【課題】安全で環境汚染の危険性の無いポリシランの製造方法であって、分子量分布の狭いポリシランを収率よく製造し得るポリシランの製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１）：
Ｘ^１（ＳｉＲ^１Ｒ^２）_ｍＸ^１ （１）
（式中、ｍは１〜３であり、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２の（置換）ビニル基、炭素数６〜１２の（置換）アリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２の（置換）アミノ基またはシリル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で表されるジハロシランを、ハロゲン化サマリウム(II価)およびサマリウムの存在下、光を作用させて重合することにより、
一般式（２）：
−（（ＳｉＲ^１Ｒ^２）_ｍ）_ｎ− （２）
（式中、ｎは２〜１０００であり、ｍ、Ｒ^１およびＲ^２は前記と同義である。）
で表されるポリシランを形成させる、ポリシランの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＨ_４を高活性且つ高効率に重合して高分子量のポリヒドロシランを製造する方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、４族メタロセンと、アルキルリチウム、アルキルアルミニウム、アルキルマグネシウムおよびアルキルマグネシウムハライドから選ばれるアルキル化剤と、を接触させて得られる触媒によってＳｉＨ_４を重合する、ポリヒドロシランの製造方法であって、前記４族メタロセンとアルキル化剤との接触が、ＳｉＨ_４が存在する条件下で行われることを特徴とする。上記方法によって製造されたポリヒドロシランは、シリコンの前駆体として好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】Ｃ／Ｓｉ比が大きく、高純度かつ高収率で炭化ケイ素を得るのに有用なポリシランを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるユニットを少なくとも含み、ポリシランを構成する炭素原子とケイ素原子とのモル比（Ｃ／Ｓｉ）を３以下とする。


（式中、Ｒ^１は、アルキル基（メチル基、エチル基などのＣ_１−４アルキル基）などの炭化水素基を示す。） （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、更には、基板に対する密着性に優れ、かつ高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）中空又は多孔質粒子と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）アルカリ可溶性基及び重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、アルカリ可溶性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位と、重合性基を含む１価の基を有する珪素原子を含有する構造単位、又はアルカリ可溶性基を含む１価の基と重合性基を含む１価の基とを有する珪素原子を含有する構造単位を少なくとも含有する化合物、とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。 （もっと読む）

【課題】新規なシリコン化合物、蓄電デバイス用負極及び蓄電デバイスを提供する。
【解決手段】本発明の蓄電デバイスは、ケイ素原子で構成された六員環が複数連なった構造を基本骨格としアニオンと結合可能な部位を有する修飾基がケイ素原子と結合しているシリコン化合物を含む負極と、正極と、修飾基と結合可能なアニオンを伝導可能なイオン伝導媒体とを備えている。このシリコン化合物の修飾基は、窒素を介してアニオンと結合可能であり、酸素を介してケイ素原子と結合しているものであることが好ましい。修飾基と結合するアニオンとしては、ＢＦ₄^-、ＰＦ₆^-、ＣｌＯ₄^-、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド（ＴＦＳＩ^-）、Ｂｒ^-、Ｃｌ^-、Ｆ^-のうち１種以上であることが好ましい。この蓄電デバイスは、アニオンが負極と正極の間を移動することで作動するロッキングチェア型のデバイスである。 （もっと読む）

