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Fターム[4J100JA38]の内容

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Fターム[4J100JA38]に分類される特許

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【課題】
感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにそれらを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
上記目的を達成する本発明は、(A)特定のスチレン及びその誘導体から得られる2価の基10〜65質量部と、特定の(メタ)アクリル酸エステル及びその誘導体から得られる2価の基5〜55質量部と、(メタ)アクリル酸から得られる2価の基15〜50質量部とを有する100質量部のバインダーポリマー、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】解像度、密着性及びレジスト形状がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、脂環状又は分岐状の基を有する(メタ)アクリル酸エステル化合物及び(メタ)アクリル酸に基づく構成単位を有し、分散度が1.6以下であるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する。 (もっと読む)


【課題】疎水性が高く液浸水への溶出が低く、酸拡散制御による、高解像性パターンプロファイルの構築。
【解決手段】(A)式(1−1)の化合物(B)式(1−2)で示される酸発生剤、(C)ベース樹脂、(D)有機溶剤を含有するArF液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。


(Arはアリール基。)


(R1はアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基。R2は水素原子又はトリフルオロメチル基。Arはアリール基。) (もっと読む)


【解決手段】(A)酸不安定基を含む繰り返し単位(a1)と、環状の炭化水素基を有し、その環内にエステル基、エーテル基、炭酸エステル基又はスルホン酸エステル基のうち少なくとも1つを含む繰り返し単位(a2)と、オキシラン環を有する繰り返し単位(a3)を含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【効果】本発明によれば、良好なライン幅ラフネス(LWR)とマスク忠実性(MEF)を有し、微細パターンにおいても矩形性が高く、パターン倒れ耐性に優れたレジスト組成物を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、新規な化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有し、基材成分(A)は、式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)を有する樹脂成分(A1)を含有する[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基]。
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【課題】光酸発生剤を用いずに、特定の部分をアルカリ溶液で溶解して除去した高分子膜の提供。
【解決手段】(A)窒素カチオンを有するオニウム塩と(B)アルカリ難溶性樹脂を含有する組成物を支持体の上に適用して膜を形成すること、および上記膜の表面の一部または全部に、プラズマを照射してプラズマ照射した部分をアルカリ溶液で溶解除去することを含む高分子膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】EUV用又はEB用として有用なレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(a5−0−1)又は(a5−0−2)で表される基を含む構成単位(a5)を有する重合体(A1)を含有し、該構成単位(a5)を誘導するモノマー量が、該重合体(A1)に対して100ppm以下であるレジスト組成物。式中、Q及びQは単結合又は2価の連結基である。R、R及びRは有機基であり、RとRとは相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。ただし、式中の基−R−S(R)(R)は全体で芳香環を1個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】本発明の目的は、密集コンタクトホールパターン形成において、ホールブリッジの発生を抑制することができるブリッジ耐性に優れ、さらに解像性を十分満足するフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]単環のラクトン基を含む構造単位(I−1)及び酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体、[B]多環のラクトン基を含む構造単位(I−2)及び酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体、並びに[C]感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。 (もっと読む)


【課題】MEEF、CDU及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】[A]側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する(メタ)アクリレート単位(I)を有し、重量平均分子量が3,000以上8,000以下である重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物。また、[A]重合体は、酸解離性基を含む構造単位(II)をさらに有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】現像時における未露光部の溶解を抑制することができるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)無機粒子、(成分B)酸基を有する分散剤、(成分C)溶剤、(成分D)(a−1)酸及び/又は熱によって脱離する基を有する構成単位と(a−2)架橋性基を有する構成単位とを有する重合体、並びに、(成分E)光酸発生剤を含有し、成分Dの酸価が、50mgKOH/g以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】露光ラチチュード、及びLWRなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式(1)で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式(1)中、R及びRは、各々独立に、アリールを表し、RとRが連結していてもよい。R及びRは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、RとRが連結していてもよい。Rは、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。Rは、RもしくはRと連結していてもよい。
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【課題】良好な耐薬品性、機械強度及び柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性高分子:40〜80質量%、(B)光重合開始剤:0.1〜20質量%、及び(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物:0.1〜50質量%を含有する感光性樹脂組成物であって、該(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物として、分子内に少なくとも一つの炭素数が4以上のアルキレンオキサイド基と、少なくとも1つのウレタン結合を有する化合物:0.1〜32質量%を含有することを特徴とする前記感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、レジスト膜に対する高い屈折率と高い吸光係数とを有し、耐パターン倒れ性に優れるレジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]下記式(1)で表される化合物に由来する構造単位(I)と、ラクトン構造を有する構造単位及び環状カーボネート構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位(II)とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。式(1)中、Rは、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。n1及びn2は、それぞれ独立して、0〜2の整数である。
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【課題】優れたレジストパターンのCD均一性(CDU)を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


[式(I)中、QI1及びQI2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。nは、0又は1を表す。Xは、単結合又は炭素数1〜10のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、nが0のとき、Xは単結合ではない。Wは、特定式(Ia1−1)又は特定式(Ia1−2)で表される構造を表す。Rは、水素原子又はメチル基を表す。Z1+は、有機対イオンを表す。] (もっと読む)


【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】[A]親水性基を含む構造単位(I)を有するフッ素原子含有重合体、[B]アルカリ解離性基を含む構造単位(II)を有するフッ素原子含有重合体、及び[C]酸解離性基を有する重合体を含有し、[A]重合体、[B]重合体及び[C]重合体は互いに異なる重合体であるフォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】塗布面状に優れ、耐刷性および耐汚れ性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、下塗り層と、画像記録層とを該順に有し、前記下塗り層が、(a1)一般式(O)で表される繰り返し単位と、(a2)エチレン性不飽和結合を側鎖に有する繰り返し単位とを含む重合体(A)を含むことを特徴とする平版印刷版原版。
一般式(O)
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【課題】MEEF、DOF及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】[A]側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する(メタ)アクリレート単位(I)、単環の脂環式基を有する酸解離性基を含む構造単位(II)及びラクトン基を含む構造単位(III)を有する重合体、並びに[B]感放射線性酸発生体、を含有するフォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、OOB光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー3に形成したフォトレジスト膜2上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜1を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式(1)に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
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【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造し得るレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される化合物、樹脂及び酸発生剤を含有し、樹脂が、式(a1−0)で表される構造単位を含み、かつ、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であるレジスト組成物。
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