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Fターム[4J100HE20]の内容

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【課題】適用し得る高分子化合物の範囲が広く、且つ、簡便に光学活性の付与された高分子化合物を得る方法の提供。
【解決手段】下記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物に、円偏光を照射する、高分子化合物の変性方法。


(式中、Rは置換基を有していてもよい2価の芳香族基又は下記式(2)の2価の基、)
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【課題】本発明は、アルカリ水溶液に対して十分な耐性を有する被めっき層形成用組成物、および、めっきの均一性に優れた金属層を有する積層体の製造方法、を提供することを目的とする。
【解決手段】熱、酸または輻射線により疎水性から親水性に変化する官能基と、カルボキシル基、ヒドロキシル基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、クロロシリル基、1級アミノ基、2級アミノ基、3級アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、(メタ)アクリルアミド基、アリル基、スチリル基、マレイミド基、およびシンナモイル基からなる群より選択される少なくとも一種の架橋性基とを有するポリマーを含む被めっき層形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】分子量及び分子量分布が制御されたポリマーを、高い収率で、かつ短時間で製造する。
【解決手段】マクロリビング開始剤を調製する工程と、マクロリビング開始剤に、共役オレフィン化合物を添加する工程と、前記化合物を添加した後、光照射することにより、前記化合物を重合成長末端とするラジカルを選択的にカップリング反応させて二量化する工程とを備えることを特徴とするポリマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】溶融成形における十分なロングラン性を備え、かつ、黄変等の着色が低減されたEVOH樹脂の製造方法、この製造方法から得られるEVOH樹脂、及びこの樹脂から得られる多層構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、エチレン−ビニルアルコール共重合体又はこのエチレン−ビニルアルコール共重合体の前駆体であるエチレン−ビニルエステル共重合体に赤外線を照射する赤外線照射工程を有するエチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性を有する硬化性環状ホスファゼン系化合物およびこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】6つの置換位置を持っている環状ホスファゼン物質に2〜6つの硬化性反応基を導入し、残りの位置に様々な構造の置換基を導入する方法で硬化度や分子の分極化および自由体積などを調節することにより、低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性および界面接着力を有する物質を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、DOFに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】ヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】(A)式(1)で表される繰り返し単位を含有し、かつ、分子内に第1の官能基を2つ以上含有する高分子化合物であって、該第1の官能基が、電磁波もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第2の官能基を生成する官能基である高分子化合物と、(B)分子内に活性水素を2つ以上含有する低分子化合物及び分子内に活性水素を2つ以上含有する高分子化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを、含有する有機薄膜トランジスタゲート絶縁層用樹脂組成物。
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【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても平坦性、光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れた高解像度のパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記の成分(A)、(B)及び(C)からなり、各成分の構成割合が(A)100質量部に対して(B)5〜50質量部及び(C)1〜40質量部に設定されている。成分(A):フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位(a1)、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位(a2)、α,β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位(a3)及び(メタ)アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位(a4)からなる共重合体。成分(B):キノンジアジド基を有する感光剤。成分(C):2個以上のエポキシ基を有する硬化剤。 (もっと読む)


【課題】優れた改質効果を有する改質天然ゴム、および、改質効率の高い改質天然ゴムの製造方法を提供する。
【解決手段】リン含有量が200ppm以下の天然ゴムに、不飽和結合を有する有機化合物のグラフト共重合処理を施して改質したことを特徴とする改質天然ゴムに関する。 (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れた液晶フィルムが得られる液晶性高分子を提供する。
【解決手段】少なくとも式(1)で表されるオキセタニル基を有する(メタ)アクリレート、式(7)で表されるアダマンチル基を有する(メタ)アクリレートおよび液晶性(メタ)アクリレートを共重合して得られる液晶性高分子。


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【課題】遺伝子導入効率がさらに向上した遺伝子導入剤及びその製造方法を提供する。
【解決手段】芳香環に、分岐鎖としてのN,N−ジ置換−ジチオカルバミルメチル基が3個以上導入された芳香族化合物をイニファターとし、このイニファターの分岐鎖に少なくともビニル系モノマーを光照射リビング重合させた分岐型重合体、又はこの分岐型重合体の分岐鎖を架橋反応させた架橋体よりなる遺伝子導入剤であって、該分岐型重合体又は該架橋体を分子量分画して得た、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比Mw/Mnが1.0〜1.5の画分よりなることを特徴とする遺伝子導入剤。 (もっと読む)


【課題】側鎖にカルボン酸基を有する高分子化合物を比較的短時間で且つ効率よく改質できる高分子化合物の改質方法、プラスチック用低収縮材及び高分子化合物の利用方法を提供する。
【解決手段】側鎖にカルボン酸基を有する高分子化合物に、マイクロ波の照射下、アルコールを脱水反応させて前記高分子化合物の改質物を得ることとする。 (もっと読む)


【課題】費用対効果が高く、複数のホログラフィ像を記録することができ、且つ外部刺激に対して制御下での観測可能な応答を伴うセンサの製造を可能とするホログラフィック記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るホログラフィック記録媒体は、ポリマーマトリックスと、光環化付加による橋かけ環の形成により二量化する化学基とを含み得る。前記二量化可能な化学基は、(i)光環化付加による橋かけ環の形成により二量化し、且つ(ii)ポリマーマトリックス全体にわたり分散し、その分散密度は、(1)二量化可能な化学基の一部を二量化することによるホログラムの記録と、(2)外部刺激の存在に対してポリマーマトリックスが応答したときのホログラムの光学特性の変化が検出されるのを可能とするのに十分な密度である。 (もっと読む)