【課題】シロキセンに導入する官能基を任意に選択することが可能なシロキセン複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記組成式（２）：
Ｓｉ_６Ｈ_ａ（Ｏ−Ｅ−ＣＯＯＲ^３）_６−ａ （２）
（式（２）中、Ｒ^３は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｅは炭素数１〜３０の炭化水素基、１≦ａ≦５。）
で表されるシロキセン誘導体と、
下記式（３）：
ＨＮＲ^１Ｒ^２ （３）
（式（３）中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、炭化水素基または複素基を表し、前記ＮＲ^１Ｒ^２において、Ｒ^１とＲ^２が互いに結合して含窒素複素環を形成していてもよい。）
で表される含窒素化合物とを有機溶媒中で反応させて、
下記組成式（１）：
Ｓｉ_６Ｈ_ａ（Ｏ−Ｅ−ＣＯＮＲ^１Ｒ^２）_６−ａ （１）
（式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は前記式（３）中のＲ^１およびＲ^２と同一、Ｅおよびａは前記式（２）中のＥおよびａと同一。）
で表されるシロキセン複合材料を得ることを特徴とするシロキセン複合材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポリシランに含まれる不純物を分離除去し、ポリシランを効率よく精製する方法、及びこの方法により得られたポリシランを提供する。
【解決手段】溶媒の存在下で、ポリシランと金属塩とを接触させたのち、金属塩を分離する。この方法では、溶媒に溶解したポリシランと固体状態の金属塩とを接触させてもよい。また、前記方法では、代表的には、ポリシランを溶解可能な溶媒中で、ポリシランと固体状態の金属塩とを混合し、撹拌してポリシランと金属塩とを接触させてもよい。溶媒に溶解したポリシラン溶液を固体状態の金属塩に流通させて接触させてもよい。また、溶媒に溶解したポリシラン溶液を、金属塩が敷設された濾過用部材に流通させてもよい。前記金属塩は、硫酸金属塩（硫酸ナトリウムなど）であってもよい。この方法では、不純物を含みやすい分岐状構造を有するポリシランであっても効率よく精製できる。 （もっと読む）

【課題】安定化されたネットワーク状ポリシランを得る。
【解決手段】少なくともトリハロシランを含むハロシランが重合したネットワーク状のポリシラン（例えば、ポリアルキルトリハロシラン、アリールトリハロシラン−アルキルトリハロシラン共重合体、アリールトリハロシラン−アルキルアリールジハロシラン共重合体など）の重合末端（ハロシリル基、シラノール基など）を、炭化水素基（例えば、アルキル基など）などの封鎖基により封鎖する。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含量が大きく、溶媒溶解性に優れる新規なネットワーク状ポリシランを提供する。
【解決手段】メチルトリハロシランと、炭素数２以上のアルキルトリハロシラン（例えば、エチルトリハロシランなどのＣ_１−４アルキルトリハロシラン）とを重合させて、ネットワーク状ポリシランを得る。メチルトリハロシランと、炭素数２以上のアルキルトリハロシランとの割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／９９〜５０／５０程度であってもよい。 （もっと読む）

【課題】金属マグネシウム成分を用い、末端が封鎖されたポリシランを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】非プロトン性溶媒中で、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランを重合させてポリシランを製造する際に、重合後の反応混合物中に残存する金属マグネシウム成分と有機ハロゲン化物とを反応させて、グリニャール試薬を生成させるとともに、生成したグリニャール試薬と、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとをグリニャール反応させ、重合末端が封鎖されたポリシランを製造する。 （もっと読む）

【課題】ポリシランに予め含まれる金属成分を効率よく除去できる精製方法を提供する。
【解決手段】金属成分（１）を含むポリシラン（例えば、５００ｐｐｍ以上の金属成分（１）を含むポリシラン）と、前記金属成分（１）を構成する金属（ａ）（例えば、亜鉛など）よりも、イオン化傾向において小さい金属（ｂ）（例えば、鉄、コバルト、ニッケル、銅など）で構成されている金属成分（２）とを接触させる。このような方法では、金属成分（１）および金属成分（２）の割合が、金属（ａ）および金属（ｂ）の重量換算で、全体に対して１００ｐｐｍ以下のポリシランを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】キラルな化学源を使用せずに、アキラルな側鎖を有するポリシランとアキラルな溶媒とを使用して、左回りまたは右回りのらせん状構造を有することにより光学活性を有するポリシランを提供する。
【解決手段】アキラルな側鎖を有するポリシランと、炭素数が６以上１６以下の範囲内である炭化水素、炭素数が３以上１１以下の範囲内であるアルコール、エーテル、炭素数が１以上３以下の範囲内であるニトリルおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドからなる群より選択される少なくとも１種のアキラルな溶媒と、を混合し、アキラルな溶媒の温度が、１１０℃以下である。 （もっと読む）

ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、式（Ｉ）のポリシラン単位、及び式（ＩＩ）のポリシラザン単位を含有し、式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立してＨ、Ｓｉ、及びＮ原子から選択され、Ｒ^３はＨ、Ｓｉ、又はＣ原子から選択され、ａ≧１であり、ｂ≧１であり、（ａ＋ｂ）≧２である。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、溶媒を含む組成物に製剤することができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、ＰＭＤ及びＳＴＩ用途において１００ｎｍ以下の幅及び少なくとも６のアスペクト比を有する溝を充填するために用いることができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、１分子当たり２個以上のケイ素原子を有するペルクロロポリシランの第１級アミンでのアミノ化により調製することができる。

（もっと読む）

【課題】新規な有機化層状ポリシランを提供する。
【解決手段】本発明の有機化層状ポリシランは、ケイ素原子で構成された六員環が複数連なった構造を基本骨格とする有機化層状ポリシランである。この六員環を構成するケイ素原子（Ｓｉ）には、炭化水素基Ｒが結合したケイ素原子と水素原子（Ｈ）が結合したケイ素原子とが混在している。本発明の有機化層状ポリシランは、半導体、電気電子等の各分野への応用が可能である。また、六員環を構成するケイ素原子の中に炭化水素基と結合しているものを含むため、その割合によって、従来にない機能を発揮し得る。例えば、炭化水素基によって層間間隔が比較的広く維持され、蓄電デバイス用電極として用いた場合、多量のリチウムイオンを取り込むことができる。さらに、六員環を構成するケイ素原子の中に水素原子と結合しているものを含むため、絶縁性を軽減することができる。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（１） Ｓｉ_nＲ_2n+2 （１）のポリシランの製造方法であって、一般式（２） Ｒ¹_mＳｉＨ_4-m （２）のシランを、一般式（３） Ｒ²₃Ｂ （３）のホウ素化合物の存在下で反応させる［前記式中、Ｒ¹は、１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、Ｒは、水素又は基Ｒ¹を意味し、Ｒ²は、フッ素、塩素、臭素又は１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基であって、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びＮＯ₂から選択される置換基を有してよい基を意味し、ｎは、２〜１０００００の整数値を意味し、かつｍは、０、１又は２の値を意味する］、前記製造方法である。 （もっと読む）

【課題】新規なシリコンナノシートを提供する。
【解決手段】本発明のシリコンナノシートは、ケイ素原子で構成された六員環が複数連なった構造を基本骨格とするシリコンナノシートであって、１級又は２級アミンと結合する部位を有するものであり、層間距離が層状ポリシランよりも広い。このシリコンナノシートは、層状ポリシランと１級又は２級アミンとを反応させることにより得られることから、層状ポリシラン中の少なくとも一部のＳｉ−Ｈの水素原子がアミノ基で置換されている可能性が高い。 （もっと読む）

【解決手段】体積平均粒径が０．１〜１００μｍのシリコーンエラストマー球状微粒子１００質量部にポリオルガノシルセスキオキサン０．５〜２５質量部を被覆してなる微粒子であって、水に分散せず、水に浮くことを特徴とする撥水性微粒子。
【効果】本発明のシリコーンエラストマー球状微粒子をポリオルガノシルセスキオキサンで被覆した撥水性微粒子は、撥水性が非常に高いものである。 （もっと読む）

【課題】基体に形成されたトレンチ内にシリコン酸化物を埋め込むために使用するのに好適な、トレンチへの埋め込み性が高く、硬化収縮率が小さく、かつ良好なクラック耐性を有するシリコン酸化物塗膜を与えるトレンチ埋め込み用組成物を提供すること。
【解決手段】水素化ポリシラン化合物と、シリカ粒子に由来する構造を有する反応物とを含むことを特徴とするトレンチ埋め込み用組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を必要とせずに、様々な近赤外光を吸収するポリシラン薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に下記の一般式で表される架橋ポリシラン薄膜を形成した後、加熱処理することにより該架橋ポリシラン薄膜の吸収スペクトルを変化させて、近赤外光を吸収するポリシラン薄膜とする。
【化１】


（式中、Ｒ_１は、縮合多環芳香族基を表し、Ｒ_２は、アリール基又は縮合多環芳香族基のいずれかを表し、Ｒ_３は、アルキル基を表す。また、ｘ及びｙは、整数を表す。） （もっと読む）