【課題】 高感度であるとともに、解像度に優れ、かつ感度の経時安定性が極めて高く、高精細なパターンを形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始系化合物、及び重合禁止剤を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物として、ジ置換アミノ−ベンゼンを部分構造として有する化合物を含むことを特徴とする感光性組成物である。該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 各種基材の表面に、硬度、及び耐擦傷性に優れ、透明性と表面抵抗値を両立させた塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜層を有する積層体、特に反射防止膜積層体を提供する。
【解決手段】 少なくとも、基材と、
下記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｅ）及び（Ｆ）を含有する硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜層と、
を有する積層体。
［硬化性組成物］
（Ａ）ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を主成分とし、重合性不飽和基を有する粒子、
（Ｂ）１分子中にメタクリロイル基及びアクリロイル基を有する化合物、
（Ｅ）光重合開始剤、及び
（Ｆ）溶剤 （もっと読む）

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、テント膜強度が強く、高精細で高アスペクト比のパターンを形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む感光性組成物であって、該感光性組成物からなる感光層を露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２である感光性組成物である。該感光性組成物からなる感光層を有するパターン形成材料、及び感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えるパターン形成装置、前記感光層に対し、露光を行うことを含むパターン形成方法である。
（もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によりパターン形成可能で、耐熱性に優れる新規なマレイミド系樹脂を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される構造を含むマレイミド系樹脂のフェノール性水酸基と、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物のエポキシ基および／またはイソシアネート基含有不飽和化合物を反応させて得られるエチレン性不飽和基含有マレイミド系樹脂。
（もっと読む）

【課題】耐擦傷性、塗工性及び耐久性に優れ、かつ、より高屈折率の硬化物を与える、フッ素含有率の高いエチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体、及びその製造方法、並びにそれを用いた硬化性樹脂組成物及び反射防止膜の提供。
【解決手段】パーフルオロプロピルビニルエーテル等のパーフルオロアルキルビニルエーテルと、ヒドロキシアルキルビニルエーテルと、パーフルオロアルキル基含有アルキルビニルエーテルから水酸基含有含フッ素共重合体（Ａ）を合成する。アゾ基含有ポリシロキサンを共存させ、共重合体（Ａ）にポリシロキサン構造を導入した共重合体（Ｂ）は耐擦傷性が向上する。共重合体（Ａ）または（Ｂ）とアクリル酸（ハロゲン塩）を反応させエチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体（Ｃ）を合成する。共重合体（Ｃ）はその溶液を塗布した後、紫外線硬化させることにより低屈折率の反射防止膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 刺激応答性を有し、大量の物質を吸着または内包できるミクロスフェアおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 アルケニルエーテル重合体を含んでなる、ミクロスフェア、および、（１）溶媒中、アルケニルエーテル重合体を凝集させて、コアセルベートを形成させる工程と、（２）上記コアセルベートの状態で上記アルケニルエーテル重合体の分子間を架橋する工程を含んでなる、ミクロスフェアの製造方法。 （もっと読む）

【課題】低屈折率層と高屈折率層を効率的に製造できる紫外線によって硬化しうる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記成分：
（Ａ）錫含有酸化インジウム粒子
（Ｂ）フッ素を４０質量％以上含有するエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（Ｃ）（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の溶解性が高い溶剤
（Ｄ）（Ａ）錫含有酸化インジウム粒子の分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）の溶剤と相溶性である溶剤を含み、かつ、（Ｃ）の溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）の溶剤の相対蒸発速度よりも大きいことを特徴とする硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】１の塗膜から２以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供する。
【解決手段】基材３０と、その上に多層構造４０，５０を有する積層体の製造方法であって、基材３０上又は基材上に形成された層の上に、（Ａ）重合性不飽和基を有する有機化合物（Ａｂ）を結合させてなる金属酸化物粒子、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、（Ｃ）速揮発溶剤及び（Ｄ）遅揮発溶剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層４０，５０を形成することを特徴とする積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い防眩性と画像ボケ、ギラツキの改善を両立した防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が０〜３５％、該防眩性反射防止フィルムの中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．３０μｍであることを特徴とする防眩性反射防止フィルム、この該防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板及びディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】 低屈折率層と高屈折率層を効率的に製造でき、透明性が高く、基材に対する密着性が大きく、優れた耐擦傷性を有し、しかも環境耐性に優れた硬化膜を形成しうる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記成分：
（Ａ）重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させてなる金属酸化物粒子
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（Ｃ）（Ａ）マトリックス樹脂の溶解性が高い、１種又は２種以上の溶剤（以下、「（Ｃ）速揮発溶剤」という）
（Ｄ）（Ｂ）金属酸化物粒子の分散安定性が高く、かつ、（Ｃ）速揮発溶剤と相溶性である、１種又は２種以上の溶剤（以下、「（Ｄ）遅揮発溶剤」という）
を含み、かつ、（Ｃ）速揮発溶剤の相対蒸発速度が、（Ｄ）遅揮発溶剤の相対蒸発速度よりも大きい硬化性樹脂組成物；これを硬化させてなる硬化膜及び積層体。 （もっと読む）

