【課題】露光ラチチュード、及びＬＷＲなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式（１）で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は、各々独立に、アリールを表し、Ｒ_１とＲ_２が連結していてもよい。Ｒ_３及びＲ_４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、Ｒ_３とＲ_４が連結していてもよい。Ｒ_５は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。Ｒ_５は、Ｒ_３もしくはＲ_４と連結していてもよい。
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【課題】減水性に優れ、凝結遅延がなく、さらにフレッシュコンクリートの粘性が低く練り混ぜが容易であり、施工性に優れたセメント分散剤を提供する。
【解決手段】下記単量体（ａ）、（ｂ）及び必要に応じ（ｃ）を反応して得られる共重合体もしくはその塩であって、単量体（ａ）乃至（ｃ）の共重合比が質量基準で（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝５０〜９５：５〜５０：０〜４０である共重合体もしくはその塩（Ａ）と、（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝０〜４５：５〜３０：３０〜９０である共重合体もしくはその塩（Ｂ）とを含有する水硬性組成物用混和剤。（ａ）下記一般式（１）：Ｒ^１Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ（１）で表される化合物１モルに対し、炭素数２〜４のアルキレンオキサイドを０〜１０モル付加し、さらに該付加物をα，β−不飽和カルボン酸と反応させて得られるエステル化合物、（ｂ）α，β−不飽和カルボン酸又はその塩、及び、（ｃ）その他の共重合可能な単量体。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］親水性基を含む構造単位（Ｉ）を有するフッ素原子含有重合体、［Ｂ］アルカリ解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有するフッ素原子含有重合体、及び［Ｃ］酸解離性基を有する重合体を含有し、［Ａ］重合体、［Ｂ］重合体及び［Ｃ］重合体は互いに異なる重合体であるフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】金属と含フッ素ポリマーとが直接、強固に接着した積層体を提供する。
【解決手段】金属からなる層（Ａ）、及び、前記層（Ａ）上に形成された層（Ｂ）を有する積層体であって、層（Ｂ）は、テトラフルオロエチレンに基づく重合単位及びパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく重合単位を含む共重合体からなり、前記共重合体は、主鎖末端にカルボキシル基を有し、メルトフローレートが２０ｇ／１０分以上であり、融点が２９５℃以下であり、前記金属は、銅、ステンレス、アルミニウム、鉄、及び、それらの合金からなる群より選択される少なくとも１種であることを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基板上に硬化エネルギー放射線によりイメージ通りに硬化ポリマーを形成する方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板上にコートされる光硬化可能なポリマー組成物における形体のフォトリソグラフィックパターニングのための方法であって、プラスチック基板は、金属製障壁のような反射膜でコートされる。また、プラスチック基板は、光硬化放射線を吸収する添加剤を含むポリマー障壁層でコートされるか又は同時押し出し成形される。さらに、プラスチック基板は、光硬化放射線を吸収する内在性添加剤を含む。これらの組み合わせもまた含まれる。プラスチック基板上に支持される光硬化可能なポリマーを含むいずれの素子又は目的物の製造にも適用できるが、プラスチック基板上に支持される光硬化可能なポリマーを含む光導波路の製造に有利に適用されてもよい。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、又は炭素数２〜１０のアルケニル基で、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。Ｒ³はフッ素原子又はトリフルオロメチル基、ｍは１〜５の整数。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジスト組成物を構成する酸発生剤の提供。
【解決手段】式（１）で表される基を有するヒドロキシ芳香族誘導体。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。＊は、ヒドロキシ芳香族環との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】水蒸気透過度を低く抑え、かつ、剥離強度も優れる透明バリア積層体及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の透明バリア積層体に対応する第１の積層体２は、アクリル系共重合体（Ａ）及び架橋剤（Ｂ）を含有する粘着組成物からなる粘着層を介して、２つの透明バリアフィルムが積層される。アクリル系共重合体（Ａ）は、炭素数８以上１５以下の鎖状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル２４．９〜７５質量％と、脂環構造を有する（メタ）アクリレート２４．９〜７５質量％と、官能基含有アクリルモノマー０．１〜１０質量％とを含有し、かつ、上記粘着層２５μｍあたりの水蒸気透過度は、ＪＩＳ Ｋ７１２９Ａ法、４０℃×９０％ＲＨにおいて１００ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。また、本発明の画像表示装置１は、上記第１の積層体２がディスプレイの表面側に配置されており、上記第１の積層体２の端面２ａが封止未処理である。 （もっと読む）

【課題】光感度に優れるとともに、光硬化後に得られるレジスト形状を良好に維持することが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内にエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）重合禁止剤を含有し、（Ｄ）重合禁止剤の含有量が組成物中の固形分全量を基準として２０〜１００質量ｐｐｍである、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形または矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供することが可能な樹脂を提供する。
【解決手段】主鎖末端にカルボキシル基を含有し、かつ、３員環および／または４員環の環状エーテル基を有する繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液に不溶または難溶性で酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となるポジ型感光性アクリル樹脂を用いる。 （もっと読む）

【課題】取扱性に優れ、高い耐水性や耐ブロッキング性を有する皮膜を得ることができるコーティング剤を用いて得られる塗工物、感熱記録材、インクジェット記録材及び剥離紙原紙、並びに塗工物の製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）で表される基を有する単量体単位を含み、式（Ｉ）を満たすビニルアルコール系重合体（Ａ）、及びポリアミドポリアミンエピクロロヒドリン系樹脂（Ｂ）を含有し、（Ｂ）の含有量が（Ａ）１００質量部に対して０．２質量部以上１５０質量部以下とする。


