【課題】シート状部材間の接着力と耐湿熱性とに優れ、接着剤層中の気泡発生による外観不良やデラミネーションが生じない太陽電池用裏面保護シートを、高い歩留まり且つ低コストで生産性良く（エージング不要）、製造可能とする活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】カーボネート構造を有するジオール成分を必須とする（メタ）アクリロイル基を有しないジオール成分（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基と２個以上のイソシアネート基とを有するポリイソシアネート成分（Ｂ）とを反応させてなる、(メタ)アクリロイル基を有するウレタン樹脂（Ｃ）、及び前記ウレタン樹脂（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤。 （もっと読む）

【課題】基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供する。
【解決手段】基材上に、活性エネルギー線硬化型下塗り塗料組成物（Ｉ）を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つがウレタン結合及び１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（ａ）、及び光重合開始剤（ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物（II）を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法 （もっと読む）

【課題】良好なインプリント性（転写性能）および高い生産性（ハイスループット）を有するとともに、フッ素系ガスと酸素ガスとのエッチング速度の高い選択性を発揮することができ、レジスト等に用いた場合、微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することができる転写材料用硬化性組成物およびその転写材料用硬化性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の転写材料用硬化性組成物は、炭素−炭素二重結合を有するイソシアヌレート化合物（Ａ）と、Ｓｉ−Ｈ基を有するシロキサン化合物（Ｂ）と、硬化性官能基および炭素−炭素二重結合を有する化合物（Ｃ）と、をヒドロシリル化反応させて得られる、イソシアヌレート骨格およびシロキサン骨格を有するヒドロシリル化生成物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐傷性、低ヒステリシスロスなどを有する光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物など及びそれら組成物からの架橋体、並びにそれらの製造方法の提供。
【解決手段】環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなるポリロタキサンの環状分子が−Ｍ−Ｙ（Ｍは下記式ＩＩで表され、Ｘは、炭素数１〜８の直鎖状アルキレン基などを示し、ｎは平均値１〜１０であり、Ｙは、光重合性基を有する基である）で表される基を有する光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物など及び該組成物由来の架橋体、並びにそれらの製造方法により、上記課題を解決する。
【化１】
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【課題】高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクスを提供し、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する。
【解決手段】基板上に、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内にビニルフェニル基を２個以上有する化合物、（Ｃ）重合開始剤、および（Ｄ）遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、特性のバラツキが少なく、製造工程が単純で、製造コストの低廉な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】一般式（１）で示される置換基が、一般式（２）で示される置換基を1つ以上有するコア分子の炭素−炭素二重結合に付加した化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。


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【課題】常温や高温高湿度の環境下での基材密着性が高く、透明性、耐光性、耐水性に優れた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合を有するポリビニルアセタール化合物（Ａ）と、１分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基と酸素を含む複素環構造とを有する化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）

軟質の、高屈折率の、アクリル性デバイス材料が開示される。上記材料は、グリスニングを軽減するために、官能化アルキルフェノールエトキシレートを含む。一実施形態において、本発明のデバイス材料は、ａ）モノ官能性のアクリレートモノマーもしくはメタクリレートモノマー［１］、ｂ）二官能性アクリレートもしくはメタクリレート架橋剤［２］、およびｃ）官能化アルキルフェノールエトキシレート［３］を含むコポリマーである。さらに、上記デバイス材料は、１種より多いモノマー［１］、１種より多いモノマー［２］、および１種より多いモノマー［３］を含み得る。 （もっと読む）

【課題】導電フィラーを使用することなく、同一層内に帯電防止性、撥油性、耐擦傷性を付与することができ、透明性、耐擦傷性、帯電防止性、撥油性に優れ、かつ拭き取り試験後においても帯電防止性、撥油性が良好な帯電防止層を与える帯電防止性樹脂組成物を提供する。この帯電防止性樹脂組成物により、透明性、耐擦傷性、帯電防止性、撥油性に優れた帯電防止層と、この帯電防止層を有する積層材を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線硬化性モノマー及び／又はオリゴマーと、帯電防止剤と、シリコーンオイル及び／又は変性シリコーンオイルとを含有してなる帯電防止性樹脂組成物。この帯電防止性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して形成された帯電防止層。基材と、この帯電防止層とを有する積層材。 （もっと読む）