【課題】解重合天然ゴムの分子量および分子量分布の制御性が良く、着色や環境汚染の問題の発生を低減でき、かつ脱蛋白天然ゴムラテックスおよび天然ゴムラテックスのいずれについても解重合を迅速に行なうことができる解重合天然ゴムの製造方法を提供する。
【解決手段】天然ゴムラテックスまたは脱蛋白天然ゴムラテックスにラジカル発生剤を添加した後にマイクロ波を照射する解重合天然ゴムの製造方法である。ここで、ラジカル発生剤は過酸化物系ラジカル発生剤であることが好ましく、過酸化物系ラジカル発生剤は過酸化水素であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】光分解反応を利用して、電子写真の現像材、印刷用インク、建築用塗料等の構成材料としての用途が見込まれる高分子の集合体よりなるナノ粒子を提供すること、及び光記憶材料や光センサーなどへの応用展開が見込まれる光分解による新しいナノ粒子の製造技術の提供。
【解決手段】スチレン系高分子とtert−ブトキシ基含有の高分子からなるブロック共重合体に、光酸発生剤存在下で光照射することにより、該共重合体の一部が分解し集合することにより数十ナノメートルのナノ粒子が得られることを見出し、本発明を完成した。 (もっと読む)


【課題】フルオロポリマーへの不飽和モノマーのグラフト方法と、得られたグラフト化ポリマーを含む多層構造物。
【解決手段】 下記(a)〜(d)の段階を特徴とする方法:(a)フルオロポリマーを不飽和モノマーと溶融混合し、(b)得られた混合物をフィルム、シート、顆粒または粉末の形にし、(c)得られた生成物に空気の非存在下で光子(γ)または電子(β)を線量1〜15Mradで照射し、(d)必要な場合にはさらにフルオロポリマーにグラフトしていない不飽和モノマーを除去する処理する。得られたグラフト化ポリマーからなる少なくとも1つの層と、別の材料からなる少なくとも1つの層とを有する構造物はガソリンおよび空調用流体に対する遮断性に優れ、壜、タンク、コンテナ、パイプ、容器、包装材料用フィルムに加工できる。基材の保護層としても用いられる。 (もっと読む)


【課題】少なくとも50重量%のVDFを含み、少なくとも一種の不飽和極性モノマーが照射グラフトされた、VDFとVDFと共重合可能な少なくとも一種の他のモノマーとを含むVDFコポリマー、および、この変性コポリマーとPVDFとを含む混合物。
【解決手段】グラフト前のVDFコポリマーが下記(1)〜(3)の特徴を有する:(1)結晶化温度Tc(ISO11357−3規格に従ってDSCで測定)が50〜120℃、好ましくは85〜110℃、(2)降伏強度σYが10〜40MPa、好ましくは10〜30MPa、(3)溶融粘度η(細管レオメータを用いて230℃および100s-1で測定)が100〜1500Pa.s、好ましくは400〜1200Pa.s。この変性コポリマーまたは混合物は熱可塑性ポリマー、エラストマーまたは無機材料と組み合わせて用いることができる。 (もっと読む)


基板上に、アルカリ水溶液中に可溶性又は分散性であって、(メタ)アクリル反復単位、イミド反復単位、及び対応するエチレン系不飽和重合性モノマーから誘導されるアミド反復単位を含むコポリマーを含んで成る輻射線感光性塗膜を有し、前記コポリマーが、ネガ型又はポジ型となることができる平版印刷版前駆体に増強された耐化学薬品性を提供する、単層又は多層平版印刷版前駆体。 (もっと読む)


【課題】狭い分子量分布を有する水素化ニトリルゴム、その使用およびその製造方法を提供する。
【解決手段】新規の方法により、非常に狭い分子量分布と、それに対応して低い多分散指数値とを特徴とする新規の水素化ニトリルゴム(B)を製造する。本製造方法は超音波を使った水素化ニトリルゴム(A)の処理を含み、その結果得られる水素化ニトリルゴム(B)は、水素化ニトリルゴム(A)より低い重量平均分子量(M)を有する。得られた水素化ニトリルゴム(B)は、押出法または射出成形法での加工による成形品の製造に対して優れた適性を有する。 (もっと読む)


本発明の発見は、主たる重合性の基に加えて可逆的な光架橋性の基を含有する単量体を使用する。これらの材料の機械的な性質及びその光活性化された形状記憶効果の可逆性は、弾性率及び形状記憶効果における変化をもたらすための光照射を使用することの有効性を立証する。その好適な実施形態において、その反応混合物は、光反応性の基及び重合性の基を含む光反応性の単量体;より好ましくは、アクリラートに基づいたものである、単量体の混合物である、第二の単量体;多官能性の架橋剤、好ましくは1,6−ヘキサンジオールジアクリラート(HDODA);開始剤、好ましくは遊離基開始剤;及び第五の、自由選択の、変性させる重合体である構成成分を含む。その第二の単量体、架橋剤、及び開始剤の混合物は、その反応性の単量体が、中へ組み込まれる基礎材料の重合体マトリックスを含む。その光反応性の単量体の重合性の基は、その光反応性の単量体が、その基礎材料の重合体マトリックスと重合することを許容する。

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