スルホニルアジド基ではない１つ以上のアジド基を含むフルオロポリマー、及びその調製プロセス。
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低残存モノマー含有量の超吸収剤を製造するため、尿素塩及び無機酸を、重合前若しくは重合中モノマー混合物に、又は重合後で重合後の熱処理前ポリマーに添加する。 （もっと読む）

【課題】パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）潤滑剤と、を含有することを特徴とするナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

本発明は、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）およびトリフルオロエチレン（ＴｒＦＥ）に由来する繰り返し単位を含む新規なポリマーであって、ＶＤＦ繰り返し単位１ｋｇ当たり少なくとも６０ミリモルの量で、式：−ＣＦ_２Ｈおよび／または−ＣＦ_２ＣＨ_３の末端基を含むポリマー［ポリマー（Ｆ）］、その製造方法、ならびに、電気／電子デバイスにおける、強誘電性材料、圧電性材料、誘電性材料または焦電性材料としてのそれらの使用を提供する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造で表される構成単位（ａ０）と他の特定構造で表される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位に対し、前記構成単位（ａ０）の割合は、５〜５０モル％であり、前記構成単位（ａ１）の割合は１０モル％より大きく、前記構成単位（ａ０）および（ａ１）の割合の合計は９０モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】加工性、低燃費性およびウェットグリップ性能のバランスに優れているゴム組成物を提供する。
【解決手段】スチレンおよび／または１，３−ブタジエンと、下記一般式で表されるアルコキシシリルスチレンとを共重合して得られる共重合体に関する。（一般式）
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本発明は、スチレンと１，３−ブタジエンに由来する単量体単位を含む重合体を重合する方法を提供する。その方法は、Ａ）重合に使用されるスチレンの全量および溶媒を含む反応器に、重合に使用されるブタジエンの全量の６０質量％未満を加える工程、Ｂ）反応器に少なくとも１種の開始剤を加え、時間ｔの間、反応を進行させる工程、Ｃ）残りの量のブタジエンを２回以上に分けて反応器に追加する工程を含み、各々のブタジエンの追加について、次に追加されるブタジエンの量は、直前に追加されたブタジエンの量以下であり、ブタジエンの各々の追加について、時間ｔ_ｎｃの間、ブタジエンを追加し、各々の追加の後、時間ｔ_ｎｒの間、反応を進行させる。ただし、ｎはブタジエンの追加の数であり、そして各々の追加に関し、ｎは独立に１以上である。 （もっと読む）

本発明は、ポリマーレリーフ構造の作製のための光エンボス加工方法であって、ａ）１または複数の放射線感受性成分および３０重量％より少ないポリマーバインダ材料を含むコーティング組成物で基材をコーティングするステップと、ｂ）前記コーティング組成物の転移温度より低い温度で、周期的、非周期的またはランダムな放射線強度パターンを有する電磁放射線でこのコーティングされた基材を局所処理して潜像を形成するステップと、ｃ）得られたコーティングされた基材を前記コーティング組成物の転移温度より高い温度で重合および／または架橋するステップとを有する方法において、前記転移温度は、前記コーティング組成物の高い粘度および低い粘度の状態間の転移を規定する温度であり、前記コーティング組成物は、少なくとも１つの放射線硬化性基を有する化合物Aおよび光開始剤を有し、前記コーティング組成物は、３０℃〜１２０℃の転移温度を有する、方法に関する。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、ｉ線、ｈ線の両方のタイプの露光機で露光した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像し得る感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、及び（ｄ）特定のピラゾリン化合物：０．００１〜１０質量％、を含有する感光性樹脂組成物であって、上記（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマーが、特定の化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、架橋ゲル分のゲル密度の制御が可能で、透明性を損なわずに成形体の表面の艶消性に優れた新規な塩化ビニル系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】塩化ビニルと共重合可能なアリル基を２つ以上有する架橋モノマー（Ａ）と塩化ビニルモノマー（Ｂ）を水性媒体中で懸濁重合するに際し、塩化ビニルモノマーの重合転化率が２０以上８０％以下の期間に、２−メルカプトエタノール（Ｃ）を少なくとも２回添加し、且つ添加量が（Ｂ）の総量に対し、（Ｃ）を１０重量％以下添加する塩化ビニル系樹脂（Ｄ）の製造方法であって、得られる塩化ビニル系樹脂（Ｄ）中の架橋ゲル分率が２０〜６０重量％であり、かつＴＨＦ不溶分の全透過率Ｔが５０〜８０％であることを特徴とする塩化ビニル系樹脂の製造方法により達成される。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、ｉ線、ｈ線の両方のタイプの露光機で露光した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像し得る感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％、及び（ｄ）特定のピラゾリン化合物：０．００１〜１０質量％、を含有する感光性樹脂組成物であって、上記（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマーが、特定の付加重合性モノマーを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、イットリウム化合物を触媒とした、１，４−シス構造含有率の高い共役ジエン重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）イットリウム化合物、（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、（Ｃ）周期律表第２族、１２族及び１３族から選ばれる元素の有機金属化合物、並びに（Ｄ）ピロールから得られる触媒を用いて共役ジエン化合物を重合させることを特徴とする共役ジエン重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン精度、硬さ等に優れたスペーサーおよびリブ体を同時に形成可能な画像形成方法を提供する。
【解決手段】乾燥後の実質的に溶剤を含まない状態において、（Ａ）反応性の異なる２種類以上の硬化性官能基を同一分子内に有し、かつ、該硬化性官能基の少なくとも１つがα，β−不飽和エステル基である単量体と、（Ｂ）界面活性剤とを含み、かつ、粘度が３〜５０ｍＰａ・ｓの範囲である組成物を用いることを特徴とし、さらに、下記（１）〜（６）の工程を含む画像形成方法。
（１）基板上に前記組成物からなる感光性樹脂層を設ける工程
（２）必要に応じ、感光性樹脂層に、５０〜１５０℃の熱処理を実施し溶剤を除去する工程
（３）少なくとも２種類の形状の異なる凹凸表面を有する型の凹凸表面と、前記感光性樹脂層とを接するように圧着させる工程
（４）感光性樹脂層を光照射する工程
（５）前記凹凸表面を有する型を感光性樹脂層から剥離する工程
（６）必要に応じ、凹凸表面を有する型から剥離した感光性樹脂層を、１６０〜２５０℃で熱処理する工程 （もっと読む）

