【課題】
高圧法低密度ポリエチレンを混合することなく安定してフィルム成形が可能であり、アンチブロッキング剤を添加することなく耐ブロッキング性に優れるフィルムを提供する。
【解決手段】
下記（Ａ）〜（Ｈ）の要件を満足するエチレン系重合体からなり、下記要件（Ｉ）〜（Ｊ）を満たすことを特徴とするフィルムを使用する。
（Ａ）密度が９１０〜９４０ｋｇ／ｍ^３（Ｂ）ＭＦＲが０．１〜２０ｇ／１０分（Ｃ）末端ビニルが、炭素数１，０００個あたり０．２個以下（Ｄ）１６０℃における溶融張力［ＭＳ_１６０（ｍＮ）］が４０〜１５０（Ｅ）ＭＳ_１６０と１９０℃における溶融張力ＭＳ_１９０が ＭＳ_１６０／ＭＳ_１９０＜１．８（Ｆ）流動の活性化エネルギーが３０以上５０ｋＪ／ｍｏｌ未満（Ｇ）温度上昇溶離分別により求めた溶出温度−溶出量曲線においてピークが複数個存在する（Ｈ）（Ｍｚ／Ｍｗ）／（Ｍｗ／Ｍｎ）が０．９より大きい（Ｉ）ヘーズが２０％以上
（Ｊ）シリカ、タルク、ゼオライト、マイカ、カーボン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムを含まない （もっと読む）

【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、粘着レジンとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】溶融張力と溶融延伸性のバランスに優れる高分岐型超高分子量共重合体を含有する板状押出発泡体用スチレン系樹脂組成物と、それを使用した板状押出発泡体の製造方法および板状押出発泡体を提供する。
【解決手段】スチレン含有モノビニル化合物に、１分子中にビニル基を２以上有し、分岐構造を有する溶剤可溶性多官能ビニル化合物共重合体を、重量基準で１００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍ添加し、１個以上連続して配置された重合反応器に、該原料溶液を連続的に供給して重合反応を進行させ、該共重合体と該ビニル系モノマーが重合して生じる高分岐型超高分子量体を含むスチレン系樹脂組成物であって、２００℃、４９Ｎ荷重の条件にて測定したメルトマスフローレイト（ＭＦＲ）が６．０ｇ／１０分以上２０．０ｇ／１０分未満である高分岐型板状押出発泡体用スチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】解像度、密着性、レジスト形状、めっき後の剥離性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、分散度が１．６以下のバインダーポリマーと、２，２−ビス［（４−（メタ）アクリロイルオキシポリアルキレンオキシ）シクロヘキシル］プロパンを含む光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、ＯＯＢ光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー３に形成したフォトレジスト膜２上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜１を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式（１）に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
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【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、未露光部における残渣の低減を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、現像液、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、ナノインプリント用モールド、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、酸の作用により前記高分子化合物を架橋する、２個以上のベンゼン環と４個以上のアルコキシメチル基とを有するフェノール性化合物、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、露光後に、炭素数７又は８のエステル系溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順番で有する、レジストパターン形成方法。
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【課題】リビングカチオン重合の開始種に用いることができ、かつ、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル並びにそれを開始種としてリビングカチオン重合可能なビニル系モノマーを重合して得られ、可逆的付加開裂連鎖移動重合によるリビングラジカル重合が可能な重合体の提供。
【解決手段】次の式（１）