【課題】 大量生産に適し、反射率が低く、耐擦傷性、密着性に優れた塗布型の反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】 （メタ）アクリロイル基含有する重合単位及び水酸基を含有する重合単位を含む特定化学構造の含フッ素共重合体及び、反応性有機官能基含有ポリシロキサン化合物を含有する組成物を硬化させて得られる低屈折率層を含むことを特徴とする反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性をより向上した光学フィルムおよび反射防止フィルムを提供すること。そのような光学フィルムおよび反射防止フィルムを具備した偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に塗布された層が、少なくとも１種のフッ素化光重合開始剤と電離放射線硬化性化合物とを含有する組成物の硬化物からなることを特徴とする光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性及び耐久性に優れた、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体を含む硬化性樹脂組成物、それを硬化させて得られる海島構造を有する硬化膜、及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】ケトン系有機溶剤を含有する硬化性樹脂組成物であって、下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分の合計量を１００質量％として、（Ａ）エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体を３０〜８０質量％と、（Ｂ）２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物を５〜６０質量％と、（Ｃ）数平均粒径が５〜１００ｎｍのシリカ粒子を５〜６０質量％と、を含む硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 各種基材の表面に、帯電防止性、硬度、耐擦傷性、及び透明性に優れた硬化膜層を有する帯電防止用積層体を提供する。
【解決手段】 少なくとも、基材と、
下記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含有する液状硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜層と、
を有する積層体。
［液状硬化性組成物］
（Ａ）リン含有酸化錫粒子
（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物
（Ｃ）３１３ｎｍにおけるモル吸光係数が５，０００Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ以下である光重合開始剤
（Ｄ）溶剤 （もっと読む）

【課題】高感度であり、経時安定性が高く、網点均一性に優れた感光性平版印刷版、さらには、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷に適した感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、側鎖に炭素−炭素二重結合を有する構造単位（ｉ）、酸基を有する構造単位（ｉｉ）、並びに、以下（ａ）〜（ｃ）で示す構造単位から選定された少なくとも一種の構造単位（ｉｉｉ）を有する高分子化合物を含有する光重合性感光層を設けたことを特徴とする感光性平版印刷版。
（ａ）エチレンオキシ基を有する構造単位
（ｂ）シクロヘキシル基を有する構造単位
（ｃ）水酸基を２個以上有する構造単位 （もっと読む）

【課題】架橋反応性に優れる含フッ素弾性共重合体およびその架橋ゴムを提供する。
【解決手段】（Ａ）テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、又はＣＦ_２＝ＣＦ−Ｏ−Ｒ^ｆ（Ｒ^ｆは炭素原子数１〜８の飽和パーフルオロアルキル基又はパーフルオロ（アルコキシアルキル）基である。）の含フッ素モノマーに基づく繰り返し単位（ｌ）、一般式ＣＲ^１Ｒ^２＝ＣＲ^３ＣＯＯＣＨ＝ＣＨ_２（Ｒ^１及びＲ^２は、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基又はエーテル性酸素原子を含む炭素原子数１〜１０のアルコキシアルキル基、Ｒ^３は水素原子、フッ素原子又はメチル基である。）に基づく繰り返し単位（ｍ）を含有し、（ｍ）／（ｌ）＝０．０００１〜０．１（モル比）である含フッ素弾性共重合体、（Ｂ）不飽和多官能性化合物、（Ｃ）２価金属の酸化物または水酸化物を含有する含フッ素弾性共重合体組成物。 （もっと読む）

【課題】 高感度な感光層であっても、優れた現像性とタック性とを両立でき、また、感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、パッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターン、半導体分野における高精細な永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成材料、並びにパターン形成方法及びパターンの提供。
【解決手段】 エポキシアクリレート化合物の少なくとも１種と、側鎖にアクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種を含むバインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤とを少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、該感光層に対し、露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜８０ｍＪ／ｃｍ^２であるパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、且つ安価に製造可能であり、しかも十分な反射防止性能と耐擦傷性、さらには防汚性を有する反射防止フィルム及びその製造方法を提供すること、並びにこのような優れた反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体から最も遠くに位置する低屈折率層が、電離放射線照射により硬化する樹脂と、ポリシロキサン部分構造を有する化合物を含有してなり、該低屈折率層の最表面における珪素原子の光電子スペクトル強度｛Ｓｉ_(a)｝と、最表面から該低屈折率層の厚みの８０％下層における珪素原子の光電子スペクトル強度｛Ｓｉ_(b)｝との比Ｓｉ_(a)／Ｓｉ_(b)が５．０以上であることを特徴とする反射防止フィルム。 （もっと読む）

本発明は、柔軟性、低極性樹脂との相溶性、組成の均一性、機械的強度、溶解性、粘着性、接着性、付着性、電気絶縁性、耐候性、耐水性、透明性、耐熱老化性、耐プレッシャークッカーテストでの結果等に優れた、分子内に一般式（Ｉ）


（式中、ｎは、２〜１０００の整数を表し、Ｒ^１は、置換もしくは非置換の低級アルキル、酸素原子を含有してもよい置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のポリアルコキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す。ただし、２以上存在するＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ同一または異なっていてもよい）で表される構造を含むポリアルケニルエーテル等を提供する。
（もっと読む）

【課題】より低い放射線量においても十分な塗膜強度を確保し得る下層非磁性層を実現可能な磁気記録媒体用放射線硬化型ポリウレタン樹脂を提供する。
【解決手段】分子中に活性水素および０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１０ｍｍｏｌ／ｇ以下のイオウ含有極性基を有すると共に塩基性極性基を有さず、かつ脂肪族のみで樹脂骨格が構成されたポリウレタン樹脂が、活性水素にて、アクリル２重結合を有する化合物により放射線硬化型に変性されて放射線硬化型ポリウレタン樹脂が作製され、この作製された放射線硬化型ポリウレタン樹脂を用いて形成された下層非磁性層２がベースフィルム４の一方の面上に形成されている。 （もっと読む）