【課題】優れたＣＤ均一性を有するレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び酸発生剤を含み、酸発生剤が、式（Ｂ１）で表される塩を含む酸発生剤であるレジスト組成物。式（ａａ）中、Ｔ^１は、環骨格中に−Ｏ−ＳＯ_２−を有する炭素数４〜３４の環式基を表す。Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
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【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位（ａ１）を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が７以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位（ａ１）が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Ｘが０＜Ｘ≦５であるパターン形成方法。Ｘ＝（酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計）／｛（炭素原子の数）−（炭素原子でも水素原子でもない原子の数）｝ （もっと読む）

【課題】ＬＷＲ等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ア）下記一般式（ｂ１）で表される非酸分解性の繰り返し単位（ｂ１）、および、酸によって分解し極性基を生じる基を有する繰り返し単位を含む樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を波長が２００ｎｍ以下の活性光線又は放射線により露光する工程、及び（ウ）ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が７以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含むパターン形成方法。（式中、Ａは酸素原子を含まない、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、Ｘ_０は水素原子又はアルキル基を表す。）
【化１】
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【課題】プロピレン系重合体において、高い割合でビニル構造を持つように高度に末端構造が制御されたプロピレン系重合体の提供。
【解決手段】Ｍｎが５万より大きく１３万未満、Ｑ値が２．０以上４．０以下、末端ビニル率が０．７以上、末端ビニリデン率が０．１未満、オルトジクロロベンゼンを溶媒として使用した昇温溶出分別の測定における４０℃以下の温度で溶出する成分が３重量％以下、および^１３Ｃ−ＮＭＲ分析によって得られるプロピレン単位３連鎖のｍｍ分率が９５％以上のプロピレン系重合体。 （もっと読む）

【課題】良好な耐薬品性、機械強度及び柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性高分子：４０〜８０質量％、（Ｂ）光重合開始剤：０．１〜２０質量％、及び（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物：０．１〜５０質量％を含有する感光性樹脂組成物であって、該（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する化合物として、分子内に少なくとも一つの炭素数が４以上のアルキレンオキサイド基と、少なくとも１つのウレタン結合を有する化合物：０．１〜３２質量％を含有することを特徴とする前記感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ａ^Ｉ１は、炭素数１〜４９の４価の炭化水素基を表し、該炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。ｍは２又は３を表し、複数存在する環Ｗ^Ｉ１は、それぞれ独立に炭素数２〜３６の飽和複素環を表す。ｎは１又は２を表す。但し、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターンの裾引き形状改善に効果が有り、ＬＥＲ性能が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の全固形分を基準として、１０〜３０質量％含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明では、硬化後の機械物性および耐候性などにすぐれるとともに、高温焼付けフッ素処理アルミ基材に対して優れた接着性をも実現できる硬化性組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】架橋性シリル基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリル酸エステルを重合して得られる（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）、および、
架橋性シリル基を少なくとも１個有し、特定の（メタ）アクリル酸エステルを重量比で２０％以上を含有するモノマーを重合して得られる、溶解度パラメーターが上記（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）より０．２以上大きい有機重合体（ＩＩ）、
を含有し、（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）と有機重合体（ＩＩ）の重量比（Ｉ）／（ＩＩ）が９９／１〜７０／３０である硬化性組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】反応阻害や着色やケン化反応の進行をほとんど引き起こすことなく、低重合度で無機イオン成分の残留が少ないポリビニルアセタールを製造することができるポリビニルアセタールの製造方法を提供する。また、該ポリビニルアセタールの製造方法を用いて製造されるポリビニルアセタールを提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールを過酸化水素と接触させて低重合度化する工程１、及び、酸触媒を用いて酸性条件にした系において、前記工程１で低重合度化したポリビニルアルコールをアルデヒドと反応させてアセタール化する工程２を有し、工程１において、波長が２００〜３００ｎｍの紫外線を照射するポリビニルアセタールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】密着性が良好で、かつ基材表面に、耐水性、防曇性、防汚性、耐候性に優れる親水性表面を付与した組成傾斜構造を有する親水性部材を提供する。
【解決手段】基材２上に設けられ、下記親水性材料１）及び活性エネルギー線硬化型オリゴマー又はポリマー２）’を含む膜とを有する親水性部材１であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材２に最も近い側から最も遠い側に向かって１）の比率が大きくなり、かつ、２）’の比率が小さくなるように、１）及び２）’の組成が連続的に変化する組成傾斜膜３である、親水性部材１。但し、活性エネルギー線硬化型オリゴマー又はポリマー２）’は下記１）の親水性材料とは異なる。１）加水分解性シリル基含有親水性ポリマーを含有し、かつ前記ポリマーが主鎖末端又は側鎖に、加水分解性シリル基を分子中に少なくとも１個有し、親水性基を分子中に少なくとも１個有する親水性材料。 （もっと読む）

