【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、ベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ）が１００℃以上であり、且つ、前記ポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、全面露光を行い、次いでベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ’）が、前記Ｔｆよりも１８℃以上低い。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒（Ｂ）を含む重合体溶液中のイオン性不純物を除去するために、該溶液を極性溶媒（Ａ）及びイオン交換樹脂と接触させる際に、イオン交換樹脂の触媒作用による極性溶媒（Ａ）と有機溶媒（Ｂ）との反応を抑制する方法を提供すること。
【解決手段】極性溶媒（Ａ）とイオン交換樹脂を用いて、イオン交換樹脂との接触により極性溶媒（Ａ）と反応する有機溶媒（Ｂ）を含む重合体溶液中のイオン性不純物を除去する工程を含む重合体の製造方法において、該工程を行う前に、極性溶媒（Ａ）と有機溶媒（Ｂ）とを混合した液をイオン交換樹脂と接触させる工程を含むことを特徴とする重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−０−１）［式中、Ｒ^１’およびＲ^２’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜５の低級アルキル基を表し、Ｙ^１はエーテル結合を有していてもよい炭素数２〜１５のアルキレン基を表し、Ｘは炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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本発明は、コポリマー骨格、この骨格に共有結合した複数の側鎖、および解離できる状態でこの骨格に連結した複数の白金化合物を含む、生体適合性共役ポリマーナノ粒子に関する。本発明は更に、解離できる状態で白金化合物がジカルボニル化合物に連結している、ジカルボニル‐脂質化合物に関する。本発明はまた、癌または転移を治療する方法に関する。本方法は、癌または転移の治療を必要とする対象を選択する工程、および本発明の任意のナノ粒子、化合物、または組成物の有効量を対象に投与する工程を含む。

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本発明は、イオン交換樹脂及びそれらの水からのクロムの除去への使用を含む。一態様において、本発明は、水をイオン交換樹脂と接触させることによって水源からクロムを除去する方法であって、前記イオン交換樹脂が、それぞれが５０モル％超のスチレン含量と第４級アンモニウム官能基とを有する少なくとも２種のポリマー成分の相互侵入ポリマーネットワーク（ＩＰＮ）を含む架橋コポリマーの粒子を含む方法を含む。 （もっと読む）

【課題】テレキリックポリマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ある態様では、下記式を有する化合物およびその製造方法を提供する。
【化１】
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【課題】製造効率が良好で、使用化合物の選択範囲の広い修飾擬ポリロタキサンおよび修飾ポリロタキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】修飾シクロデキストリンの環状分子の穴部に軸分子を貫通させ包接錯体を形成させる反応により修飾擬ポリロタキサンを製造し、次いで得られた修飾擬ポリロタキサンの軸分子とキャッピング剤とを反応させて、前記軸分子の両末端にブロック基を付加する修飾ポリロタキサンの製造方法において、前記包接錯体を形成させる反応の溶媒に、有機溶媒を用いる。 （もっと読む）

【課題】 優れた消臭性を示し、固形消臭剤として利用可能な、金属含有架橋両性共重合体及びその製造方法、並びに上記金属含有架橋両性共重合体からなる消臭剤を提供すること。
【解決手段】 カチオン系単位及びアニオン系単位を有する両性共重合体と架橋剤とを反応させてなる架橋両性共重合体と、金属イオンと、を含有する金属含有架橋両性共重合体。 （もっと読む）

【課題】
従来の吸収性樹脂では、これらを用いて得られるゲルは、光（例えば、日光）照射下における長期安定性を必ずしも満足し得ない。
【解決手段】
水溶性ビニルモノマー（ａ１）及び／又は加水分解により（ａ１）となるビニルモノマー（ａ２）並びに内部架橋剤（ｂ）を必須構成単位とする架橋重合体（Ａ）を含んでなる消臭及び／又は芳香剤用吸収性樹脂であって、下記の要件（１）及び（２）の要件を具備してなる消臭及び／又は芳香剤用吸収性樹脂（Ｃ）を用いる。
要件（１）：吸収性樹脂（Ｃ）における、重合していない（ａ１）、（ａ２）及び（ｂ）の合計含有量が、（Ｃ）の重量を基準として１０〜２００ｐｐｍであること。
要件（２）：吸収性樹脂（Ｃ）をイオン交換水で５０倍に膨潤させたゲル（Ｇ１）のゲル強度（ＧＳ１）が３．０〜８．０ｋＮ／ｍ²であること。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲとエッチング耐性とのバランスがとれ、極微細で均一なパターン形成を可能とするリソグラフィー用重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィー用重合体の製造方法は、側鎖にＯＨ基を有する繰り返し構造単位を少なくとも一つ有する高分子化合物（Ｂ）と、特定構造の多官能ビニルエーテル化合物（Ｃ）とを触媒の存在下で反応させてリソグラフィー用重合体を製造する方法であって、前記高分子化合物（Ｂ）に対して、ＯＨ基反応性官能基を１つ有する化合物（Ｄ）による前処理を施した後、高分子化合物（Ｂ）と化合物（Ｃ）とを反応させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 クラッドおよびコロイド微粒子を含む懸濁性金属腐食生成物の除去性能に優れ、かつ溶出が少なく、かつ機械的強度の大きいイオン交換樹脂を提供する。
【解決手段】 マクロポーラス型のイオン交換樹脂であって、水銀圧入法で測定したときの細孔容積が、前記イオン交換樹脂の乾燥重量１ｇあたり０．５ｍＬ／ｇ以上であり、水銀圧入法で測定したときの細孔半径が、０．１μｍ以上であり、かつ、イオン交換樹脂の振とう濁度試験で溶出する濁度成分が、４５ｐｐｍ以下である、ことを特徴とする、イオン交換樹脂。水銀圧入法で測定したときの細孔容積が、水湿潤状態での体積あたり０．２０ｍＬ／ｍＬ以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、透明性に優れ、被着体汚染が少なく、かつ十分に帯電防止性能を有する粘着剤を提供することである。
【解決手段】（メタ）アクリレート系共重合体（Ａ）を含有する粘着剤であって、該共重合体（Ａ）が第４級アンモニウム基（Ｑ）と−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−単位（Ｅ）を有することを特徴とし、好ましくは（メタ）アクリレート系共重合体（Ａ）の重量に基づいて、第４級アンモニウム基（Ｑ）を０．０５〜０．７モル／１０００ｇ、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−単位（Ｅ）を０．１５〜６．０モル／１０００ｇ含有する粘着剤。 （もっと読む）

