【課題】めっき膜を形成するめっき方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジストパターンを形成する工程、レジストパターン形成面に、下記一般式（１）で表わされる構造単位及び下記一般式（２）で表わされる構造単位を有する重合体を含有する表面改質層を形成する工程、レジストパターンの開口部にめっき膜を形成する工程を有するするめっき方法。


〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は単結合又は２価の連結基、Ｒ³は水素原子、水酸基又はアルコキシ基、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵は極性基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】架橋性に優れたオキサゾリン基含有重合体を製造することができ、オキサゾリン基含有単量体を重合させることによって得られる重合体混合物におけるオキサゾリン基含有重合体の固形分含量が高められても高粘度化しがたく、オキサゾリン基含有重合体の生産性を向上させることができるオキサゾリン基含有重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】オキサゾリン基含有単量体を４０質量％以上含有する単量体成分を有機溶媒と水との混合溶媒の存在下で重合させることによってオキサゾリン基含有重合体を製造する際に、前記有機溶媒として炭素数１〜３のアルコキシ基を有していてもよい炭素数１〜４の１価の脂肪族アルコールを用い、前記混合溶媒における有機溶媒の含有率を１０〜６５質量％に調整することを特徴とするオキサゾリン基含有重合体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


（式中、Ｒ⁴〜Ｒ⁶はフッ素化１価炭化水素基を示す。）
【効果】本発明により、高撥水性かつ高滑水性の含フッ素環状アセタールを含む繰り返し単位を有するレジスト保護膜材料が提供される。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が少なくかつ良好なパターン形状を有するレジストパターンを形成できるフォトレジスト組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）を有するベース重合体、［Ｂ］塩基解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有し、［Ａ］重合体よりもフッ素原子含有率が高い重合体、及び［Ｃ］酸発生体を含有し、上記［Ａ］重合体のポリスチレン換算重量平均分子量が、１０，０００以上４０，０００以下であるフォトレジスト組成物である。上記塩基解離性基は、フッ素原子を有することが好ましい。上記塩基解離性基は、芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。構造単位（ＩＩ）が、下記式（２）で表されることが好ましい。
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【課題】触媒組成物の存在下、比較的高い重合温度で１つまたはそれ以上の付加重合性モノマーを重合して、高分子量タクチックポリマーを形成する、特に、アイソタクチックまたは高アイソタクチックであり、低減された分子量を有するポリマーを形成するプロセスを提供する。
【解決手段】多価ヘテロアリールドナー配位子を含む４族金属錯体、ならびに高いアイソタクチシティおよび低い分子量を有するプロピレン／エチレンコポリマー製品の調製に特に適する、オレフィン重合触媒の成分としてのそれらの使用。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、かつ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、質量平均分子量が２００００以下である重合体を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィのための組成物を提供する。
【解決手段】下記のＡを含むポリマーとシランから形成されるポリマーを含む組成物。Ａ）下記の構造単位１：


（式中、Ｌは、Ｃ−Ｃ結合でありであり；Ｍは２価の結合基、Ｓｉ上に酸素含有基、ハライドから選択される基を持つ。） （もっと読む）

【課題】サブクオーターミクロン（＜０．２５μｍ）寸法の高解像の像を提供できる新たなフォトレジストを提供する。
【解決手段】光酸不安定基を有する樹脂、光酸発生剤化合物、およびフォトレジスト塗膜層の未露光領域への望まれない光発生酸拡散を低減させる様に機能しうる２以上のアミド基を含むマルチアミド成分、を含む新規のフォトレジスト組成物であり、特に、アミドカルボニル基同士の間に３〜８原子の間隔を有するマルチアミド化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】スルホン酸基含有ビニルモノマーの重合体を、活性プロトンを有するモノマー、溶媒、あるいは両者を用いても、高収率で重合体を得ることができるスルホン酸基含有ビニルモノマーの重合方法を提供する。
【解決の手段】
ｔ−Ｂｕ_ｎＲ_３−ｎＺｎＭ またはｔ−Ｂｕ_ｍＲ’_４−ｍＺｎＭ_ｌ
（式中、ｎは１〜３の整数であり、ｍは１〜４の整数であり、ｌは１〜２の実数であり、Ｒ及びＲ’は各々同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜１２のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアリールアルキル基を示す。Ｍはリチウム、マグネシウムあるいはＭｇＸ（Ｘは塩素、臭素、ヨウ素のいずれかを表す）で示されるハロゲン化マグネシウムを表す。）で示される亜鉛アート錯体を重合開始剤として用いる、スルホン酸基含有ビニルモノマーの重合方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れ、ディフェクトを低減可能なレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつフッ素原子を含む構成単位（ｆ１）を有する重合体；該重合体は主鎖の少なくとも一方の末端に式（Ｉ−１）で表される基を有することが好ましい；該重合体を含有するレジスト組成物；該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法
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【課題】水溶性やイオン性のビニルモノマー、溶媒、あるいは両者を用いても、高収率で重合体を得ることができる重合開始剤を提供し、さらにこれを用いたビニルモノマーの重合方法を提供する。
【解決の手段】
ｔ−Ｂｕ_ｎＺｎＸ_{（２−ｎ）}・（ＭＹ_ｍ）_ｌ （１）
（式（１）中、ｎは１〜２の実数であり、Ｘはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のいずれかを表し、Ｍは周期表第１族および第２族から選ばれる金属を示し、Ｙはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のいずれかを表し、ｍは１〜２の整数を示し、ｌは０．１〜６の実数である。）で示される有機亜鉛化合物と金属塩との錯体からなる重合開始剤および、この重合開始剤を用いるビニルモノマーの重合方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】着色を抑えたＮ−ビニルラクタム系重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アゾ系重合開始剤および／または有機過酸化物と還元剤との存在下、アルコールを必須に含む水性溶媒中で、Ｎ−ビニルラクタムを必須とする単量体成分を重合する工程を含むことを特徴とするＮ−ビニルラクタム系重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）に優れたレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は脂肪族炭化水素基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は、単結合又は脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は脂肪族環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、２価の脂肪族炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】超撥水性の付与が可能な撥水性微粒子、および、この撥水性微粒子の基材表面への散布および／または塗布、あるいは撥水性微粒子を用いた転写フィルムによる基材表面への転写によって得られる超撥水表面を有する材料の提供。
【解決手段】フッ素含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを５０〜９９モル％、水酸基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを１〜５０モル％の割合で含んでなる（メタ）アクリル酸アルキルエステル混合物を重合することによって得られる（メタ）アクリル酸アルキルエステル系ポリマーを用いた微粒子を形成する。 （もっと読む）

