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Fターム[4J100HE22]の内容

Fターム[4J100HE22]に分類される特許

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【課題】低粘度で吐出性に優れ、かつ耐熱性、エッチング耐性、めっき耐性など各種耐性に優れる剥離レジスト形成用硬化性組成物、及びその硬化物並びにそれを用いた電子回路基板を提供する。
【解決手段】式(I):


(Rは、水素原子又は1価の有機基。有機基は、エーテル基、ハロゲン原子を有していてもよい。)で表わされる化合物を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】反応阻害や着色やケン化反応の進行をほとんど引き起こすことなく、低重合度で無機イオン成分の残留が少ないポリビニルアセタールを製造することができるポリビニルアセタールの製造方法を提供する。また、該ポリビニルアセタールの製造方法を用いて製造されるポリビニルアセタールを提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールを過酸化水素と接触させて低重合度化する工程1、及び、酸触媒を用いて酸性条件にした系において、前記工程1で低重合度化したポリビニルアルコールをアルデヒドと反応させてアセタール化する工程2を有し、工程1において、波長が200〜300nmの紫外線を照射するポリビニルアセタールの製造方法。 (もっと読む)


【課題】低温であってもスルホン酸型官能基を有する含フッ素ポリマーを分解でき、得られる低分子量含フッ素化合物への金属(ただし、アルカリ金属およびアルカリ土類金属を除く。)の混入が少ないスルホン酸型官能基を有する含フッ素ポリマーの分解方法を提供する。
【解決手段】水中でスルホン酸型官能基を有する含フッ素ポリマーに光を照射して、スルホン酸型官能基を有する含フッ素ポリマーを分解する、スルホン酸型官能基を有する含フッ素ポリマーの分解方法。 (もっと読む)


【課題】高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位(A)と、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基を含有する繰り返し単位(B)とを含んだ樹脂(P)と、下記一般式(1−1)又は(1−2)により表される化合物(Q)とを含有している。


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【課題】樹脂層の耐摩耗性を高め、潤滑性を向上させることで、現像剤による汚染を未然防止し且つ長期間に亘って高画質を維持可能な現像剤担持体を提供する。
【解決手段】基体及び樹脂層を有する現像剤担持体であって、該樹脂層が式(1)で示されるユニットを有する変性シリコーン樹脂を含有する。nは1以上の整数を示す。
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【課題】分子量及び分子量分布が制御されたポリマーを、高い収率で、かつ短時間で製造する。
【解決手段】マクロリビング開始剤を調製する工程と、マクロリビング開始剤に、共役オレフィン化合物を添加する工程と、前記化合物を添加した後、光照射することにより、前記化合物を重合成長末端とするラジカルを選択的にカップリング反応させて二量化する工程とを備えることを特徴とするポリマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】高収率でレジスト組成物用樹脂を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】溶剤(1)及び溶剤(2)の混合溶剤中で、モノマーを重合させることを特徴とするレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。
溶剤(1):溶解度パラメーターが11.4〜13.0[cal/mol]1/2の範囲内である溶剤;
溶剤(2):テトラヒドロフラン。
当該製造方法は、重合開始剤の作用によりモノマーを重合することが好ましく、モノマー、重合開始剤及び溶剤(2)を含む混合液を、溶剤(1)中に滴下して、モノマーを重合させることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高度にフッ素化されたフルオロポリマーへの紫外線の適用による、一般的に、燃料電池などの電解槽内でポリマー電解質膜として使用される膜の形態の、架橋ポリマー電解質の製造方法を提供する。
【解決手段】燃料電池などの電解槽中で、一般的にポリマー電解質膜として使用される膜の形態の架橋ポリマー電解質を製造する方法、および本方法により製造されたポリマーであり、本方法は、高度にフッ素化されたフルオロポリマーへの紫外線の適用を含み、フルオロポリマーは、テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖、式−SOX(式中、XはF、Cl、Br、OH、または−O(式中、Mは1価の陽イオンである)である)で表される基を含む第1の側基、およびBr、Cl、またはI、を含む第2の側基を含む。膜の厚さは、一般的に9 0 ミクロン以下、より一般的には6 0 ミクロン以下、さらに最も一般的には3 0 ミクロン以下である。 (もっと読む)


【課題】高屈折率の硬化物を形成できる新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】フルオレン骨格を有するエチレン性不飽和化合物(1)と、脂肪族ポリチオ(メタ)アクリレート化合物などのチオ(メタ)アクリレート化合物(2)とで硬化性組成物を構成する。ポリチオ(メタ)アクリレート化合物は、通常、常温で液状の化合物で構成してもよい。このような液状の化合物(2)は、化合物(1)に対する相溶性に優れている場合が多く、液状の化合物(2)を使用すると、効率よく低粘度化して、ハンドリング性に優れた硬化性組成物を効率よく得ることができる。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐熱透明性、表面硬度などの一般的要求特性を満たすと同時に、高温、高湿の厳しい条件下においても、ITO透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】[A]シロキサンポリマー、[B]水酸基を少なくとも1つ有するフェノール基を側鎖に有する繰り返し単位を含むポリマー、及び[C]感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤を含有する感放射線性組成物である。 (もっと読む)