【課題】ノルボルネン、エチレンを重合してなる共重合体を含むポリマー溶液でありながら、キャストフィルム成形法、スピンコート法、溶液紡糸法等による成形に好適なポリマー溶液を提供する。
【解決手段】エチレンと、ノルボルネンと、エチレン及びノルボルネン以外のモノマーとを重合してなる三元共重合体を溶媒に溶解させてなるポリマー溶液を用いる。ここで、三元共重合体中の、エチレンに由来する繰り返し単位の含有量は６０ｍｏｌ％以下であり、ノルボルネンに由来する繰り返し単位の含有量と上記モノマーに由来する繰り返し単位の合計量に対する、上記モノマーに由来する繰り返し単位の含有量は０．０１ｍｏｌ％以上２０ｍｏｌ％以下であり、三元共重合体のガラス転移温度は１００℃以上であり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出したポリスチレン換算の数平均分子量は、１００００以上２０００００以下である。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂（Ｐ）及び活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程
を含む、パターン形成方法。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】弱溶剤に溶解させた場合において顔料分散性、色調安定性や色調経時安定性にも優れた調色塗料又は原色塗料を調製できる顔料分散用樹脂及びこれを用いた顔料分散体、並びに、この顔料分散体を用いて得られる調色塗料及び原色塗料を提供すること。
【解決手段】（変性）アクリル樹脂及び弱溶剤を含む顔料分散用樹脂溶液であって、（変性）アクリル樹脂は、数平均分子量２，０００〜１４，０００、酸価及びアミン価の少なくとも一方が０．１〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ水酸基価０〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇを有し、（変性）アクリル樹脂分に対して特定の重合性不飽和モノマー１０〜３５質量％及びホモポリマーのＳＰ値が９．２以下となる（メタ）アクリル酸エステル系モノマー１５質量％以上９０質量％未満を含有する顔料分散用樹脂溶液、この顔料分散用樹脂溶液及び顔料を含有する顔料分散体並びに前記顔料分散体を含有する調色塗料又は原色塗料。 （もっと読む）

【課題】実質的にジエンが存在しない、コポリマー鎖間のタクチシティー及びコモノマーのマーカーの均一な分布をし、さらに、タクチシティーの統計的に、わずかの分子内差しか示さない、メタロセン触媒の存在下で製造されるエチレンプロピレンのコポリマーの提供。
【解決手段】ａ）立体特異的ポリプロピレン重合触媒錯体を用いて、溶液法において６０℃以上の反応温度でプロピレン及びエチレンコモノマーを重合する工程並びに、ｂ）７５重量％以上プロピレン単位、及び５乃至２５重量％エチレン単位を有するプロピレンコポリマーを回収する工程であって、前記コポリマーが、３５℃より高く、１１０℃より低い融点及びＭｗ＞６．１０＊Ｐ＊ｅ(３３７０／Ｔ)(式中、Ｍｗ＝重量平均分子量、Ｔ＝ケルビン度での重合反応温度、Ｐ＝リットル当りモルでの、重合反応域における定常状態プロピレン濃度)の重量平均分子量を有する、工程を含む方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基；Ｒ^ｆ１及びＲ^ｆ２は、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ^aa1及びＡ^ab1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｗ^１は、脂肪族環を含む２価の基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は、フッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位（Ｂ）とを含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１−１）又は（１−２）により表される化合物（Ｑ）とを含有している。


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【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ¹⁴は、ハロゲン原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】欠陥の発生数が少なく、優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び環状ケトン溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ａ^aa1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルカンジイル基又は式（ａ−１）で表される基を表す。］ （もっと読む）