【課題】熱導電性が向上した定着器部材を提供する。
【解決手段】定着器部材１００の熱導電性を向上させるため、コア−シェル粒子を定着器部材１００の層に分散させる。コア−シェル粒子は、シェル層に囲まれたグラフェンコアを含む。シェル層は、ポリペンタフルオロスチレン、ポリスチレンおよびポリジビニルベンゼンからなる群から選択されるポリマーを含む。コア−シェル粒子は、定着器部材１００の中間層１２０または剥離層１３０に分散させることができる。 （もっと読む）

【課題】未露光残膜率が高く、比誘電率が低く、ドライエッチング耐性に優れ、かつ、ＩＴＯスパッタ耐性にも優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ｉ）酸不安定基を有するラジカル重合性化合物、および、（ｉｉ）一般式（１）で表される不飽和カルボン酸エステルを含むラジカル重合性化合物を共重合させて得られるフォトレジスト用共重合体において、主鎖末端に芳香族基を含む基を含む構造とする。 （もっと読む）

【課題】引裂強度と衝撃強度に優れ、かつ適度な滑り性を有する多層フィルムを提供する。
【解決手段】要件（ｂ１）と（ｂ２）と（ｂ３）を充足するエチレン−α−オレフィン共重合体（Ｂ）５０〜１００重量％、
および酢酸ビニルに基づく単量体単位の含有量が３〜４０重量％であり、ＭＦＲが０．１〜７ｇ／１０分であるエチレン−酢酸ビニル共重合体（Ｃ）０〜５０重量％
を含有する芯層と、
要件（ａ１）と（ａ２）と（ａ３）の充足するエチレン系樹脂（Ａ）を含有する二つの表面層とを有するチューブ状エチレン系樹脂多層フィルム。
（ａ１）：Ｎ_C5が炭素原子１０００個あたり０．１未満
（ａ２）：Ｅａが４０ｋＪ／ｍｏｌ以上
（ａ３）：密度が９００〜９２５ｋｇ／ｍ^３
（ｂ１）：Ｅａが４０ｋＪ／ｍｏｌ未満
（ｂ２）：ＭＦＲが０．１〜２ｇ／１０分
（ｂ３）：密度が９００〜９２５ｋｇ／ｍ^３ （もっと読む）

【課題】フォトレジスト上塗り組成物および、前記上塗り組成物でコーティングされた基体、並びにネガティブトーン現像プロセスによって電子デバイスを形成する方法の提供。
【解決手段】以下の一般式（Ｉ）のモノマーを重合単位として含むポリマー、有機溶媒および塩基性クエンチャーを含む上塗り組成物。
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【解決手段】酸不安定基により水酸基が保護された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、光酸発生剤と、有機溶剤と、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有し、かつ水酸基を含有しない高分子添加剤とを含み、高分子添加剤の含有量が全高分子化合物の含有量に対して１〜３０質量％であるレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト組成物は、液浸露光可能な高い後退接触角を示すと共に、有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで高い解像性、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を示し、ラインパターン側壁の垂直性を高め、パターン倒れ耐性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性、押出加工性、低ロス性に優れたゴム組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）イットリウム化合物、（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、（Ｃ）有機アルミニウム化合物、および（Ｄ）特定の環状共役ジエン化合物からなる触媒を用いて１，３−ブタジエンを重合して得られる、下記特性を有するポリブタジエンを１０重量％以上含有することを特徴とするゴム組成物。
（１） シス−１，４構造含有率が８５％以上
（２） １，２構造含有率が２％以上６％未満 （もっと読む）