【課題】レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び（ｂ２−１〜３）で表されるカチオン部を有する式（ｂ１−１）で表され、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】現像ラチチュードが広く、且つ、耐刷性に優れた平版印刷版が得られる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、該ポジ型平版印刷版原版により得られた平版印刷版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下層及び上層をこの順に形成して設けられた記録層を有してなり、前記下層が、水不溶性且つアルカリ水溶液に可溶性又は分散性の樹脂と、下層の全固形分の質量に対して５質量％〜５０質量％のフルオロ脂肪族基含有共重合体と、を含有する層であり、前記上層が、水不溶性且つアルカリ水溶液に可溶性又は分散性のポリウレタン樹脂を含有する層である赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、該ポジ型平版印刷版原版により得られた平版印刷版及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、１級又は２級の水酸基を備えた繰り返し単位（Ｃ）とを含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】表面極性をリソグラフィ的に変え、自己組織化層によるパターン形成方法の提供。
【解決手段】光酸発生剤を含む感光層の一部分を照射し、発生した酸を隣の下層１２０ａの部分に拡散させる工程。前記下層１２０ａは酸分解可能基、アタッチメント基および官能基を含む酸感受性コポリマーを含む。感光層は下層の表面上に配置されており、拡散させる工程は下層１２０ａおよび感光層を加熱することを含み、下層１２０ａ中の酸感受性コポリマーの酸感受性基は拡散した酸と反応して下層の表面に極性領域を形成し、前記極性領域はパターンの形状を有する。感光層は除去され、下層の表面上に自己組織化層１５０ｂを形成する工程。前記自己組織化層１５０ｂは極性領域に対する親和性を有するブロックと、極性領域に対する親和性が低いブロックとを有するブロックコポリマーを含む。第１もしくは第２のドメインのいずれかを除去し下層の部分を露出させる工程。 （もっと読む）

【課題】反射率、鉛筆硬度および耐クラック性に優れた微細構造体を提供する。
【解決手段】表面に略円形または略多角形の開口部を有する錘状凹部が形成された微細構造体であって、前記開口部の平均幅が４００ｎｍ以下であり、分子内に２つ以上の（メタ）アクリレート基を有する化合物（Ａｘ）を重合性化合物の合計量に対して８０質量％以上含有する光硬化性組成物（Ａ）の硬化物である微細構造体。 （もっと読む）

