【課題】
薄膜高速加工時の基材接着性に優れ、かつラミネート成形品の耳高を抑制した押出ラミネート用エチレン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】
密度９２０〜９３５ｋｇ／ｍ^３以下、ＭＦＲ５〜１０ｇ／１０分であるエチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）５０〜８０重量％と、密度８６０〜９１０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ１０〜４０ｇ／１０分のエチレン−α−オレフィン共重合体（Ｂ）１０〜３０重量％および密度９１５〜９３０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ１〜１０ｇ／１０分の高圧法低密度ポリエチレン（Ｃ）１０〜４０重量％からなり、下記要件（ａ）〜（ｄ）を満たす押出ラミネート用エチレン系重合体組成物を用いる。
（ａ）１６０℃で測定された溶融張力１０〜１５０ｍＮ、（ｂ）ＭＦＲ４〜１３ｇ／１０分
（ｃ）エチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）のＭＦＲとエチレン−α−オレフィン共重合体（Ｂ）のＭＦＲの比が０．２５〜４．０、（ｄ）エチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）のＭＦＲと高圧法低密度ポリエチレン（Ｃ）のＭＦＲの比が０．２５〜４．０ （もっと読む）

【課題】安定性が高いニトリルオキシド化合物と、このニトリルオキシド化合物で高分子材料を変性した変性高分子材料を提供する。
【解決手段】アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル又はアクリル酸アミドの極性のアニオン重合性単量体を重合してなる炭素鎖の片方の末端に、一般式［１］で表される末端構造が結合しているニトリルオキシド化合物をＮＲ、ＥＰＤＭ、ＮＢＲ又はＰＡＮの高分子材料に反応させる。
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【課題】 焦点深度ラチチュード（Ｄｅｐｔｈ Ｏｆ Ｆｏｃｕｓ）が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物（Ａ）として、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−１）、又は、特定の２種の化合物からなる組み合わせ（Ａ−２）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性が良好でありながらラミネート成形品のカールが少なく、かつラミネート成形品の端部厚みが中央部よりも厚くなりにくい押出ラミネート用エチレン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】
密度９２０〜９５５ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ_Ａ５ｇ／１０分以上１０ｇ／１０分未満であるエチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）５０〜８０重量％と、密度９５５ｋｇ／ｍ^３より大きく９７５ｋｇ／ｍ^３以下、ＭＦＲ_Ｂ５ｇ／１０分以上４０ｇ／１０分未満の高密度ポリエチレン（Ｂ）１０〜４０重量％および密度９１５〜９３０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ_Ｃ１．２５〜１０ｇ／１０分の高圧法低密度ポリエチレン（Ｃ）１０〜４０重量％からなり、下記要件（ａ）〜（ｄ）を満たす押出ラミネート用エチレン系重合体組成物。
（ａ）１６０℃で測定された溶融張力１０〜１００ｍＮ
（ｂ）ＭＦＲ４〜１７ｇ／１０分
（ｃ）ＭＦＲ_Ａ／ＭＦＲ_Ｂが０．２５〜４．０
（ｄ）ＭＦＲ_Ａ／ＭＦＲ_Ｃが０．２５〜４．０ （もっと読む）

【課題】金属イオン不純物濃度が低く、半導体リソグラフィーに好適に用いることができる、半導体リソグラフィー用重合体または重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体リソグラフィー用重合体、または該重合体を含む重合体溶液の製造方法において、原料または生成物と接触する容器として、該容器に対して１０体積％のメタノールで還流した時に、該還流後のメタノール中の各金属イオン不純物濃度が１０ｐｐｂ以下である容器を用いる工程を有する、半導体リソグラフィー用重合体または該重合体を含む重合体溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粘着剤層に基づく視認性に係るムラの問題を低減することができる粘着型光学フィルムを提供すること。
【解決手段】光学フィルムと、前記光学フィルムに設けられた粘着剤層を有する粘着型光学フィルムの製造方法であって、前記光学フィルムに、粘度Ｙ（Ｐ）の水系または水分散系粘着剤塗工液を塗工厚みＸ（μｍ）で塗工する工程（１Ａ）、および、塗工された粘着剤塗工液を乾燥して、粘着剤層を形成する工程（２Ａ）を有し、かつ、前記粘着剤塗工液の粘度Ｙと塗工厚みＸが、０．８Ｘ−Ｙ≦６８、を満足することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であり、上記シリカ１００質量部に対して、上記シランカップリング剤の含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善され、更に、良好な耐摩耗性も得られるゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン及び特定の芳香族化合物、又は、１，３−ブタジエン、芳香族ビニル化合物及び特定の芳香族化合物を共重合して得られる重合体活性末端に、特定の官能基を有する化合物を反応させて得られ、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する。 （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン及び特定の芳香族化合物、又は、１，３−ブタジエン、芳香族ビニル化合物及び特定の芳香族化合物を共重合して得られる重合体活性末端に、特定の官能基を有する化合物を反応させて得られ、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する。 （もっと読む）

【課題】露光余裕度が大きく、かつラフネスが低減されたレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む下記構成単位（ａ１０）と、−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位と、アクリル酸エステルから誘導され極性基含有脂肪族炭化水素基を含む構成単位と、を有する樹脂成分（Ａ１）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。（式中、Ｒ^２は一般式（ａ１０−１）又は下記一般式（ａ１０−２）で表される基であり、Ｘは酸素原子又はＣＨ_２である）
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