３７０≦Ｐ×Ｓ≦６，０００・・・（Ｉ）。Ｐ：粘度平均重合度。Ｓ：上記単量体単位の含有率（モル％）。 （もっと読む）

【課題】ホルムアルデヒドを放出せず、熱架橋性を有し、また、紙処理剤として使用すると、低熱処理条件下で得られた紙であっても耐水性に優れ、さらに、繊維処理剤として使用すると、柔軟性に富む繊維が得られる熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】トリカルバリル酸、アコニチン酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、テトラヒドロフランテトラカルボン酸、メチルテトラヒドロフタル酸とマレイン酸のエン付加物、トリメリット酸、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸からなる群より選ばれる一種以上のポリカルボン酸の存在下、カルボキシル基と熱架橋反応し得る官能基を含むエチレン性不飽和単量体Ａを乳化重合させることにより、カルボキシル基と熱架橋反応し得る官能基を有する高分子重合体と、前記ポリカルボン酸とを含む水性エマルジョンを得て、かつ前記ポリカルボン酸のカルボキシル基の少なくとも一部を前記高分子重合体の官能基と反応させてなることを特徴とする熱架橋型高分子重合体水性エマルジョン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】原材料の変更や高額な設備投資を必要とせずに、簡便な手法で、吸水性樹脂の物性（例えば通液性）を向上および安定させる方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸（塩）水溶液を重合して含水ゲル状架橋重合体を得る重合工程と、上記含水ゲル状架橋重合体を乾燥して吸水性樹脂乾燥物を得る乾燥工程と、上記吸水性樹脂乾燥物を分級して吸水性樹脂粒子を得る分級工程と、上記分級工程の前及び／又は後に、吸水性樹脂粒子を表面架橋する表面架橋工程とを順次含む、ポリアクリル酸（塩）系吸水性樹脂の連続製造方法であって、上記乾燥工程以降の１以上の工程において、各工程で使用される装置に対して、吸水性樹脂との接触面を水洗する、ポリアクリル酸（塩）系吸水性樹脂の連続製造方法。 （もっと読む）

【課題】主鎖に環構造を有するアクリル系重合体と、紫外線吸収剤とを含有するアクリル樹脂組成物の長時間連続生産を可能とする方法を提供する。
【解決手段】上記アクリル樹脂組成物の製造方法であって、アクリル系重合体の環化縮合反応を行う環化工程と、触媒の使用量に対して０．１〜０．７モル当量の塩基性物質または酸性物質によって触媒を中和する中和工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明では、硬化後の機械物性および耐候性などにすぐれるとともに、高温焼付けフッ素処理アルミ基材に対して優れた接着性をも実現できる硬化性組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】架橋性シリル基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリル酸エステルを重合して得られる（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）、および、
架橋性シリル基を少なくとも１個有し、特定の（メタ）アクリル酸エステルを重量比で２０％以上を含有するモノマーを重合して得られる、溶解度パラメーターが上記（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）より０．２以上大きい有機重合体（ＩＩ）、
を含有し、（メタ）アクリル酸エステル系重合体（Ｉ）と有機重合体（ＩＩ）の重量比（Ｉ）／（ＩＩ）が９９／１〜７０／３０である硬化性組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】従来技術と比較して、セメント混和剤における各種の性能をより一層改善しうる手段を提供する。
【解決手段】本発明のセメント混和剤用共重合体の製造方法は、化学式１で表される不飽和カルボン酸系単量体と、化学式２で表される不飽和ポリアルキレングリコール系単量体とを必須成分として含有する単量体成分を反応器中、溶媒の存在下で溶液重合させることを含む。そして、反応系における前記溶媒以外の成分の濃度の反応時間に対する平均値として定義される反応系平均濃度が１〜５０質量％である点に特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】グリセリンの脱水反応により得られたアクロレイン含有ガスを分縮により高度に精製でき、凝縮液での析出物の生成を抑制できるアクロレインの製造方法、ならびに、前記アクロレインの製造方法により得られたアクリル酸を用いたアクリル酸の製造方法、および親水性樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】グリセリンを脱水反応させてアクロレイン含有ガスを得るグリセリン脱水工程と、アクロレイン含有ガスを冷却して、アクロレイン含有ガスに含まれるアクロレインの一部、水、および高沸点物質を凝縮させて、精製ガスと凝縮液を得る分縮工程と、精製ガスと凝縮液を気液分離する分離工程とを有し、分縮工程で、アクロレイン含有ガスまたは凝縮液に重合禁止剤を添加することを特徴とするアクロレインの製造方法。 （もっと読む）

【課題】めっき膜を形成するめっき方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジストパターンを形成する工程、レジストパターン形成面に、下記一般式（１）で表わされる構造単位及び下記一般式（２）で表わされる構造単位を有する重合体を含有する表面改質層を形成する工程、レジストパターンの開口部にめっき膜を形成する工程を有するするめっき方法。


〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は単結合又は２価の連結基、Ｒ³は水素原子、水酸基又はアルコキシ基、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵は極性基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】レンズを加工する工程においても傷を生じることのない十分な硬さを有するコーティング層が得られ、かつ、発色濃度が高く、退色速度が速く、繰り返し耐久性も高いといった優れたフォトクロミック特性を有するフォトクロミック眼鏡レンズが得られるフォトクロミック硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ｉ）分子内に、ケージ状構造のシルセスキオキサン骨格と、ウレタン結合、チオウレタン結合、及びウレア結合から選ばれる少なくとも一つの結合基と、ラジカル重合性基とを有する重合性単量体、並びに（ＩＩ）フォトクロミック化合物を含んでなるフォトクロミック硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性、塗布性及び引き置き安定性に優れたレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】構成単位（ａ０−１）と、酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するる樹脂成分（Ａ１）を含有する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、及び含窒素有機溶剤成分（Ｓ）を含有するレジスト組成物。
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