【課題】耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】中空構造を有する電子部品において前記中空構造を形成するリブ材または蓋材として用いられる感光性樹脂組成物であって、（Ａ）少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と（Ｂ）光重合開始剤とを含有してなる感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂組成物から得られる感光性フィルムを用いることを特徴とする。さらに、中空構造を有する電子部品の信頼性を大幅に向上させるために、（Ａ）成分として、アクリレート化合物又はメタクリレート化合物、具体的には、アミド基を含有するアクリレート化合物又はメタクリレート化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】可視光波長領域３８０〜７８０ｎｍにおける高い透明性、並びに高温高湿信頼性に優れ、更に高い光透過性を得るために屈折率を向上させた硬化物が得られる感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、及びこれらの感光性樹脂硬化物、並びにその硬化物よりなる可視光導光路を提供すること。
【解決手段】Ａ）アクリル重合体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む感光性樹脂組成物であって、（Ａ）アクリル重合体が、少なくともベンジルメタクリレートをモノマーとして重合した重合体である感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、及びこれらの感光性樹脂硬化物、並びにその硬化物よりなる可視光導光路。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く、かつ、ヤング率及び耐熱性が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基とかご状シルセスキオキサン構造を有する重合体と、（Ｂ）ＳｉＨ結合を有する化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成する場合であっても、露光部の強度や現像液耐性低下による現像欠陥や焼成欠陥の発生しにくい感光性ペースト、およびそれに最適な新規のポリマーを提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構成単位（Ａ）とアルカリ可溶性基を含有する特定構成単位（Ｂ）の両方を有することを特徴とするポリマーおよびこれを用いた感光性ペースト。
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【課題】 優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）を含有している。
【化１】
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【課題】高い感度を有し、現像時において残膜率が大きく、残渣の発生が抑制され、且つ、硬化して得られた膜は透明性が高く、しかも熱で着色することがない膜を形成しうるポジ型感光性組成物の提供
【解決手段】下記一般式（１）で表される群および側鎖に環状アルコキシアルキル基を有する群からなる少なくとも１種のモノマー（Ａ１）と、酸基を有するモノマー（Ａ２）と、架橋性基を有するモノマー（Ａ３）とを共重合してなる樹脂（Ａ）、及び感放射線酸発生剤（Ｂ）を含み、且つ含水量が０．０２質量％以上１．２質量％以下であるポジ型感光性組成物。
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【課題】リソグラフィー性能の低下要因となるリソグラフィー溶媒等への難溶解性の成分を除去できる共重合体の精製方法、および、この精製方法により得られる共重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】リソグラフィー用共重合体を、良溶媒に溶解させて共重合体溶液を調製する工程と、前記共重合体溶液に、前記共重合体を溶解しないが前記良溶媒には相溶し且つＦｅｄｏｒｓの方法による溶解度パラメーターの値が１８ＭＰａ^1/2以下である貧溶媒を、前記共重合体による沈殿が析出しない範囲で添加する工程（貧溶媒添加工程）と、前記貧溶媒添加工程後の共重合体溶液を濾過する工程とを備える共重合体の精製方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】現像性が良好で、膜減りのない良好な重合硬化膜を形成できる重合性組成物、および現像性及び耐汚れ性が良好で、かつ充分な耐刷性を有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（ａ）１分子中に、スルホベタイン構造を少なくとも２つ有し、かつエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する重合性ベタイン化合物、及び（ｂ）重合開始剤を含有する重合性組成物。該重合性組成物を含有する画像形成材料。該重合性組成物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】現像マージンが大きく、耐熱性、耐光性及び耐溶剤性に優れる着色感光性樹脂組成物、前記着色感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化膜、前記硬化膜を具備するカラーフィルタ、及び、前記カラーフィルタを具備する液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基が熱分解性基で保護された残基を有する構成単位（ａ１）、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２）、並びに、カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有する構成単位（ａ３）、を少なくとも含む共重合体、（成分Ｂ）感放射線性ラジカル重合開始剤、（成分Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに、（成分Ｄ）着色剤、を含むことを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】長期繰り返し使用しても高画質を安定に出力可能な電子写真感光体、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供すること。
【解決手段】導電性支持体上に感光層、硬化型保護層が順に積層された電子写真感光体において、該硬化型保護層がアダマンタン骨格を有するラジカル重合性化合物の硬化物を含むことを特徴とする電子写真感光体。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲ等のラフネス特性、孤立スペースパターン（トレンチパターン）のＤＯＦ、及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位及び下記一般式（ＩＩ）で表される非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）

【課題】再溶解性、微細パターンの実現能力に優れ、基板との密着力および分散安定性が改善されたアルカリ可溶性バインダー樹脂の提供。
【解決手段】不飽和二重結合を含んだモノマー、カルボン酸を含んだ不飽和二重結合性モノマー、およびアリル基を含む不飽和二重結合性モノマーを繰り返し単位として含み、分子量分布(Ｍｗ/Ｍｎ)が２.０〜３.５であることを特徴とするアルカリ可溶性バインダー樹脂およびこれを含むネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い感度を有し、熱安定性が高く、かつ、有機溶媒膨潤率が低い硬化膜を形成しうるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（１）で表される構成単位とアセタール若しくはケタールで保護されたカルボキシ基又はフェノール性水酸基を有する構成単位とを含む樹脂、（成分Ｂ）酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹は二価の連結基を表し、Ｌ²は三価の炭化水素基を表す。
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【課題】本発明の目的は、保存安定性と低温焼成を両立し、かつ充分な放射線感度を有する硬化膜形成用感放射線性樹脂組成物、耐熱性、耐薬品性、透過率、平坦性及び耐線熱膨張性に優れる硬化膜、並びに電圧保持率に優れる表示素子を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］（ａ１）カルボキシル基含有構造単位及び（ａ２）エポキシ基含有構造単位を有する共重合体、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤、［Ｄ］水酸基又はカルボキシル基を有する化合物、並びに［Ｅ］アミン化合物を含有し、２５℃における粘度が１．０ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下である硬化膜形成用感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）