一般構造:B−S−A−S−BのOLED化合物において、棒状核Aは、縮合芳香族環構造を含んでおり、そしてこの縮合芳香族環構造は、少なくとも1つのさらなるフルオレン環構造と縮合されたフルオレン環構造を含んでおり、この縮合芳香族構造を構成するフルオレン環系は、9位で置換されており、このフルオレンの9位は、酸化に対して感受性がないことを特徴とするOLED化合物。 (もっと読む)


【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(a)で表される化合物に由来する構造単位と、酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位とを有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂を含むレジスト組成物。[Wは、2価の芳香族炭化水素基を表す。Rは水素原子、式(R−1)で表される基又は式(R−2)で表される基を表す。]
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【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にKrFレーザー、極短紫外線、電子線、X線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、優れた解像性とエッチング耐性を有するネガ型レジスト組成物。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、及び/又は、アルカリ可溶性であり、酸の作用により架橋剤と反応してアルカリ不溶性になるベースポリマーと架橋剤の組み合わせ、(B)酸発生剤、(C)塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有するレジスト組成物であって、上記ベースポリマーとして用いるポリマーは、アセナフチレン系共重合体、あるいは該ポリマーの有する官能基を更に化学変換して得たポリマーであり、前記得られたポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、アセナフチレンモノマー由来の繰り返し単位の合計が50モル%以上であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能なフィルムを与えることができる組成物を提供する。
【解決手段】式(1)で表される化合物及びカイラル剤を含む組成物。


[式(1)中、Arは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する2価の基を表し、Ar基中の芳香環に含まれるπ電子の数Nπは、12以上である。D及びDは、2価の有機基を表す。G及びGは、2価の脂環式炭化水素基を表す。E、E、B及びBは、2価の有機基を表す。A及びAは、2価の脂環式炭化水素基又は2価の芳香族炭化水素基を表す。k及びlは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】圧縮した場合の回復性、耐熱性、緩衝性、断熱性、軽量性、防音性に優れるアクリル系発泡シート、及び該アクリル系発泡シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のアクリル系発泡シートは、アクリル系樹脂から構成されたアクリル系発泡シートであって、構成するセルにおいて、セル長径が500μm以下のセルの割合が80%以上を占め、且つ発泡倍率が3倍以上であって、厚みが0.5〜5mmであり、シートの厚さ方向に縦長の異方性セル構造を有することを特徴とする。前記アクリル系発泡シートでは、異方性セル構造が独立気泡構造であり、厚さ方向の切断面での異方性セル構造の平均セル長径Lと平均セル短径Sとの比(L/S)が1.1〜3.0であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】側鎖に安定ラジカルを有する重合体を効率的に得る製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される(メタ)アクリル酸エステル(a)。
【化1】


(式中、Rは、水素又はメチル基、Rは、置換基を有していてもよい総炭素数1〜5のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又はシアノ基、R及びRは、置換基を有していてもよい総炭素数1〜5のアルキル基、置換基を有していてもよい総炭素数1〜5のアルキルカルボキシル基又は置換基を有していてもよい総炭素数1〜5のカルボキシルアルキル基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。) (もっと読む)


【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】中心孔を有する磁気記録媒体の第1の主面上に第1の凹凸パターンを有する硬化した第1の紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、磁気記録媒体の第1の主面とは反対側の第2の主面上に第2の凹凸パターンを有する硬化した第2の紫外線硬化性樹脂材料層を形成する。 (もっと読む)


【課題】実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】レジスト組成物が、下記の反応成分:
(1)アルカリ可溶性の重合体からなる基材樹脂、
(2)結像用放射線を吸収して分解し、酸を発生可能な光酸発生剤、及び
(3)前記光酸発生剤から発生せしめられた酸の存在下、前記基材樹脂の重合体と脱水結合反応を行い得る反応部位を有している脂環族系アルコール、
を組み合わせて含んでなるように構成する。 (もっと読む)


【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】所定の繰り返し単位を含む第一の重合体(A)と、酸の作用により解離する酸解離性官能基を有し、前記酸解離性官能基が解離してアルカリ可溶性となる第二の重合体(B)と、感放射線性酸発生剤(C)と、を含有する感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、接着力、厚さ精度、高さ均一性に優れ、かつ、段差埋め込み性に優れた樹脂組成物および該樹脂組成物を用いて作製した平坦性、機械強度に優れる半導体装置を提供することにある。
【解決手段】 (A)環状オレフィンの重合体またはその水素添加物および(B)下記一般式(1)で示される構造を有する化合物を含むことを特徴とする樹脂組成物、および該該樹脂組成物を用いて作製したことを特徴とする半導体装置である。
【化1】
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