【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）〜式（XIII）で表されるオキセタン構造保有のアルカリ可溶性樹脂と、溶剤と、結像用放射線を吸収して分解するとアルカリ可溶性樹脂中のオキセタン構造が反応を起こしめる酸を発生可能な光酸発生剤とを含んでなり、自体塩基性水溶液に可溶であり、露光後は露光部がアルカリ不溶となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】微細な粒子形状を有し、容易に安定して回収することができる、水酸基含有単量体単位を多く含む高極性の半導体フォトリソグラフィ用重合体の精製方法を提供する。
【解決手段】水酸基含有単量体単位（Ａ）を４５質量％以上含み、必要に応じてラクトン骨格含有単量体単位（Ｂ）、吸光性基含有単量体単位（Ｃ）、酸脱離基含有単量体単位（Ｄ）及び環状エーテル構造含有単量体単位（Ｅ）から選択される少なくとも１種の単量体単位を含む半導体フォトリソグラフィ用重合体を溶媒に溶解した重合体溶液を２０℃以下のエーテル系溶媒中に添加して再沈殿させる半導体フォトリソグラフィ用重合体の精製方法。 （もっと読む）

【課題】オレフィン系の軟質樹脂でありながら、耐摩耗性にすぐれるプロピレン系重合体組成物を得ることを目的とする。
【解決手段】特定量の（Ａ）シンジオタクチックペンタッド分率（rrrr分率）が８５％以上のプロピレンから導かれる構成単位を９０〜１００モル％含有するプロピレン系重合体、（Ｂ）プロピレン由来の構成単位を４０〜８９モル％のプロピレン系共重合体を含み、オレフィン系熱可塑性エラストマー（Ｃ）、スチレン系エラストマー（Ｄ）、α−オレフィン共重合体（Ｅ）、アイソタクチックプロピレン系重合体（Ｆ）、エチレン・酢酸ビニル共重合体（Ｇ）、及び、エチレン系重合体（Ｈ）から選ばれる重合体を特定量含むプロピレン系重合体組成物。 （もっと読む）

【課題】従来では得られなかった優れた撥水性、撥油性および防汚性およびそれらの耐久性を有する防汚加工剤を提供する。
【解決手段】炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を有するマレイン酸またはフマル酸のジエステルである含フッ素マレエートまたは含フッ素フマレートから誘導される少なくとも１種の繰り返し単位、アルキル基の炭素数１〜３０のアルキル（メタ）アクリレートから誘導される少なくとも１種の繰り返し単位および要すればスチレンから誘導される繰り返し単位を有する共重合体、ならびに該共重合体を含んでなる防汚加工剤。 （もっと読む）

【課題】溶媒及び／又はモノマーを含有する熱可塑性ポリマーから揮発成分をベント式押出機により除去して、揮発成分量の少ない熱可塑性ポリマー材料を製造する方法であって、押出機のスクリューの回転数を大きく、あるいは、押出機内のポリマー温度を高くしても、熱可塑性ポリマー材料の機械的物性が維持される製造方法を提供すること。
【解決手段】ベント式押出機の原料供給口から下記成分（Ａ）を供給し、該ベント式押出機の液体注入口から下記成分（Ｂ）を供給して、成分（Ａ）の熱可塑性ポリマーと成分（Ｂ）の化合物とを含有する熱可塑性ポリマー材料をダイスから押し出す熱可塑性ポリマー材料の製造方法。
（Ａ）熱可塑性ポリマーと有機溶媒及び／又はモノマーとを含有するポリマー組成物
（Ｂ）トレハロース、スクロース、ラクトース、マルトース等からなる化合物群Ｓから選ばれる少なくとも１種の化合物の溶液 （もっと読む）

【課題】光弾性係数が小さく、位相差の発現性に優れ、偏光子との貼合性に優れた光学フィルム、これを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも１つ有し、水酸基又はアミド結合を有する単量体からなる繰り返し単位を少なくとも１つ有する重合体（Ａ）とセルロースエステルを含有する光学フィルム。
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【課題】シリカ系無機充填剤等の各種無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、実用上十分な耐摩耗性及び破壊強度を満足する変性共役ジエン系重合体を提供する。
【解決手段】ポリビニル芳香族化合物とリチウムとのモル比（ポリビニル芳香族化合物／リチウム）が０．０５〜１．０の範囲で調製された多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体の重合活性末端に、２つ以上のアルコキシ基で置換されたシリル基と１つ以上の窒素原子を有する化合物を、反応させることにより得られる、共役ジエン重合体の末端部に１つ以上のアルコキシ基で置換されたシリル基及び１つ以上の窒素原子を有する変性共役ジエン系重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記実情に鑑みて、工業的なスケールで適用でき、親水性有機溶媒やポリマー合成時に発生した親水性の反応副生成物などの親水性化合物などの除去性が高く、ポリマーの回収率も高く、塗布液としても使用可能なポリマー溶液の製造方法、及びポリマーの精製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】一般式（Ａ）で表されるユニット及び一般式（Ｂ）で表されるユニットを含有するポリマーと、炭素数とＯＨ基数との比（炭素数／ＯＨ基数）が４〜７のアルコールとを含有するポリマー溶液の製造方法であって、
前記ポリマーを溶解し、前記アルコールと相溶する有機溶媒と、前記ポリマーとを含むポリマー溶液Ａに、前記アルコールを加えて、ポリマー溶液Ｂを得る添加工程と、
前記ポリマー溶液Ｂに水を用いた抽出処理を施す抽出工程とを備える、とを備える、ポリマー溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸分解性基を含有するラクトン化合物を高収率で得ることができる製造方法、及び、レジスト性能が改善された感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供すること
【解決手段】下記一般式（ＩＢ）で表される化合物の製造方法であって、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物を用いる製造方法。
【化１】


