達成すると共に、安定した分子量を得ることができるビニル芳香族系重合体の製造方法、及びポリスチレンの製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式で表される、共役二重結合含有パーオキシケタールを重合開始剤を用い、得られるビニル芳香族系重合体の質量平均分子量が４０万以上であり、かつ重合転化率が７０％から９０％に達するまでの間において、ビニル芳香族系重合体の質量平均分子量変化率が３．０％以下であることを特徴とする。


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下記（１）〜（３）を含む組成−勾配コポリマー：
（１）少なくとも一種の第１モノマーＭ₁の重合で得られる反復単位であって、その対応するホモポリマーはガラス遷移温度Ｔｇ₁が２０℃以下で、コポリマーの全重量に対して１５〜４０重量％である反復単位、
（２）少なくとも一種の第２モノマーＭ₂の重合で得られる反復単位であって、その対応するホモポリマーはガラス遷移温度Ｔｇ₂が２０℃以上で、コポリマーの全重量に対して４５〜６５重量％である反復単位、
（３）少なくとも一種の第３モノマーＭ₃の重合で得られる親水性反復単位であって、コポリマーの全重量に対して１０〜２５重量％である反復単位。 （もっと読む）

【課題】各種の基板表面に防汚性、水などの速乾性、耐摩耗性に優れ、且つ柔軟性な表面を有する親水性部材を提供する。
【解決手段】基板上に
（Ａ）特定構造を含む親水性ポリマー及び（Ｂ）特定構造を含む親水性ポリマーの少なくとも一つを含有する親水性組成物から形成される上塗り層と、
（Ｃ）一般式（ＩＩＩ）Ｍ（ＯＲ¹⁴）₄で表されるアルコキシド(ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒから選択される元素を表す。)及び
（Ｄ）一般式（ＩＶ）Ｓｉ（ＯＲ¹⁵）_aＲ¹⁶_4-aで表されるアルコキシシラン（Ｒ¹⁴〜Ｒ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基を表す。ａは２又は３である）を含有する下塗り層用組成物から形成される下塗り層とを有することを特徴とする親水性部材。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、ドライエッチング耐性等のレジストとしての基本物性に優れ、且つ、解像度、焦点余裕度、パターン形状に優れる。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤と、溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物において、上記樹脂は、特定構造の酸解離性基を有する繰り返し単位を含む共重合体を含有し、酸解離性基を有する繰り返し単位は、共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、５５モル％を超えて含有し、共重合体は、樹脂全体に対して、９０質量％以上含有する。 （もっと読む）

【課題】
医療分野や化粧品、食品、塗料などの分野に応用可能な高い重合反応性を示す両親媒性高分子材料を提供すること。
【解決手段】
一分子内に疎水性基と親水性基を有する新規な両親媒性イタコン酸エステル、及びその単独重合体によって、上記課題は解決される。又、本発明の両親媒性イタコン酸エステルの単独重合体は、室温ではゴム状態の非晶質ポリマーであり、比較的高い熱安定性を示す。 （もっと読む）

フルオロエラストマーの製造方法において、５００，０００以上の粘度平均分子量を有するポリエチレンオキシドホモポリマーまたはコポリマーの水性溶液である水溶性ポリマー凝固剤が用いられる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化性に優れ、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性を保ちながら、１．５〜１．９の屈折率をもつ帯電防止用硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有するアミノ基含有光硬化性化合物とを含有することを特徴とする帯電防止用硬化性組成物、該硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜、およびその積層体。 （もっと読む）

【課題】高集積化、高速度化が進むＬＳＩを生産する際、極めて微細なパターンルールを加工する技術として、簡便で工程管理に有用なダブルパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に第１ポジ型レジスト材料を塗布し、高エネルギー線をパターン照射し、アルカリ現像して第１ポジ型パターンを得る工程、得られたポジ型パターンを第２レジスト材料の溶剤に対して不溶化並びに第２レジスト材料をパターニングする際の不溶化させる工程として高温加熱及び／又は高エネルギー線の照射工程を含み、次いで、第２レジスト材料を第１レジストパターン上に塗布し、高エネルギー線をパターン照射、現像して、第２レジストパターンを得る工程を含むダブルパターン形成方法で、該第１レジスト材料含有の樹脂が式（１）の繰り返し単位を有するダブルパターン形成方法。
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【課題】種々素材に対して良好なヌレ性、相溶性、接着性を有し、ラジカル共重合によりさらに高分子量化が可能であり、ラジカル重合反応を利用して相溶化ポリマー、バインダー、接着剤、塗料、センサーなどに有用な機能性ポリマーを製造できるアクリルプレポリマーと、その製造方法を提供する。
【解決手段】ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレートを含む特定のラジカル重合性アクリルプレポリマーと、α−メチルスチレンダイマー１．０モルに対し、０．０２〜１．００モルの重合開始剤を使用するラジカル重合性アクリルプレポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｙは水素原子又は水酸基を示し、少なくとも１個のＹは水酸基である。波線は結合の向きが不特定であることを示す。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】接触角及び後退角に優れ、水接触時の、水へのレジスト組成物の溶出量が少ないレジスト膜を形成することができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性に変化する樹脂（Ａ）、式（I）で表される構造単位及びフッ素含有構造単位を含有する樹脂（Ｂ）、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。


