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Fターム[4J100GC07]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 生成重合体に対する処理 (1,825) | 溶液、乳化液、分散液からポリマーの分離回収 (361)

Fターム[4J100GC07]に分類される特許

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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式(I)で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び/又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、ゴム成分100質量%中、上記共役ジエン系重合体の含有量が90質量%以下であり、上記ゴム成分100質量部に対して、上記シリカの含有量が5〜40質量部であるゴム組成物に関する。
[化1]
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式(I)で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び/又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分100質量%中、上記共役ジエン系重合体の含有量が90質量%以下であり、上記ゴム成分100質量部に対して、上記シリカの含有量が5〜40質量部であり、上記シリカ100質量部に対して、上記シランカップリング剤の含有量が1〜20質量部であるゴム組成物に関する。
[化1]
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【課題】透明性ゴム変性スチレン系樹脂組成物およびその成形体を提供する。
【解決手段】酸無水物基含有共重合体(A)10〜90質量部(但し90質量部を除く)、(メタ)アクリル酸エステル系共重合体(B)0〜80質量部(但し、0質量部を除く)、グラフト共重合体(C)10〜35質量部からなるゴム変性スチレン系樹脂組成物。酸無水物基含有共重合体(A):芳香族ビニル系単量体単位15〜80質量%、(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位15〜80質量%、不飽和ジカルボン酸無水物系単量体単位5〜30質量%からなる共重合体。(メタ)アクリル酸エステル系共重合体(B):(メタ)アクリル酸エステル系単量体、芳香族ビニル系単量体単位およびアクリル酸エステル系単量体単位からなる群から選ばれる共重合体。グラフト共重合体(C):ジエン系ゴム状重合体およびスチレン−メタクリル酸エステル系共重合体からなるグラフト共重合体。 (もっと読む)


【課題】製造工程での汚染による金属不純物量の増加を2ppb以下に抑制できる重合体または重合体溶液の製造方法の提供。
【解決手段】下記(1a)〜(1b)の工程を含む、重合体または重合体溶液の製造方法。(1a)重合体または重合体溶液の製造に使用される原料を、1立方メートル中に存在する粒径0.5μm以上の粒子の数が3,520,000個(以下、「クラス8」と表記)以下の雰囲気下で取り扱い、クラス8を超える外気に接触させることなく重合釜に移送し、該重合釜にて単量体を重合し、重合体または重合体溶液を得る工程。(1b)前記(1a)で得た重合体または重合体溶液を、クラス8を超える外気に接触させることなくクラス8以下の雰囲気下へ移送し、該雰囲気下にて容器に充填する工程。 (もっと読む)


【課題】LWR等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(ア)下記一般式(b1)で表される非酸分解性の繰り返し単位(b1)、および、酸によって分解し極性基を生じる基を有する繰り返し単位を含む樹脂(P)、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を波長が200nm以下の活性光線又は放射線により露光する工程、及び(ウ)ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含むパターン形成方法。(式中、Aは酸素原子を含まない、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、Xは水素原子又はアルキル基を表す。)
【化1】
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【課題】パーフルオロオクタン酸アンモニウム以外の特定の含フッ素乳化剤を用いて、フッ素樹脂の分子量を高くすることができ、フッ素樹脂の着色を防ぐことができる溶融成形可能なフッ素樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】
式(1) CFCFOCFCFOCFCOONH
で表される含フッ素乳化剤を含有させた水性媒体中で、含フッ素モノマー又は含フッ素モノマーとオレフィンを乳化重合して溶融成形可能なフッ素樹脂を製造する方法であって、該溶融成形可能なフッ素樹脂が、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレンのモル比が95/5〜90/10のテトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン/パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)のモル比が99.7/0.3〜97/3のテトラフルオロエチレン/パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)共重合体等の溶融成形可能なフッ素樹脂であることを特徴とする溶融成形可能なフッ素樹脂の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(a1)を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位(a1)が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Xが0<X≦5であるパターン形成方法。X=(酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計)/{(炭素原子の数)−(炭素原子でも水素原子でもない原子の数)} (もっと読む)


