【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、かつ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、質量平均分子量が２００００以下である重合体を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】
パターン形成後にラフネスが発生したり、パターン自体をうまく描けないなどの欠陥を防止するために、樹脂中に光酸発生機能を組み込んだレジスト樹脂であって、「酸の作用によって現像液への溶解性が変化する部位」と「光酸発生機能を有する部位」が規則正しく配置されたレジスト樹脂を提供する。
【解決手段】
下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する含フッ素スルホン酸塩樹脂。
【化１】


（式中、Ａはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｎは１〜１０の整数を表す。Ｗは２価の連結基を表す。Ｒ^１は酸不安定基を表す。M⁺は、１価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】直線性が良好な着色パターンを形成でき、且つ、着色パターン形成領域外における残渣の発生が抑制された着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）下記式（Ｉ）で表される部分構造を有するアクリル樹脂、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）紫外線吸収剤を含み、該（Ｄ）紫外線吸収剤の含有量が着色感放射線性組成物の固形分に対して、０．１質量％〜１０質量％である着色感放射線組成物。
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【課題】孔径について現像時間依存性を低く抑えながら、真円性に優れる微細な孔径（例えば、６０ｎｍ以下）のホールパターンを形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）窒素原子を有し、かつ活性光線又は放射線の照射により変化しない塩基性化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物（Ｃ）の含有量が１．０質量％以上であり、かつ前記化合物（Ｃ）の前記化合物（Ｂ）に対するモル比率［Ｃ］／［Ｂ］が０．４０以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】有機溶剤現像によるネガ型パターン形成において、現像後のパターン倒れ及びブリッジ欠陥の発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂（Ｐ）、
特定の一般式（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）のいずれかで表される化合物（Ｂ）、及び溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ）中、Ｒ_０は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が少なくかつ良好なパターン形状を有するレジストパターンを形成できるフォトレジスト組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）を有するベース重合体、［Ｂ］塩基解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有し、［Ａ］重合体よりもフッ素原子含有率が高い重合体、及び［Ｃ］酸発生体を含有し、上記［Ａ］重合体のポリスチレン換算重量平均分子量が、１０，０００以上４０，０００以下であるフォトレジスト組成物である。上記塩基解離性基は、フッ素原子を有することが好ましい。上記塩基解離性基は、芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。構造単位（ＩＩ）が、下記式（２）で表されることが好ましい。
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【課題】フォトリソグラフィのための組成物を提供する。
【解決手段】下記のＡを含むポリマーとシランから形成されるポリマーを含む組成物。Ａ）下記の構造単位１：


（式中、Ｌは、Ｃ−Ｃ結合でありであり；Ｍは２価の結合基、Ｓｉ上に酸素含有基、ハライドから選択される基を持つ。） （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物が帯電防止性、硬化物の透明性および高温高湿試験後の透明性に優れる活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 （メタ）アクリロイル基を含有する３級アミン塩（Ａ１）と、（メタ）アクリロイル基を含有しない酸性化合物（ａ０）と（メタ）アクリロイル基を含有しないアミン（ｂ２）から構成されるアミン塩（Ａ２）、アミン塩骨格を含有せず（メタ）アクリロイル基を含有する化合物（Ｂ）、並びに光重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型帯電防止性樹脂組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】サブクオーターミクロン（＜０．２５μｍ）寸法の高解像の像を提供できる新たなフォトレジストを提供する。
【解決手段】光酸不安定基を有する樹脂、光酸発生剤化合物、およびフォトレジスト塗膜層の未露光領域への望まれない光発生酸拡散を低減させる様に機能しうる２以上のアミド基を含むマルチアミド成分、を含む新規のフォトレジスト組成物であり、特に、アミドカルボニル基同士の間に３〜８原子の間隔を有するマルチアミド化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^1a及びＲ^1bは、同一又は相異なり、炭素数１〜１８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、Ｒ^1aとＲ^1bが一緒になって環を形成していてもよい。Ｒ^２は、置換基を有してもよい炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつＥＬ、ＤＯＦ、ＣＤＵ及びＭＥＥＦに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、５．０以上３０．０以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数３〜７のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数３〜１０のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得、その上に置換又は非置換のメチロール基と結合する窒素原子及び／又は芳香族基を有する架橋剤を含む溶液を塗布、ベークによってネガパターン表面で架橋することにより、ネガパターンのスペース部分の寸法を縮小させるパターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れ、ディフェクトを低減可能なレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつフッ素原子を含む構成単位（ｆ１）を有する重合体；該重合体は主鎖の少なくとも一方の末端に式（Ｉ−１）で表される基を有することが好ましい；該重合体を含有するレジスト組成物；該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法
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【課題】着色パターンの表面にムラが出る表面欠陥が生じず、生産性に優れた、感光性着色樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるチオール化合物（Ａ）、一般式（２ａ）で表されるエポキシ化合物（ａ）と、α，β−不飽和カルボン酸（ｂ）との反応物と、多塩基酸及び／又はその無水物（ｃ）とを反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ_１）及び／又はアルカリ可溶性樹脂（Ｂ_２）を含むアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、色材（Ｄ）、及び光重合性モノマー（Ｅ）を含有する感光性着色樹脂組成物。
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【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつＥＬ、ＤＯＦ、ＣＤＵ及びＭＥＥＦに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、５．０以上３０．０以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数３〜７のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数３〜１０のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明の酸不安定基と結合する窒素原子を有する繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、即ち溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する効果が非常に高い特徴を有する。このレジスト膜を用いてドットパターン又は格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）に優れたレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は脂肪族炭化水素基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は、単結合又は脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は脂肪族環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、２価の脂肪族炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】フォトレジスト上塗り組成物および、前記上塗り組成物でコーティングされた基体、並びにネガティブトーン現像プロセスによって電子デバイスを形成する方法の提供。
【解決手段】以下の一般式（Ｉ）のモノマーを重合単位として含むポリマー、有機溶媒および塩基性クエンチャーを含む上塗り組成物。
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【課題】ヨウ素原子を末端に有する重合体の耐熱分解性を向上させ、成型品の着色を低減させる。
【解決手段】有機ヨウ素化物の存在下でビニル単量体をラジカル重合させて得られる重合体（Ａ）を弱塩基塩及び式（１）で表される化合物の少なくとも一方と反応させて該重合体（Ａ）の末端が処理された重合体（Ｂ）を得る末端処理工程を有する重合体（Ｂ）の製造方法。前記弱塩基塩が炭酸塩、炭酸水素塩、有機酸塩またはリン酸塩であることが好ましい。前記ラジカル重合工程において、さらにリン化合物、窒素化合物または酸素化合物を存在させることが好ましい。
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【課題】長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制された電子写真感光体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物の重合体を含有する電荷輸送性層を備えた電子写真感光体〔一般式（Ｉ）中、Ｆは電荷輸送性サブユニットを示し、Ｌはアルキレン基、−Ｃ＝Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、及びアルカン若しくはアルケンから誘導される３価又は価の４基からなる群より選択される２種以上を組み合わせてなる（ｎ＋１）価の連結基を示し、ｍは１以上６以下の整数を示し、ｎは２以上３以下の整数を示す。〕。
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