本明細書中に提供されているのは、ポリオレフィン鎖上に１つ又は複数のエキソオレフィンの末端基を含有するポリオレフィンを調製するための方法であって、イオン化ポリオレフィンを、アルコキシシラン又はエーテルで失活させるステップを含む方法である。一部の実施形態では、本方法は、以下のスキームＩで表される。一部の実施形態では、アルコキシシラン又はエーテル化合物は、式ＩＩ（式中、Ｙは、炭素又はケイ素であり、Ｒ_１は、ヒドロカルビルであり、Ｒ_２〜Ｒ_４は、それぞれ独立して、水素又はヒドロカルビルである）を有する。

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【課題】噴霧乾燥法を用いることなく、また重合体のガラス転移温度に関係なく、さらには重合体が有機溶剤中で凝集することなく、乳化重合で得られたエマルションから水を除去し、含水率を低減できる重合体溶液の製造方法を実現する。
【解決手段】沸点が１００℃以上の溶剤中に、アクリル系重合体エマルションを滴下して加熱し、該アクリル系重合体エマルション中の水分を留去する、重合体溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲとエッチング耐性とのバランスがとれ、極微細で均一なパターン形成を可能とするリソグラフィー用重合体とその製造方法、リソグラフィー用組成物及び該組成物を使用した半導体の製造方法の提供。
【解決手段】芳香族環式基を有するアセタール結合で架橋された重合体、すなわち、下記式で示す繰り返し構造単位を有する重合体により上記課題を解決する。一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、は各々独立に、水素原子、シアノ基、等を表す。Ｘ¹、Ｘ²は各々独立に、単結合、あるいは置換基を有していても良い２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、等を表す。Ｘ³、Ｘ⁴は各々独立に、単結合、もしくは−ＣＯ−を表す。Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
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【課題】水に対する安定性が高く、耐熱性に優れ、酸発生剤により発生する酸に対する解離性に優れる樹脂を提供する。
【解決手段】式（１）で表される繰返し単位を含み、サイズ排除クロマトグラフィにより測定した質量平均分子量が１，０００〜５００，０００である。


Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ’は酸の作用により解離する基を表し、該重合体は側鎖にアダマンタン基に由来する嵩高い基を有し、更に側鎖末端に導入される基を解離させるため分子設計する。 （もっと読む）

【課題】タイヤのグリップ性能および耐摩耗性に優れるタイヤ用ゴム組成物ならびにそれを用いたタイヤを提供する。
【解決手段】分子鎖末端が、−ＳＨ、−ＣＳＳＨ、−ＳＯ_３Ｈ、−（ＣＯＯ)_x Ｍ、−（ＳＯ_３)_x Ｍおよび−ＣＯ−Ｒ（なお、前記官能基において、Ｍはカチオン、ｘはＭの価数に依存する１〜３の整数であり、Ｒはアルキル基である）の群から選ばれる少なくとも１つの官能基で変性されており、重量平均分子量Ｍｗが３００〜５００００の共役ジエン重合体または共役ジエン−芳香族ビニル共重合体の少なくともいずれかを、ジエン系ゴム１００質量部に対して、３〜２００質量部配合したタイヤ用ゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線、特に電子線、Ｘ線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線使用時における真空中ＰＥＤ特性、ラインエッジラフネスおよびパターン形状を同時に満足し、またＥＵＶ光使用時における感度、溶解コントラストに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する、星型ポリマーまたはハイパーブランチドポリマー、（Ｂ）特定の活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、分散剤としての、特に水硬性凝結系用流動化剤としてのポリマーP、およびこのポリマーPを含む水硬性凝結系に関する。このポリマーPは、少なくとも１つの酸単位、少なくとも１つのエステル単位、および少なくとも１つの、テレフタレートまたはナフタレートを含有する単位を含む。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、感度、解像度、ラインエッジラフネス及びパターン倒れの４点で改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアセタール構造を有する繰り返し単位と特定のアセタール構造を有する繰り返し単位とを有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）