【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位と、酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位とを有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂を含むレジスト組成物。［Ｗ^１は、２価の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は水素原子、式（Ｒ^２−１）で表される基又は式（Ｒ^２−２）で表される基を表す。］
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【課題】良好な解像度を示すリソグラフィ用レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ−Ａ）で表される塩。


［Ｑ^１及びＱ^２は、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、置換基を有していてもよい飽和炭化水素基、；Ｙ^１’は、置換基を有していてもよい脂肪族、脂環式、芳香族炭化水素基、でＹ^１’は、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基を含まない；Ｒ^a1〜Ｒ^a13は、Ｈ、ハロゲン原子又は置換基、あるいは環を形成していてもよく、Ｒ^a1〜Ｒ^a13のうち１以上の基が、ビニル基、アクリロイル基等を表す；Ｚは単結合または２価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】略球形粒子状であり、かつ、アミノ基含有ポリビニルエーテル樹脂を含む高分子担体を製造し得る樹脂を提供する。
【解決手段】式（１）


で示される構造単位を含むポリビニルエーテル樹脂。 （もっと読む）

本発明は、化学的加水分解、より詳細には、ペプチドおよびタンパク質などの加水分解に不安定な結合を保有する化学的基質の加水分解を容易にする分子インプリントポリマー(MIP)を調製する方法に関する。したがって、本発明は、加水分解活性を保有するように設計されたMIP、そのようなMIPを調製するための方法およびMIPの用途を対象とする。
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【課題】テレキリックポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】下記式Ｉのテレキリックポリマーの製造方法：
【化１】


式中、
Ｒ^１はポリオレフィン基であり；
Ｒ^２およびＲ^３は、−（ＣＲ^２Ｒ^３）−単位毎に独立に、水素原子もしくは１乃至６の炭素原子を有するアルキルであり；
ｍは２乃至２０の整数であり；
Ｒ^Ｘはカチオン性開始剤残基であり；そして
ｐは１乃至４の整数である。 （もっと読む）

【課題】 経時での安定性に優れ、透明性とガスバリア性に優れた乾燥皮膜が得られるＥＶＯＨの水性分散液の提供を目的とすること。
【解決手段】 α−ヒドロキシアルキル基、およびスルホン酸基を有し、エチレン含有率が２０〜６０モル％であるエチレン−ビニルアルコール系共重合体の水性分散液。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物、を含有するレジスト組成物であって、ベース樹脂は、一般式（１）で表される繰り返し単位を含有すると共に、一般式（２）及び／又は（３）で表される繰り返し単位を１種あるいは２種以上含有し、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、一般式（１）、（２）及び（３）で表される繰り返し単位を７０モル％以上含有する。
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【課題】接着力、凝集力に優れるビニルエーテル共重合体およびこれを用いた粘着剤組成物を提供することであり、特に、皮膚刺激性が低く安全性の高いビニルエーテル共重合体およびこれを用いた医療用粘着剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で示される構成単位からなることを特徴とするビニルエーテル共重合体は、接着力、凝集力に優れており、かつ皮膚刺激性が低いため粘着剤用途に好適である。（Ｉ）−（−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ_３Ｈ_７）−）−（ＩＩ）−（−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＣ_２Ｈ_４ＯＣ_２Ｈ_４ＯＨ）−）− （もっと読む）

【課題】接着力、凝集力に優れるビニルエーテル共重合体およびこれを用いた粘着剤組成物を提供することであり、特に、皮膚刺激性が低く安全性の高いビニルエーテル共重合体およびこれを用いた医療用粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で示される構成単位からなることを特徴とするビニルエーテル共重合体は、接着力、凝集力に優れており、かつ皮膚刺激性が低いため粘着剤用途に好適である。（Ｉ）−ＣＨ_２ＣＨ［−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ｛ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）｝］−（ＩＩ）−ＣＨ_２ＣＨ［（−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ）］− （もっと読む）

【課題】濁度成分と共に有機物をも除去し得る様に改良した水処理方法を提供する。
【解決手段】原水にアミジン構造を含有するカチオン性高分子を添加した後に長繊維濾過装置にて処理する。本発明の好ましい態様においては、塔内に長繊維束の濾材を収容し、下向流形式で原水を供給し且つ上向流形式で洗浄水を供給し、原水供給時には濾材が圧密状態を形成し且つ洗浄水供給時には圧密状態を解除し得る構造を有する長繊維濾過装置が使用される。 （もっと読む）

フォトレジスト組成物。組成物は、以下：（ａ）１つ又はそれ以上の酸感受性基を含み、そしてアセタール又はケタール基によって保護されたフェノール基を実質的に含まない１つ又はそれ以上の樹脂バインダー；（ｂ）高エネルギーの線源に露光すると分解し、そして１つ又はそれ以上の酸感受性基を除去するのに十分強い光酸を発生する１つ又はそれ以上の光酸発生剤；（ｃ）イミニウム塩を含む１つ又はそれ以上のイオン性非感光性添加剤；及び（ｄ）１つ又はそれ以上の溶媒；を有する。また、フォトレジスト組成物を用いて基板上にレリーフ構造をパターン形成する方法もある。 （もっと読む）

