【課題】 耐熱性が高く、加えて、高い陰イオン伝導性、触媒や隔膜への高い接着性等を有し、陰イオン交換膜を用いた固体高分子形燃料電池における触媒電極層の接合樹脂として使用して、高い温度で発電可能で高出力とすることができる陰イオン伝導性樹脂、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 芳香族環を持つ非架橋のブロック共重合体であって、芳香族環に式（１）
−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｎ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ （Ｘ）_ｚ （１）
（ここで、ｎは３〜６の整数であり、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ炭素数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であり、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３の全部または一部が互いに連結して環を形成していても良く、Ｘは対アニオンでありｚはＸの価数の逆数である）
で示されるアンモニウム塩を持つセグメントと、該アンモニウム塩を持たず水に難溶なセグメントとを持つ、水に難溶性の陰イオン伝導性樹脂及び該陰イオン伝導性樹脂の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、ドライグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるタイヤの提供。
【解決手段】ゴム成分及びシリカを含有し、ゴム成分は、共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを含み、下式（ＩＩ）で表される基を有する化合物によって重合体が変性されてなり、シリカの分岐粒子間の平均長Ｗ^１が３０〜４００ｎｍ。


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【課題】光酸発生剤を用いずに、特定の部分をアルカリ溶液で溶解して除去した高分子膜の提供。
【解決手段】（Ａ）窒素カチオンを有するオニウム塩と（Ｂ）アルカリ難溶性樹脂を含有する組成物を支持体の上に適用して膜を形成すること、および上記膜の表面の一部または全部に、プラズマを照射してプラズマ照射した部分をアルカリ溶液で溶解除去することを含む高分子膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状、残渣低減、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、また、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス、並びに、樹脂の製造方法の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂（Ｐ）を含有し、前記樹脂（Ｐ）の分散度が１．２０以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能をバランス良く向上できるタイヤ用ゴム組成物を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び特定の置換基を有するスチレン系化合物を共重合して得られ、末端が窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含む官能基を有する変性剤で変性された共重合体と、リン含有量が２００ｐｐｍ以下である改質天然ゴムとを含むタイヤ用ゴム組成物。
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【課題】モノカルボン酸からなるグラフト鎖に分子量の大きいポリアルキレングリコールを導入でき、分散剤として優れた性能を示すグラフト重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】第一の特定のポリアルキレングリコールに、少なくとも不飽和モノカルボン酸エステルを含む不飽和モノカルボン酸系単量体をグラフト重合させて重合体を得る工程Ｉ、及び、工程Ｉで得られた重合体を、さらに第二の特定のポリアルキレングリコールでエステル化する工程II、を有する水溶性グラフト重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】水酸化物イオン伝導性及び耐久性に優れ、かつ、ヒドラジンを燃料とするアルカリ形燃料電池に好適な電解質を提供すること。
【解決手段】鎖状高分子の高分子鎖中に炭化水素セグメント又は炭化フッ素セグメントからなる疎水部を備え、水素、フッ素、ヒドロキシル基、又は、炭素数が１から１０の炭化水素基もしくはフッソ化炭化水素基などの側鎖を有する環状４級アンモニウム塩から構成される親水部が、環状構造を形成するいずれか２個以上の原子を介して疎水部と結合する構成からなるヒドラジンを燃料とする燃料電池に用いられる電解質。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いＥＤＷを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつＢｌｏｂ欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の３種類の繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）２−フェニルベンゾイミダゾール系塩基性化合物を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
難着霜性および除霜性に優れ、その優れた性能を長期間持続することが可能な被膜を形成できる親水化処理組成物、及び該親水化処理組成物を塗装してなる親水性被膜を有する熱交換器用部品を提供すること。
【解決手段】
特定の構造を有するポリエーテル化合物と反応して結合を形成することの可能な官能基を有する重合性不飽和モノマーと該ポリエーテル化合物の反応により得られるポリエーテル基含有重合性不飽和モノマーを含むモノマー混合物を重合して得られるポリエーテル基含有アクリル樹脂（Ａ）と架橋剤（Ｂ）を含んでなることを特徴とする親水化処理組成物。 （もっと読む）

【課題】多種の顔料にわたって顔料分散性が良好で高濃度化が可能で、高い光沢と鮮明な色彩を有する水性顔料分散体と、それを用いてなる、乾燥性や耐熱性等の良好な水性印刷インキ組成物を提供する。
【解決手段】スチレン系単量体、スチレン系単量体、スチレン・α−オレフィン・マレイン酸系共重合体樹脂を構成する全構成分中に３〜１５質量％のα−オレフィン系単量体、およびマレイン酸系単量体を主たる成分とするラジカル重合性単量体を共重合して得られ、マレイン酸系単量体の無水環またはカルボキシル基との反応に基づく一般式（１）で表される基および一般式（２）で表される基を分子内に少なくとも１個含有する、特定の酸価および質量平均分子量のスチレン・α−オレフィン・マレイン酸系共重合体樹脂を、顔料１００質量部に対して特定割合で含有する水性顔料分散体。
−ＣＯＯ−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）ｐ（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）ｑＲ１ 一般式（１）
−ＣＯＯ−Ｒ２ 一般式（２） （もっと読む）