（式中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子である）で表わされるビニルエーテル及びこれを開始種としてビニル系モノマーをリビングカチオン重合して得られる重合体。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規な重合体、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有し、該構成単位（ａ１）として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが３．０ｋＪ／ｍｏｌ以上異なる２種を含む重合体。該重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】成形流動性に優れ、成形体の表面硬度が高く、成形体を熱板溶着する際にも糸曳きが発生せず、さらには成形体の耐溶剤性や衝撃強度も高いメタクリル系樹脂組成物を得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位８０〜９８．５（質量％）と、
少なくとも１種のメタクリル酸エステルに共重合可能な他のビニル単量体単位１．５〜２０（質量％）と、を含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量が６００００〜２５００００であり、ＧＰＣ溶出曲線から得られるピーク分子量（Ｍｐ）の１／５以下の分子量成分が７〜４０％含まれているメタクリル系樹脂（Ａ）と、
フッ素系樹脂（Ｂ）と、
を、含有するメタクリル系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュードが広く、耐熱性に優れ、高温プロセス（２５０℃以上）を有するパターン形成に適用された場合においても、隣接パターンへの色移りが抑制された着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基を有する色素多量体、（Ｂ）顔料、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素を溶媒とし、少なくとも１種の単量体成分を含有する溶液に、重合開始剤成分として下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）の順に添加して、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹はケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有していてもよい炭素原子数３〜２０のヒドロカルビレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】回路基板のような感応性基材を保護するためのバリヤコーティングとして、及び潤滑剤の移行を防ぐための抗移行コーティングとして有用な樹脂組成物、併せて組成物の硬化物としての膜を提供する。
【解決手段】フルオロアルキル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸コポリマーを含むコーティング組成物が開示されており、ここでは前記コポリマーは５重量％以下の（メタ）アクリル酸を含み、そして前記フルオロアルキル基は６以下の炭素原子を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、押出成形性と低燃料透過性を両立し、パーオキサイド架橋できる可能なフッ素ゴム、該フッ素ゴムを含む架橋用組成物、および該組成物からなる成形品を提供する。
【解決手段】分子量分布において少なくとも２つのピークを有し、最も低分子量側のピークの数平均分子量が３０００〜６００００であり、該ピークの分子量分布が１．０〜２．０であり、かつフッ素ゴム全体の１００℃におけるムーニー粘度が３０〜８０であるパーオキサイド架橋可能なフッ素ゴムである。 （もっと読む）

【課題】原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体を脱ハロゲン化して、ハロゲン量を低減したビニル系重合体を製造する方法としてその脱ハロゲン化の効率および得られる重合体の品質を向上させる。
【解決手段】ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を利用して製造されるハロゲン含有ビニル系重合体を加熱することで脱ハロゲン化を行う、１ｋｇ中のハロゲン原子の量が１，０００ｍｇ以下であるビニル系重合体を製造する方法であって、（１）脱ハロゲン化を水溶性の塩基性化合物（ａ）の存在下で実施した後、（２）該重合体を（ａ）の当量以上の酸性化合物（ｂ）を含む酸性に調整した水相に接触させることにより塩基性化合物および脱ハロゲン化反応残渣を除去することを特徴とするビニル系重合体の製造方法による。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される酸不安定基によって、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物を含有する、ポジ型レジスト組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｒは一価の有機基を表す。Ａは多環炭化水素環構造を有する基又は多環ヘテロ環構造を有する基を表す。＊は前記フェノール性水酸基の酸素原子との結合位置を表す。） （もっと読む）

【課題】耐熱性が高く、吸湿性が低く、しかも金属触媒を用いずに製造できる重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される脂環式単量体（Ａ）に由来する構成単位を含むことよりなる。
（もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたネガ型現像用レジスト組成物、及び該ネガ型現像用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、ｌｏｇＰ値が２．７以下であり、且つ、ｐＫａが−３．５以上である酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジストパターンを形成した際に生じるＢｌｏｂ欠陥を抑制することができ、かつ保存安定性に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供することである。
【手段】 重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物であって、 重合体成分（Ａ）が有する全繰り返し単位のうちの少なくとも一部として、カルボキシル基を有する繰り返し単位（ｃ）と、スルホ基を有する繰り返し単位（ｓ）とを有し、 溶剤（Ｂ）として、炭素数が２以上８以下のエーテル系溶剤（Ｂ１）を含む、液浸上層膜形成用組成物。 （もっと読む）