式中、Ｑは、重合性基を表す。Ｌ_１は、ｍが２以上の場合は各々独立に、連結基を表す。Ｌｃはラクトン構造を有する基を表す。Ａ_１は酸の作用により脱離する基、又は酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する基を有する基を表す。ｍは０以上の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】優れた生体適合性を有する中空糸膜モジュールを提供すること。
【解決手段】ケーシング内に中空糸膜を備える中空糸膜モジュールであって、前記中空糸膜は、疎水性ポリマーとポリビニルピロリドンを含む中空糸膜であり、抗凝固剤を添加したヒト血液を通液させたときに、前記中空糸膜に付着する成分の抽出液における乳酸脱水素酵素の酵素活性が、０．６ＩＵ／ｍＬ／ｃｍ^２未満である、中空糸膜モジュール。 （もっと読む）

【課題】遮音性に優れており、かつ発泡の発生及び発泡の成長を抑制できる合わせガラスを得ることができる合わせガラス用中間膜、並びに該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラス用多層中間膜を提供する。
【解決手段】合わせガラス用中間膜２は、熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する。熱可塑性樹脂に占める、絶対分子量１００万以上の高分子量成分の割合は７．４％以上であるか、又は、熱可塑性樹脂に占める、ポリスチレン換算分子量１００万以上の高分子量成分の割合は９％以上である。合わせガラス用多層中間膜１は、合わせガラス用中間膜２と、該合わせガラス用中間膜２の一方の面２ａに積層されており、かつ熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する第２の合わせガラス用中間膜３とを備える。 （もっと読む）

【課題】経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤とを含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｗは飽和炭化水素環を表し、該環に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＳＯ_２−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ａ^１は、単結合又は２価の飽和炭化水素基を表し、前記基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、前記第一のレジストパターンを溶解しない有機溶剤を含有するパターン反転用組成物を塗布してパターン反転用膜を形成し、アルカリ現像することにより、前記第一のレジストパターンを除去してパターンを形成する工程とを有し、前記化学増幅型ポジ型レジスト組成物は、酸発生剤成分（Ｂ）と、酸解離性溶解抑制基を有する基材成分（Ａ）とを含有し、前記パターン反転用組成物は、前記（Ａ）成分中の酸解離性溶解抑制基を解離し得る酸成分（Ｈ）と、酸解離性溶解抑制基を有さない基材成分（Ａ”）とを含有し、前記パターン反転用膜は、アルカリ現像液に対する溶解速度が０．３〜３．５ｎｍ／秒であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜を露光する工程、該レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、前記（Ａ）として酸の作用により親水性が増大する酸分解性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、−ＳＯ_２−含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を用いる。 （もっと読む）

【課題】パーティクルを生じにくい膜形成用組成物入り容器を提供すること。
【解決手段】本発明の膜形成用組成物入り容器は、分子内に、アダマンタン型のかご型構造を含む部分構造と、重合反応に寄与する重合性反応基とを有する重合性化合物を含む液状の膜形成用組成物を容器に収納してなるものであって、前記容器の前記膜形成用組成物を収納する収納部の収納量をＶ［ｃｍ^３］、前記収納部の内表面積をＳ［ｃｍ^２］としたとき、Ｓ／Ｖ≦０．８５の関係を満足することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示画像における色むら・濃度むら（特に、すじむら）の発生を効果的に防止することができる配向膜を提供する。
【解決手段】ポリイミド、γ−ブチロラクトン、フッ素系レベリング剤を含むインクジェット方式の配向膜形成用組成物であり、前期フッ素系レベリング剤は、式（１）の単量体、および下記式（２）の単量体を含んで構成される。


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【課題】充分な流動性を電子写真トナーに対して付与することができるトナー用外添剤として用いることができる重合体粒子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】単官能ビニル系モノマーとウレタンポリ（メタ）アクリレートとを含むモノマー混合物に由来する重合体粒子であり、前記重合体粒子が０．０５〜１μｍの平均粒子径を有し、使用される単官能ビニル系モノマーとウレタンポリ（メタ）アクリレートとが、６０〜９５重量％と４０〜５重量％の割合であり、ウレタンポリ（メタ）アクリレートが、２００〜５０００の分子量のウレタン部分と、２個以上の（メタ）アクリレート基とからなることを特徴とする重合体粒子が上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】レジスト性能に悪影響を与える酸性成分、塩基性成分などの不純物を容易に０．５ｐｐｍ以下に制御し、かつ、両親媒性化合物、特に、部分的に保護された水酸基を有する重合体を安価に提供すること。
【解決手段】低級アルコール以外の有機溶媒中、両親媒性化合物を製造する方法において、両親媒性化合物の有機溶媒溶液に極性溶媒を混合した後、該混合液をイオン交換樹脂と接触させることによって両親媒性化合物を精製する。両親媒性化合物としては、分子内に親水性部と疎水性部を有する共重合体が好適であり、分子内に水酸基を１個以上有するモノマーユニットを５０モル％以上含む共重合体、又は少なくとも１種のエーテル鎖を有するモノマーユニットを５０重量％以上含む共重合体が特に好適である。 （もっと読む）