【課題】低添加量で熱可塑性樹脂に十分な帯電防止能を付与する共重合体を含有しており、かつ物性低下の抑制された樹脂組成物および当該樹脂組成物を使用して成形した成形品を提供する。
【解決手段】
下記一般式（１）で表される共重合体（Ｂ）とポリプロピレンおよびポリエチレンとからなる樹脂組成物。
（式中、Ａは炭素数２〜２０のオレフィンの重合した基、Ｒ１及びＲ２は、水素原子あるいは炭素数１〜１８のアルキル基でありかつ少なくともどちらか一方は水素原子であり、Ｘ１およびＸ２は、ポリアルキレングリコール構造を含んでなる同一または相異なる基を表す。）
【化１】
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【課題】プロセス時間の短縮ができ、またＰＥＢまでの経過時間の影響がなく、仕上がり寸法や形状を安定化させることができるレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】（１）（Ａ）側鎖にアセタール構造を有するスチレンユニットが２５〜４０モル％及びｐ−ヒドロキシスチレンユニットが６０〜７５モル％であり、分子量分布が１．５〜２．０であるポリマー、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物を基板に塗布する工程、（２）フォトマスクを介して波長３６５〜４３６ｎｍの光で露光する工程、（３）露光後の加熱処理は行わずに、現像液にて現像する工程、を含むレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 汎用の材料金属により構成された装置により、ジクロロブテンを高収率で、後工程での溶媒分離に要するエネルギーが少なくて済む、ジクロロブテン濃度の高い反応液を得る方法を提供し、より高い選択性でクロロプレンモノマーの原料である３，４−ジクロロ−１−ブテンを製造する方法を提供し、さらに、これらの方法に用いられる微粒径陰イオン交換樹脂を提供する。
【解決手段】 溶媒中２０〜７０℃の反応温度で１，３−ブタジエンに塩素を反応させ、３，４−ジクロロ−１−ブテンおよび１，４−ジクロロ−２−ブテンを製造するジクロロブテンの製造方法に使用する触媒としての微粒径陰イオン交換樹脂であって、平均粒径が０．５〜１０μｍであることを特徴とする微粒径陰イオン交換樹脂、その製造法、並びにそれを用いたジクロロブテンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な形状及び良好なラインエッジラフネスを示す化学増幅ポジ型レジスト組成物。
【解決手段】酸解離性炭酸エステル基を有するベンゼンスルホン酸のトリスルホニウム塩型光酸発生剤と、ヒドロキシスチレン及びフェノキシ置換または無置換のアルコキシアルキル型の酸解離性基を含むヒドロキシスチレン単位を含む共重合体樹脂とを含む化学増幅ポジ型のレジスト組成物。光酸発生剤として、特に、２−アルキルー２−アダマンチル炭酸エステル置換ベンゼンスルホン酸のトリフェニルスルホニウム塩が望ましい。 （もっと読む）

【課題】血液、血液を含む体液、および水様便等の排泄物のような高分子量体含有粘性液が吸水性樹脂粒子間で拡散して吸水性樹脂粒子の内部にまで浸透するような、高分子量体含有粘性液に対する充分な吸収能力を有する吸水性樹脂を提供する。
【解決手段】吸着ガスとしてクリプトンガスを使用したＢＥＴ多点法によって測定された比表面積は０．０５ｍ²／ｇ以上であり、０．９重量％生理食塩水を保持する保水能力は５〜３０ｇ／ｇである、高分子量体含有粘性液の吸収に適した吸水性樹脂。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物、を含有するレジスト組成物であって、ベース樹脂は、一般式（１）で表される繰り返し単位を含有すると共に、一般式（２）及び／又は（３）で表される繰り返し単位を１種あるいは２種以上含有し、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、一般式（１）、（２）及び（３）で表される繰り返し単位を７０モル％以上含有する。
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ヨウ素、臭素又は塩素を含有する硬化部位を含む非晶質ペルオキシド硬化性フルオロポリマーと、半減期が１０時間である温度が９０℃以下である有機ペルオキシドと、助剤と、を含む組成物が提供され、この非晶質フルオロポリマーは２５℃及び０．１ｒａｄ／ｓにて３００ｋＰａ以下の貯蔵弾性率を有し、また、このフルオロポリマーの９０％硬化時間は、ＡＳＴＭ Ｄ５２８９−０７で封止式ねじりせん断ロータレス加硫試験機により測定すると、１１０℃において３０分未満である。このような組成物を硬化させることにより調製可能であるフルオロエラストマーもまた提供される。このような組成物を使用してこのようなプロセスから単数及び複数の現場硬化物品を製造する現場硬化プロセスも更に提供される。 （もっと読む）

本発明は、セベラマーの製造方法に関し、具体的には、セベラマーを高い収率で製造しうる、特殊で高価な装置の使用せずに、従来型の反応器を使用して、セベラマー炭酸塩/炭酸水素塩の製造する方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー主鎖、及びこのポリマー主鎖とエステル基を介して結合したポリエステル側鎖からなる櫛形ポリマーであって、
（ｉ）ポリマー主鎖が、ポリカルボン酸またはコポリマーポリカルボン酸（Ａ）であること；
（ｉｉ）ポリマー側鎖が、次の構成分、すなわち（Ｂ１）場合によってはスルホン化されたＣ_８−ジカルボン酸、（Ｂ２）ジオール、及び／または２つのＯＨ基を有するポリオールエーテル、並びに（Ｃ）式−Ｏ−（ＡＯ）_ｘＲ（式中、Ａはエチレン、プロピレンまたはブチレンを意味し、ｘは１〜１００の数を意味し、そしてＲは炭素原子数１〜３０の炭化水素残基を意味する）の非イオン性末端基を含むこと；
（ｉｉｉ）ポリエステル側鎖の総質量パーセントＢ１＋Ｂ２＋Ｃが、櫛形ポリマーの総質量を基準に８０〜９９．９％であること；
（ｉｖ）ポリエステル側鎖が、Ｂ１＋Ｂ２／Ｃの質量比率を２：１〜１００：１とした成分Ｂ１、Ｂ２及びＣのエステル化反応によって得られること；
を特徴とする、前記櫛形ポリマーに関する。 （もっと読む）