【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、露光ラチチュード及びドライエッチング耐性に優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）、及び酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基と多環の脂環式炭化水素基とを有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】インクジェット法に適用した場合の吐出性に優れ、記録した画像の耐溶剤性及び定着性に優れたインク組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）水とを含む、インク組成物。


（一般式（１）において、Ｔは炭素数３〜４０の多価チオール化合物のチオール基から水素原子をｎ個除いた残基を表し、Xp1は、下記一般式（Ｐ−１）で表される基を有する重合体部位を表し、ｎは３〜１２の整数である。）
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【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクスを提供することにある。
【解決手段】非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び、酸の作用により前記高分子化合物（Ａ）を架橋する架橋剤（Ｃ）を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程（１）、該膜を露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程（４）をこの順番で有する、レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】経時保存性が良好で、微細な着色パターンを露光マスクのパターンサイズ通りに形成することができ、且つ、赤緑青のカラーフィルタを形成したときに高い解像力を有する固体撮像素子用のカラーフィルタを形成しうる着色感放射性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）下記一般式（１）で表される化合物を共重合成分として含むバインダー、及び（Ｃ）重合性化合物を含有し、前記（Ａ）顔料がＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６と、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８５と、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０とを含む着色感放射線性組成物。
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【課題】現像液への溶解性が高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
バインダー樹脂が、メタクリル酸に由来する構造単位、アクリル酸に由来する構造単位並びにメタクリル酸及びアクリル酸と共重合可能な単量体に由来する構造単位を有する共重合体を含む樹脂である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 可とう性に優れ、またアルカリ現像性を低下させることなく、残膜性がさらに向上した、カラーフィルタ製造に好適に用いられる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 カルボキシル基含有ラジカル重合性共重合体であって、該カルボキシル基が主鎖から元素数７以上離間した側鎖に配置され、さらに側鎖にラジカル重合性二重結合を有する、ことを特徴とするカルボキシル基含有ラジカル重合性共重合体を含む組成物により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】硬化に要する時間が短くて生産性を高めることができ、かつ貯蔵安定性に優れる光硬化性樹脂組成物であって、光透過性及び耐熱性（高温環境下での光透過性保持率）に優れる発光素子封止材を提供し得る光硬化性樹脂組成物、及び該光硬化性樹脂組成物を用いた発光素子封止材を提供すること。
【解決手段】（Ａ）末端変性水添スチレンブタジエンゴム１００質量部、（Ｂ）α−ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤及び／又はアシルホスフィンオキシド系光重合開始剤０．１〜１３質量部、及び（Ｃ）硫黄原子含有フェノール系酸化防止剤０．０１〜１５質量部を含有する、光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントに使用可能であり、且つレジスト現像性、エッチング耐性に優れる、ナノインプリント用硬化性組成物、及びこれを使用したレジスト膜を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用硬化性組成物は、シラノール基及び／又は加水分解性シリル基、並びに重合性二重結合を有するポリシロキサンセグメントと、該ポリシロキサン以外の重合体セグメントとを有する複合樹脂を含有する。


（式中、炭素原子は前記ビニル系重合体セグメントの一部分を構成し、酸素原子のみに結合したケイ素原子は、前記ポリシロキサンセグメントの一部分を構成するものとする） （もっと読む）

【課題】パターン膜の形成工程において、２．３８質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を現像液として用いても、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、特定の共重合体よりなる成分（Ａ）、キノンジアジド基を有するエステル化物よりなる成分（Ｂ）、２個以上のエポキシ基を有する化合物よりなる成分（Ｃ）および特定のフェノール化合物よりなる成分（Ｄ）を含有する。各成分の構成割合は、成分（Ａ）１００質量部に対して成分（Ｂ）５〜５０質量部、成分（Ｃ）１０〜７０質量部および成分（Ｄ）１〜４０質量部である。 （もっと読む）

【課題】高速でパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、欠陥が少なく、基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体（Ａ）を少なくとも１種と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体（Ａ）が、水素結合性官能基と含フッ素基を有する重合性単量体（Ａｘ）を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】現像性が高く、耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びにそれを用いた製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、星型ポリマー、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該星型ポリマーが、スルフィド結合を介して中心骨格からポリマー鎖が分岐し、ポリマー鎖の側鎖に酸基及び架橋性基を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）とを有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び耐溶剤性に優れ、かつコントラスト及び耐光性が低下しないカラーフィルタを形成し得る着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）バインダー樹脂を含有する着色硬化性組成物であって、（Ａ）着色剤が式フタロシアニン系色素とピリドンアゾ系染料とを含有する着色剤であり、（Ｃ）バインダー樹脂が、側鎖に二重結合を有する（メタ）アクリル樹脂であり、（メタ）アクリル酸から導かれる構成単位の含有量が、（Ｃ）バインダー樹脂を構成する全構成単位中、１０モル％以上４０モル％以下であることを特徴とする着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、パターン形状、液浸液追随性及びドライエッジング耐性のいずれにも優れる感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂、及び（Ｃ）アセトニトリル溶媒中で測定した波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数εが、トリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネートに対する相対比で０．８以下である放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）中、ＡＲ_１及びＡＲ_２は、芳香族基を表す。Ｒ_１は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。Ａ_１及びＡ_２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。ＺはＣ−ＡＲ_２とともに環を形成する連結基を表す。 （もっと読む）

【課題】高感度及び高解像度であり、さらに、高透明性、高接着性、高バリア性を有する感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成される透明絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂、（Ｂ）重合性多官能化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂が、（ａ１）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び／又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、（ａ２）エチレン性不飽和結合を有し、かつ、オキセタン環を有するオキセタンモノマーと、（ａ３）エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマー（前記（ａ１）及び（ａ２）のモノマーを除く）と、の共重合体からなる樹脂である感光性樹脂組成物及びこの樹脂組成物を用いて形成された透明絶縁膜。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、スタンパからの離型性、基材との密着性及び強度に優れる隔壁を形成可能な電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］脂環式アルキル骨格を有する重合性化合物、［Ｂ］フッ素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種の元素を有する化合物、並びに［Ｃ］重合開始剤を含有する電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物である。［Ａ］重合性化合物は、ジ（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】適正感度が高く、屈折率が低くかつ、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】
（Ａ）中空又は多孔質粒子と、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、
（Ｃ）下記Ａ群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、前記活性種の作用により現像液への溶解性が変化する樹脂
を含有することを特徴とする感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。
＜Ａ群＞ 水酸基、アミノ基、アミド基、ウレア結合、エステル結合、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能、及び、コーナー・プロキシミティ（Ｃｏｎｅｒ ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）性能に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。



一般式（Ａ１）において、Ｒ_３は酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒ_４は水素原子又は−ＣＯ_２Ｒ_５で表される基を表す。Ｒ_５は、ヘテロ原子を含んでもよい、１価の炭化水素基を表す。Ｒ_６は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。 （もっと読む）