【課題】ゲル化、側鎖分解等の問題点を解決し、遺伝子導入効率が高く、生体内での代謝性、分解性、及び生体からの排出性に優れた架橋体よりなる遺伝子導入剤を提供する。
【解決手段】芳香環を核とし、それから放射状に伸延した複数の分岐鎖を有する分岐型重合体を有する遺伝子導入剤であって、複数の分岐型重合体同士が架橋した架橋体よりなる遺伝子導入剤において、該分岐鎖の末端はＳＨ基であり、該架橋体は、該分岐鎖の末端のＳＨ基同士が結合したものであることを特徴とする。前記分岐型重合体は、Ｎ，Ｎ−ジ置換ジチオカルバミルメチル基を同一分子内に３個以上有する化合物をイニファターとし、これにビニル系モノマーを光照射リビング重合させた分岐型重合体であることが好ましい。この遺伝子導入剤を製造する製造方法。 （もっと読む）

【課題】親水性が高く、高い帯電防止性と防曇性を有し、かつ高い透明性を有する親水性表面層を有する樹脂成形体を提供すること。
【解決手段】一般式（１）：


〔式中、Ｘ、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、明細書中の定義と同じである。〕で表される重合性単量体と、一般式（２）：


〔式中、Ｙ、Ｚ、Ｑおよびｎは、明細書中の定義と同じである。〕で表される重合性単量体および／またはＮ−ビニルピロリドン（３）とを含む単量体混合物から得られる共重合体［Ａ］からなる樹脂成形体の表面を加水分解処理させてなる、親水性表面層を有する樹脂成形体。 （もっと読む）

【課題】溶液とした場合、同一分子量を有する線状構造のポリマーに比べて低粘度であり、且つ分子量分布が狭く、構造の制御されたアルケニルフェノール骨格を有する星型ブロックコポリマー、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】リビングアニオン重合法により、アルケニルフェノールのフェノール残基の水酸基が飽和脂肪族系保護基により保護された化合物を単独重合させた後、あるいは該化合物とビニル芳香族化合物とを共重合させた後、ジビニルベンゼン等の多官能性カップリング剤を用いた共重合反応により得られた星型ブロックコポリマーを、酸性試剤を用いて飽和脂肪族系保護基を脱離させることにより、アルケニルフェノール骨格を有する星型ブロックコポリマーを得る。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、ベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ）が１００℃以上であり、且つ、前記ポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、全面露光を行い、次いでベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ’）が、前記Ｔｆよりも１８℃以上低い。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いたとしても、スウィング（Ｓｗｉｎｇ）幅の増大が抑えられ、定在波の発生が抑制され、かつ、高解像力、膜ベリ量の少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】特定の構造を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】２種類以上配合しても、生産性及び溶融成形性に優れたエチレン−ビニルエステル共重合体加溶媒分解物組成物の提供
【解決手段】エチレン−ビニルエステル共重合体(Ａ'）及び、特定の水酸基、アルコキシ基、アシル基又は環状カーボネート構造又は環状アセタール構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位を含有する変性エチレン−ビニルエステル共重合体（Ｂ'）を同一系内で加溶媒分解して、エチレン−ビニルエステル共重合体の加溶媒分解物（Ａ）及び水酸基を側鎖に２個有する構造単位を有する変性エチレン−ビニルエステル共重合体の加溶媒分解物（Ｂ）を含有するエチレン−ビニルエステル共重合体加溶媒分解物組成物を製造する工程を含み、該加溶媒分解工程における各成分の含有量の比（Ｂ'）／（Ａ'）が１以上であり、かつ、各成分の配合割合（Ｂ'）／（Ａ'）が、重量比にて５０／５０〜１／９９である該加溶媒分解物組成物を製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定及び製造が簡易的であり、且つ、在宅医療等に利用可能となる安価なバイオセンサーの提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、測定対象物質と特異的に反応する分子認識成分と、測定対象物質と分子認識成分との反応により体積が変化する刺激応答性高分子と、刺激応答性高分子の体積変化により局在表面プラズモン共鳴の強度が変化する平均粒径が０．２ｎｍ〜２００ｎｍの金属粒子とを含み、金属粒子と分子認識成分とが、刺激応答性高分子に固定されているバイオセンサーに関する。本発明のバイオセンサーは、製造及び測定が簡易的であり、対象物質を高感度に検出することもできる。さらに、標識分子等の特殊な材料を必要としないことから、従来よりも安価なバイオセンサーとすることも可能である。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】所定の繰り返し単位を含む第一の重合体（Ａ）と、酸の作用により解離する酸解離性官能基を有し、前記酸解離性官能基が解離してアルカリ可溶性となる第二の重合体（Ｂ）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】広い露光ラチチュード、広いデフォーカスラチチュード、良好なパターン形状を得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される各繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有してなり、成分（Ｂ）の化合物として、少なくともカルボン酸を発生する非イオン性化合物を含む２種以上の化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
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