【課題】４級アンモニウム塩基含有ポリマーの相溶性が良好な帯電防止組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基を有する化合物、４級アンモニウム塩基含有ポリマー、およびアミド基を有する重合性モノマーを含有する帯電防止組成物。アミド基を有する重合性モノマーを組成物中に添加することにより、４級アンモニウム塩基含有ポリマーの相溶性が向上し、また、基材への密着性等も向上する。４級アンモニウム塩基含有ポリマーの相溶性が良好な帯電防止組成物により、紫外線暴露、あるいは高温・高湿負荷の環境下においても、帯電防止性、耐擦傷性、透明性に優れ、基材との密着性にも優れた帯電防止層および帯電防止フィルムが提供される。 （もっと読む）

【課題】着色材濃度、感光性、画像部の耐溶剤性、保存安定性を両立する感光性着色組成物、及び該組成物を用いて形成されるカラーフィルタを提供する。
【解決手段】感光性着色組成物は、感光性樹脂と着色材とを含有する。前記樹脂は、水酸基を有する重合性モノマー（ａ１）と、（ａ１）以外の重合性モノマー（ａ２）とを重合してなる共重合体（Ａ）に、下記一般式（１）で表される化合物を反応させてなるものである。 該感光性着色組成物を用いて形成されたフィルタセグメントを有するカラーフィルタ。
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【課題】硬化物の収縮率が低く、かつ透明性が高い硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子の量末端にヒドロキシル基を有するポリカーボネートジオール化合物に、分子内に１つ以上の（メタ）アクリル基を有するイソシアネート化合物を付加させて得られる、下記一般式（１）


（式中、Ｒ₁は炭素数が１〜２０である直鎖、分岐または環状構造を含む飽和脂肪族基を一種類以上含んだ構造であり、Ｒ₂は炭素数が１〜１０である直鎖、分岐または環状構造を含む飽和脂肪族基または芳香環を含んだ構造であり、Ｒ₃は水素原子またはメチル基である。また、ｎは１〜５０の整数であり、ｍは１〜３の整数である。）
で示されるウレタン化合物。 （もっと読む）

【課題】硬化後の現像性、耐熱変色性、高硬度であることとを両立し、イオンバリア性、耐薬品性が良好な光硬化性樹脂組成物、およびこれを硬化させてなる部材を使用した保護膜、ＲＧＢ用画素、ブラックマトリックス、スペーサー、およびカラーフィルターを提供する。
【解決手段】フマレート性の構成単位を１．５〜３５重量％、酸性官能基を有する構成単位を１０〜５０重量％、芳香族炭素環を有する構成単位を３〜４５重量％、およびエチレン性不飽和結合を有する構成単位を２０〜６５重量％有するフマレート系共重合体（Ａ）を２〜８０重量％、光重合性多官能（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を５〜９０重量％、および光重合開始剤（Ｃ）を１〜１０重量％含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、表面のタック性が少なく、保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐メッキ性、表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性フィルム、並びに該感光性フィルムを用いる永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光性組成物からなる感光層と、該感光層上に保護フィルムと、を少なくとも有してなり、前記感光性組成物が、（Ａ）エポキシアクリレート化合物中のヒドロキシ基及びカルボキシル基の少なくともいずれかに対し、イソシアネート化合物を反応させたノボラック型エポキシアクリレート化合物と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

生分解性天然多糖を含むｉｎ ｓｉｔｕで形成された生分解性閉塞が記載される。マトリックスは、突出カップリング基を有する複数の生分解性天然多糖から形成される。 （もっと読む）