【課題】 本発明は、イットリウム化合物を触媒とした、１，４−シス構造含有率の高い共役ジエン重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）イットリウム化合物、（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、（Ｃ）周期律表第２族、１２族及び１３族から選ばれる元素の有機金属化合物、並びに（Ｄ）シラザン化合物から得られる触媒を用いて共役ジエン化合物を重合させることを特徴とする共役ジエン重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、界面活性剤として好適に使用することができ、生体蓄積性の低いフルオロエーテルカルボン酸の中間体として有用なフルオロエーテル化合物の新規製造方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、下記一般式（Ｉ）
ＲｆＣＦ_２ＯＣＦＸ^１ＣＦＸ^２Ｊ （Ｉ）
（式中、Ｒｆはフッ素原子、部分または全部フッ素置換されたエーテル酸素原子を含んでも良いアルキル基、ＪはＣｌ、Ｂｒ又はＩ、Ｘ^１及びＸ^２はお互いに異なってＲｆ´Ｏ又はＦ、Ｒｆ´は炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。）で表されるフルオロエーテル化合物の製造方法であって、
下記一般式（ＩＩ）
ＲｆＣＯＦ （ＩＩ）
で表されるフルオロカルボン酸フルオライドをフッ化アルカリ金属塩の存在下にフルオロビニルエーテル、及び、ハロゲン化合物と接触せしめる工程
を含むことを特徴とするフルオロエーテル化合物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 酢酸アリルの重合により高分子量の酢酸アリル重合体を提供する。
【解決手段】 酢酸アリル、または主成分の酢酸アリルと酢酸アリルと共重合可能な他のモノマーとをパーフルオロアルキルスルホン酸金属塩の存在下にラジカル重合することを特徴とする酢酸アリル重合体または共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジストに必要な透明性や酸反応性を損なうことなく、装置汚染の原因となる溶出や脱ガスの恐れが少ない酸発生側鎖としてのスルホニウム塩含有側鎖を含有する樹脂、及び該樹脂の構成成分としてのモノマーの提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするモノマー。
【化１６】


・・・一般式（１）
前記一般式（１）において、Ｒ_１及びＲ_３は、−Ｈ基及び−ＣＨ_３基のいずれかであり、各々同一でも異なっていても良い。前記一般式（１）において、Ｒ_２は、フェニル基及びアダマンチル基のいずれかを示す。前記一般式（１）において、Ｑ_１は、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】電線、チューブ、フィルム等の成形体を製造する際に発泡・着色が発生せず、また、電池用の添加剤として使用した場合にも、電極作成時の発泡などを起こさず、特に二次電池に使用した場合には充放電性能が劣化しない溶融加工性含フッ素ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】
水性媒体中において含フッ素モノマーをラジカル重合して溶融加工性含フッ素ポリマーを製造する方法であって、上記ラジカル重合は、フッ素原子が直接結合した炭素原子が１〜６個の範囲で連続して結合するフルオロカーボン基と親水基とを有する含フッ素化合物の存在下で行うものである溶融加工性含フッ素ポリマー製造方法。 （もっと読む）

【課題】ネガ型レジストを用いた液晶配向制御用突起による液晶パネルの駆動不良を低減し、表示品質の向上が図れる液晶配向制御用突起を形成可能なネガ型感光性の液晶配向制御用突起形成樹脂組成物、及び当該樹脂組成物を用いた液晶配向制御用突起を有するカラーフィルタを提供する。
【解決手段】特定の構造を有するアクリル酸２−（トリシクロ[５．２．１．０^２，６]−３−エン−９−イルオキシ）アルキル（Ａ）を含有し、硬化後の比誘電率が、１ｋＨｚにおいて１．０以上４．０以下であることを特徴とするネガ型感光性の液晶配向制御用突起形成樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】難燃性を有し、かつ、耐熱性により優れるメタクリル樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】メタクリル酸メチルを主体とする単官能単量体とネオペンチルグリコールジメタクリレート及び／又はネオペンチルグリコールジアクリレートとが重合してなる重合体Ａ、並びにハロゲン化リン酸エステルを含有するメタクリル樹脂組成物であって、前記重合体Ａ、及びハロゲン化リン酸エステルの合計１００重量部に対して１０．５〜１２．５重量部のハロゲン化リン酸エステルを含有することを特徴とするメタクリル樹脂組成物。 （もっと読む）