【課題】高解像のパターンを良好な形状で形成でき、PEB温度のパターン寸法への影響も少ないレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)又は(a0−2)で表される基を含む構成単位(a0)と、酸の作用により極性が増大し且つ多環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a11)と、酸の作用により極性が増大し且つ単環式基を含む酸分解性基を含む構成単位(a12)と、を有する共重合体(A1)を含有するレジスト組成物。式中の基−R−S(R)(R)、Mm+はそれぞれ、全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
[化1]
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【課題】解像性に優れるレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつ酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含有するレジスト組成物。[式(I)中、環Hは、置換基を有していてもよい炭素数3〜20の芳香族複素環を表す。R、R、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基を表す。]
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【課題】過酸化水素の使用量を低減することができ、安全かつ安価に(メタ)アクリル酸イミン重合体を酸化し、高いニトロキシド化率の(メタ)アクリル酸ニトロキシド重合体を製造することができる方法を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル酸イミン重合体を酸化することにより、(メタ)アクリル酸ニトロキシド重合体を製造する方法であって、アミド溶媒中、タングステン酸触媒及びホスホン酸類の存在下にて、過酸化水素により式(1)(式(1)中、Rは水素又はメチル基を示す)で表される繰り返し単位を有する(メタ)アクリル酸イミン重合体を酸化する工程を有する(メタ)アクリル酸ニトロキシド重合体の製造方法。
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【課題】EUV用又はEB用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(a5−0−1)又は(a5−0−2)で表される基を含む構成単位(a5)を有する重合体(A1)を含有し、該構成単位(a5)を誘導するモノマー量が、該重合体(A1)に対して100ppm以下であるレジスト組成物。式中、Q及びQは単結合又は2価の連結基である。R、R及びRは有機基であり、RとRとは相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。ただし、式中の基−R−S(R)(R)は全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】接着性を保持しつつ、耐熱性および機械的強度に優れたホットメルト接着剤を提供する。
【解決手段】エチレン残基単位75.4〜98.3モル%、酢酸ビニル残基単位0.3〜19.6モル%、ビニルアルコール残基単位0〜24.2モル%及びビニルアルコール単位とアクリロイル基を有するイソシアネートとの反応によるアクリロイル基を有する残基単位0.1〜20.0モル%含み、JISK6924−1に準拠し測定したMFRが5〜40000g/10分であるアクリロイル基含有エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、それを含む組成物、及び該組成物を含む接着剤。 (もっと読む)


【課題】
高い低臭性、低異味性が要求される水、ジュースなどの飲料容器として好適に使用することができる積層体を提供する。
【解決手段】
下記要件(1)〜(5)を満たすエチレン−α−オレフィン共重合体(A)50〜80重量%と、密度915〜930kg/m、MFR1〜10g/10分の高圧法低密度ポリエチレン(B)20〜50重量%からなり、さらに揮発成分が少ないエチレン系樹脂組成物(C)の層を少なくとも1層基材上に積層してなる積層体であり、最外層のうち少なくとも片面がエチレン系樹脂組成物(C)の層である積層体。
(1)密度920〜955kg/m(2)MFR10〜50g/10分(3)炭素数6以上の長鎖分岐を炭素数1000個あたり0.01〜0.2個有する(4)Mw/Mnが2以上5未満(5)50℃のn−ヘプタンに対する可溶分が0.3重量%以下 (もっと読む)


【課題】優れたCD均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(aa)で表される構造単位と、式(ab)で表される構造単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、Aaa1及びAab1は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等;Raa2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基;Wは、脂肪族環を含む2価の基;Aab2は脂肪族炭化水素基;Rab2は、フッ化アルキル基を表す。] (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)で、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、式(II)で表される化合物に由来する構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】イットリウム化合物を含有する触媒を用いて、シス−1,4構造含有率が高く、1,2構造含有率を制御した共役ジエン重合体を高効率で製造することを目的とする。
【解決手段】(A)イットリウム化合物、(B)非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、(C)有機アルミニウム化合物、および(D)特定の構造を有する環状共役ジエン化合物から得られる触媒を用いて共役ジエンを重合することを特徴とする共役ジエン重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】成形流動性に優れ、成形体の表面硬度が高く、成形体を熱板溶着する際にも糸曳きが発生せず、さらには成形体の耐溶剤性や衝撃強度も高いメタクリル系樹脂組成物を得る。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位80〜98.5(質量%)と、
少なくとも1種のメタクリル酸エステルに共重合可能な他のビニル単量体単位1.5〜20(質量%)と、を含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量が60000〜250000であり、GPC溶出曲線から得られるピーク分子量(Mp)の1/5以下の分子量成分が7〜40%含まれているメタクリル系樹脂(A)と、
フッ素系樹脂(B)と、
を、含有するメタクリル系樹脂組成物。 (もっと読む)


【解決手段】(A)ヘキサフルオロプロピル酸エステル基を側鎖に有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物、(B)ベース樹脂として、ラクトン環由来の骨格及び/又は水酸基を有する骨格及び/又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、(C)高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、(D)有機溶剤を含有するレジスト材料。
【効果】レジスト保護膜を使うことなく高速スキャンに耐えうる高撥水性かつ高滑水性のレジスト膜を実現し得る。更には、アルカリ現像液による上記ポリマーの加水分解により現像後のレジスト膜表面を親水性に改質し、その結果、ブロッブ欠陥が大幅に抑制できる。 (もっと読む)


【課題】溶媒の冷却や溶解時の加熱を必要とせず、乾燥時間と溶解時間の合計の工程通過時間を短縮できるようにした、リソグラフィー用重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、前記重合反応溶液を重合体に対する貧溶媒と混合し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程と、前記析出物を固形分含有量が65〜90質量%の範囲内となるように乾燥させて、微乾燥粉末を得る微乾燥工程と、前記微乾燥粉末を、重合体に対する良溶媒に溶解させる溶解工程とを有し、前記溶解工程において、前記微乾燥粉末の温度が0〜45℃であり、前記良溶媒の温度が0〜40℃である、リソグラフィー用重合体溶液を製造する。 (もっと読む)


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