（式（Ｉ）中、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｘ_３及びＸ_４は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。ｍは、１〜３の整数を表す。ｎは、０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、製造適性、耐久性、基板との密着性に優れた微細な構造パターンを有する高分子膜、この高分子膜を有する積層体、および高分子膜および積層体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ラジカル重合性基を有する高分子を少なくとも１種含む、２種以上の高分子を、露光によりラジカルを発生しうる基板表面上に接触させて、前記基板表面上に相分離構造を有する高分子膜を形成する膜形成工程と、
前記膜形成工程で形成された前記高分子膜を露光し、前記高分子膜を前記基板に固定化する固定化工程と、
前記固定化工程で得られた高分子膜を溶媒で洗浄する洗浄工程と、を含む方法により得られる、前記基板表面と直接結合した高分子膜。 （もっと読む）

【課題】本発明は、極性官能基を含む高分子量環状オレフィン重合体を高収率で製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】極性官能基を含む環状オレフィン重合体の製造方法が開示される。本発明の製造方法は、触媒混合物の製造工程を含み、この触媒混合物にはｉ）金属と結合した酸素イオンを含有する配位子を有する１０族遷移金属を含有する前置触媒；ii）１５族元素を含有する有機化合物からなる第１共触媒；およびiii）前記前置触媒の金属に弱く配位すると共に陰イオン供与能力がある第２共触媒；が含まれ、また、単量体溶液の付加重合反応工程を含み、この単量体溶液には極性官能基含有ノルボルネン系化合物が含まれ、有機溶媒および前記触媒混合物の存在下、８０〜２００℃の温度で反応させ、前記有機溶媒の総量が前記単量体溶液中の前記単量体の総重量に対して５０〜８００重量％であり、前記重合体の製品収率は前記単量体の総重量に対して５０重量％以上である。 （もっと読む）

【課題】カラムナー液晶分子を含有するカラム状構造が一定方向に配向している液晶セルを提供する。
【解決手段】一方向に配向した光配向性部を有する一対の光配向膜であって、前記光配向性部の配向方向が互いに平行になるように隙間を空けて配置された一対の光配向膜１と、前記隙間に充填されたイオン性サーモトロピックカラムナー含フッ素液晶化合物を含有する層２と、を含有し、前記イオン性サーモトロピックカラムナー含フッ素液晶化合物は、等方相温度域から等方相温度未満の温度へ急速に冷却した場合には、カラム軸が前記光配向膜に対してホモジニアス配向しているカラム状構造を形成し、等方相温度域から等方相温度未満の温度へ徐々に冷却した場合には、カラム軸が前記光配向膜に対してホメオトロピック配向しているカラム状構造を形成する、液晶セル１００。 （もっと読む）

【課題】反応性に優れ、さらに得られた硬化性高分子化合物の反応液中での安定性に優れる硬化性高分子化合物の製造方法、ならびに、その製造方法により得られた硬化性高分子化合物を含む、組成物および平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物を高分子化合物中に存在する酸基に付加させる硬化性高分子化合物の製造方法であって、触媒として、ｐＫａが３．０以下であるカルボン酸の塩を用いることを特徴とする硬化性高分子化合物の製造方法、ならびに、その製造方法により得られた硬化性高分子化合物を含む、組成物および平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】流動性、耐熱性、機械強度および機械強度に優れたメタクリル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メチルメタクリレートの単位（ａ）およびメチルメタクリレート以外のアルキル（メタ）アクリレートの単位（ｂ）を含み、重量平均分子量が５万〜２５万である共重合体（１）と、メチルメタクリレートの単位（ａ）およびメチルメタクリレート以外のアルキル（メタ）アクリレートの単位（ｂ）とを含み、重量平均分子量が０．６万〜４万である共重合体（２）とを含有し、分散安定剤および乳化剤のいずれも含有せず、前記共重合体（１）に含まれる単位（ｂ）の質量分率が、前記共重合体（２）に含まれる単位（ｂ）の質量分率より小さいメタクリル系樹脂組成物。 （もっと読む）