【課題】 現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与える新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物、該組成物の成分として有用な重合体、カラーフィルタ用感放射線性組成物から形成されたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを具備してなる液晶表示素子を提供すること
【解決手段】 カラーフィルタ用感放射線性組成物は、（Ａ）（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、（ａ２）１分子中に１つ以上の水酸基を含有する化合物と、（ａ３）他の不飽和化合物との共重合体に、特定のイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体、（Ｂ）着色剤、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光ラジカル発生剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性及び耐久性に優れた、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体を含む硬化性樹脂組成物、それを硬化させて得られる海島構造を有する硬化膜、及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】ケトン系有機溶剤を含有する硬化性樹脂組成物であって、下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分の合計量を１００質量％として、（Ａ）エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体を３０〜８０質量％と、（Ｂ）２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物を５〜６０質量％と、（Ｃ）数平均粒径が５〜１００ｎｍのシリカ粒子を５〜６０質量％と、を含む硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 高感度な感光層であっても、優れた現像性とタック性とを両立でき、また、感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、パッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターン、半導体分野における高精細な永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成材料、並びにパターン形成方法及びパターンの提供。
【解決手段】 エポキシアクリレート化合物の少なくとも１種と、側鎖にアクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種を含むバインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤とを少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、該感光層に対し、露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜８０ｍＪ／ｃｍ^２であるパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】良好な光学補償能を有するとともに、保存、および製造適性に優れ、安定生産可能な光学フィルム、ならびに該光学フィルムを用いた偏光板および液晶表示装置の提供。
【解決手段】支持体、配向膜、および液晶性化合物を含む液晶性組成物からなる光学異方性層を有する光学フィルムの製造に使用される配向膜組成物。前記配向膜組成物は、側鎖に反応性基を有する高分子、エチレン性不飽和結合を有する化合物、光酸発生剤、および水を２０質量％以上含む溶媒を少なくとも含有する。 （もっと読む）

（Ａ）（ａ）Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド
【化１】


［式中、Ｎは１〜１０，０００であり、Ｒ_１は同一もしくは互いに異なる］は水素もしくは１〜５個の炭素原子を有するアルキル基を示し、ここでラジカルＲ_１は窒素原子と一緒になってリングを形成することもでき］；
（ｂ）Ｎ−ビニルカプロラクタム
【化２】


［式中、ｏは１〜１０，０００を示す］；
（ｃ）Ｎ−ビニルピペリドン
【化３】


［式中、ｐは１〜１０，０００を示す］；
（ｄ）ｎ−ビニルピロリドン
【化４】


［式中、ｑは１〜１０，０００を示す］；
（ｅ）メチル−ビニルエーテル
【化５】


［式中、ｒは１〜１０，０００を示］；および／または
（ｆ）Ｎ−ビニル−アルキルアミド
【化６】


［式中、ｓは１〜１０，０００を示し、Ｒ２は１〜５個の炭素原子を有する（イソ）アルキル基またはシクロペンチル基を示す］
の構造単位を有する少なくとも１種のモノマーもしくはマクロモノマー約４５．０〜９９．９モル％；
（Ｂ）（ａ）マレイン酸、無水マレイン酸またはマレイン酸のアルキルエステル（ここでアルキル基は１〜５個の炭素原子を有する）；
（ｂ）フマル酸またはフマル酸のアルキルエステル（ここでアルキル基は１〜５個の炭素原子を有する）；
（ｃ）アクリル酸もしくはメタクリル酸またはアルキルアクリレートもしくは−メタクリレート（ここでアルキル基は１〜５個の炭素原子を有する）；
（ｄ）ヒドロキシアルキルアクリレートもしくは−メタクリレート（ここでアルキル基は１〜５個の炭素原子を有する）；
（ｅ）酢酸ビニル；
（ｆ）（メタ）アクリル酸グリシジル；
（ｇ）アリルグリシジルエーテル；および／または
（ｈ）α，α−ジメチル−メタ−イソプロペニルベンジルイソシアネートの群からのコモノマー約０．１〜５５．０モル％
の水溶液もしくはアルコール溶液におけるラジカル共重合もしくは三元重合により得られるＬＣＳＴ−ポリマーにつき開示し、ここでモノマーもしくはマクロモノマー（Ａ）および（Ｂ）の共重合により得られるポリマーは、コモノマー（Ｂ）に由来する反復単位からの基と共有結合を形成しながら反応しうる少なくとも１個の基、および少なくとも１個の重合しうる二重血結合を有する誘導化剤により誘導化されることを特徴とする。更にその製造方法、並びに粒子および非粒状基体表面を被覆するためのその使用についても開示する。
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