【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ²¹は２価の連結基；環Ｘ²¹は複素環；Ｒ²²は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基、アルコキシ基等；ｍは、０〜１０の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）のレジストパターンを製造し得るレジスト組成物及び該レジスト組成物に用いられる新規な樹脂を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこの樹脂及び酸発生剤を含むレジスト組成物。


［Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３は、フッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸安定基；Ａ^aa１は、炭化水素基；Ａ^ab1は、アルカンジイル基；Ｒ^ab2は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、且つ、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、酸発生剤、式（ＩＩ）で表される化合物を含むレジスト組成物。
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【課題】リビングカチオン重合の開始種に用いることができ、かつ、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル並びにそれを開始種としてリビングカチオン重合可能なビニル系モノマーを重合して得られ、可逆的付加開裂連鎖移動重合によるリビングラジカル重合が可能な重合体の提供。
【解決手段】次の式（１）



（式中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子である）で表わされるビニルエーテル及びこれを開始種としてビニル系モノマーをリビングカチオン重合して得られる重合体。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^ｂ１及びＲ^ｂ２は、独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^ｂ１は、２価の飽和炭化水素基；環Ｗ^ｂ１は複素環；Ｒ^ｂ３は、水素原子又は炭化水素基；Ｒ^ｂ４は炭化水素基；ｍは、０〜６の整数；Ｚ^１＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】遠心脱水機を用いて汚泥を固液分離する際に、脱離液の発泡を効果的に抑制する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の発泡抑制方法は、下水混合生汚泥、下水余剰汚泥、および消化汚泥からなる群から選択される少なくとも一種の汚泥に、凝集剤を添加する工程Ａと；工程Ａで得た凝集剤を含む汚泥を、遠心脱水機を用いて固液分離し、脱離液と脱水ケーキとに分離する工程Ｂと；を含む。凝集剤は、ノニオン性界面活性剤により、連続相である炭化水素中に、所定の構造単位を有する水溶性高分子を含む水溶液が分散相として分散されてなる油中水型エマルションを含む。当該油中水型エマルションは、単量体を、架橋剤の非存在下、または単量体の総質量に対して０を超えて５０質量ｐｐｍ以下の架橋剤存在下で乳化重合することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ^aa1及びＡ^ab1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ｗ^１は、脂肪族環を含む２価の基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2は、フッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）で、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される化合物に由来する構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位（Ｂ）とを含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１−１）又は（１−２）により表される化合物（Ｑ）とを含有している。


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【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】酸分解性基を有する樹脂（Ａ）と、式（Ｂ４）


［式（Ｂ４）中、Ａ^＋は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機カチオンを表す。Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^ｂ１は、窒素原子を有さない２価の連結基を表す。Ｘ^ｂ１は、窒素原子を有さない酸分解性基を表す。］で表される塩（Ｂ４）と、式（Ｅ２）


［式（Ｅ２）中、Ａ_ａ^＋は、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。Ｘ_Ｎ⁻は窒素原子を有する有機スルホン酸アニオンを表す。］で表される塩（Ｅ２）と、を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性および分散性に優れた顔料組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）顔料と、（Ｂ）一般式（ｂ−１）で表される構造単位と一般式（ｂ−２）で表される構造単位とを含む共重合体と、（Ｃ）溶剤とを含む顔料組成物。




[式中、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌは、−アルキレン基−Ｏ−で表される基である。Ｗは、アルキレン基であり、ｎは１〜１２の整数である。] （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）で、欠陥の少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】微細凹凸構造を表面に有する表層と中間層との界面および中間層と基材との界面における密着性に優れる積層体を提供する。
【解決手段】基材２と、複数の凸部３からなる微細凹凸構造を表面に有する表層４と、基材２と表層４との間に設けられた中間層５とを有し、中間層５が、（ポリ）アルキレングリコール鎖中にオキシプロピレン基を少なくとも１つ有する（ポリ）アルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート（Ａ）の４０〜９５質量％とＮ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド（Ｂ）の５〜６０質量％とを含む中間層形成用組成物を硬化させてなる層である積層体１。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターで、欠陥数の少ないのレジストパターンを製造することができるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａ１−１）で表される構造単位及び式（ａ１−２）で表される構造単位の１種以上とを有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となり、式（ａａ）で表される構造単位を有しない樹脂並びに酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】本発明は、相互侵入高分子ネットワーク（ＩＰＮ）およびそれに関係する方法および組成物を提供する。
【解決手段】本発明のヒドロゲル素材は、２つ以上の高分子ネットワークの相互侵入ネットワークを含み、その高分子ネットワークの少なくとも１つが、バイオポリマーをベースとする。第１高分子ネットワークと第２高分子ネットワークとを結合することを含む、ヒドロゲル素材を製造する方法であって、第１高分子ネットワークまたは第２高分子ネットワークがバイオポリマーをベースとする、方法も提供される。本出願は、ＩＰＮヒドロゲル素材から製造されるデバイスおよびその使用もまた開示する。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れたゴム組成物の原料に好適な変性共役ジエン系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】炭化水素溶媒中で有機アルカリ金属化合物を用いて共役ジエン化合物を含む単量体を重合させて共役ジエン系重合体を得、共役ジエン系重合体を含む炭化水素溶媒にカルボニル基と置換アミノ基とを有する化合物及び以下の化合物を添加する方法。
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【課題】長期間安定的に連続して運転することができる重合体の製造装置を提供する。
【解決手段】反応槽、圧力調整弁および脱揮押出機を備え、反応槽より得られる重合体組成物が圧力調整弁を通じて脱揮押出機に供給されるように構成された、重合体の製造装置において、圧力調整弁（２０）に、弁体（１）と、弁体（１）を収容する空間（３）を有するボディ（５）と、弁体（１）を支持および操作するステム（９）と、ステム（９）を摺動可能に案内するガイド（１３）と、ステム（９）の表面とガイド（１３）の内壁面との間の隙間（１１）へ重合禁止剤を含有する液体を導入する液体導入口（１７）とを設ける。隙間（１１）は、液体導入口（１７）から導入された液体がボディ（５）内の空間（３）に流入するように空間（３）と連通している。 （もっと読む）

【課題】重金属を使用することなく、長鎖のパーフルオロアルキル基も使用せず、一般的な公知の含フッ素モノマーを使用して、系への溶解性に優れ弾きも抑制した含フッ素化合物を用いた硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記ブロック共重合体（Ａ）、溶媒（Ｂ）および樹脂（Ｃ）を含む硬化性樹脂組成物。
ブロック共重合体（Ａ）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに１質量％の濃度で混合した際に、白濁することなく透明な液体が得られるブロック共重合体である。 （もっと読む）

【課題】イットリウム化合物を含有する触媒を用いて、シス−１，４構造含有率が高く、１，２構造含有率を制御した共役ジエン重合体を高効率で製造することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）イットリウム化合物、（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、（Ｃ）有機アルミニウム化合物、および（Ｄ）特定の構造を有する環状共役ジエン化合物から得られる触媒を用いて共役ジエンを重合することを特徴とする共役ジエン重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規な重合体、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有し、該構成単位（ａ１）として、前記酸分解性基の活性化エネルギーが３．０ｋＪ／ｍｏｌ以上異なる２種を含む重合体。該重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）