【課題】フォトリソグラフィのための組成物および反射防止コーティングの提供。
【解決手段】少なくとも下記の：Ａ）式１：


（式中、Ｒａは、１つまたは複数の多重結合を含み、ただし、Ｒａが、２つ以上の多重結合を含む場合、これらの多重結合は、共役配置にはなく；Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は、各々独立して、アルコキシル、ヒドロキシル、ハライド、ＯＣ（Ｏ）Ｒ、またはＯＣ（Ｏ）ＯＲ（式中、Ｒは、アルキルまたは置換アルキルである）から選択される）から選択される化合物Ｆ１；およびその他３種類の特定ケイ素含有化合物を含む第一組成物。 （もっと読む）

【課題】高温焼成で形成される膜厚の厚いシリカ系樹脂膜におけるクラック耐性の向上を図ることができる技術を提供する。
【解決手段】５００℃以上の高温焼成で形成される厚さ２．０μｍ以上のシリカ系樹脂膜用の組成物の製造方法であって、下記一般式（１）で表される第１アルコキシシランの加水分解反応、および、当該加水分解反応で生成される第１アルコキシシランの加水分解生成物の脱水縮合反応を進行させる第１工程と、第１アルコキシシランの加水分解生成物が残存する第１工程の反応系に下記一般式（２）で表される第２アルコキシシランを混合し、第２アルコキシシランの加水分解反応、および、当該加水分解反応で生成された第２アルコキシシランの加水分解生成物と第１工程の脱水縮合反応生成物と残存する第１アルコキシシランの加水分解生成物との脱水縮合反応を進行させる第２工程と、を含む。（Ｒ^１）_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２（１）Ｓｉ（ＯＲ^３）_４（２） （もっと読む）

【課題】様々な油剤との親和性を有しており、また、構造化特性、ゲル化特性に優れており、更に、優れた触感、特にベルベット調の厚みのある滑らかさが持続し、しかも塗布初期から乾燥後まで全くべとつきを生じない優れた触感を与え、更に、しわ隠し効果(マスキング効果)等の優れた美容効果をもたらす新規なオルガノポリシロキサンエラストマー及びその製法を提供すること。
【解決手段】ケイ素原子に結合したシロキサンデンドロン構造を有する基を有し、且つ、架橋部に炭素−ケイ素結合を含む架橋構造を有するオルガノポリシロキサンエラストマー。 （もっと読む）

【課題】本発明は、実質的に無臭であり、また、経時での臭気発生が抑制された、低臭性糖アルコール変性シリコーンの製造方法を提供すること；そのような低臭性糖アルコール変性シリコーンを利用した外用剤又は化粧料を提供すること；並びに、糖アルコール変性シリコーンが帯びる臭気の原因物質であるカルボニル化合物を正確に、また、簡便に定量する方法を提供すること、を目的とする。
【解決手段】上記課題は、糖アルコール変性シリコーンを酸性物質で処理する工程を含む、糖アルコール変性シリコーンの製造方法、及び当該糖アルコール変性シリコーンを含有する外用剤又は化粧料；並びに、カルボニル化合物を含む糖アルコール変性シリコーン及び２，４−ジニトロフェニルヒドラジンを一価低級アルコール及び水を含む反応媒体中で反応させて得られる反応溶液の吸光度から当該糖アルコール変性シリコーンのカルボニル価を測定する方法により解決される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属と樹脂との異種材料を簡便に接合できる接合剤を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の異種材料接合剤は、メルカプト基含有アルコキシシラン１モルに対して１〜５モルの水及び０．１〜０．０１モルの有機酸の存在下に、メルカプト基含有アルコキシシランを加水分解及び重縮合して得られるメルカプト基含有ポリオルガノシリル重縮合物からなる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、有機化学、特に、ポリマー化学の分野において幾つかの用途に適する成分又は添加剤を提供することである。
【解決手段】式（Ｉ）の基本構造を有するゾルゲル製品の形態の多分枝の粒状の有機／無機ハイブリッドポリマーで、ＸはＣ₁−Ｃ₁₈アルキレン又はアリーレンであり、Ｒ₁からＲ₆は水素、Ｃ₁−Ｃ₁₈アルキル、アリール、ホルミル、脂肪族もしくは芳香族カルボニル、カルバモイル、スルホニル、スルホキシル、ホスホニル、スルフィニル又はホスフィニルから選ばれ、又はＲ₁からＲ₆は、酸、アルコール、フェノール、アミン、アルデヒド又はエポキシドの縮合生成物又は付加生成物から選ばれる。 （もっと読む）

【課題】表面に５０ｎｍ以上の深さの微細凹凸構造を有し、耐溶剤性にも優れたフィルムを提供すること。
【解決手段】光の作用により変形を誘起する光応答性部位を含む３官能のシラン化合物（Ａ）１〜２５モル％と、芳香環を１つ以上有し且つ前記光応答性部位を含まない３官能のシラン化合物（Ｂ）７０〜９８モル％と、４官能のシラン化合物（Ｃ）１〜２５モル％とを混合して調製したゾル溶液を用いて前駆体フィルムを作製し、該前駆体フィルムの表面に微細凹凸構造を形成し、該微細凹凸構造を有する前駆体フィルムに加熱処理を施すことによって得られるフィルムであり、
前記加熱処理後のフィルムの微細凹凸構造の深さが５０ｎｍ以上であり、
前記加熱処理後のフィルムをアセトンに室温で５分間浸漬した場合に、波長４８０ｎｍにおける、前記加熱処理を施す前の前駆体フィルムの吸光度に対する浸漬後のフィルムの吸光度の残存率が９０％以上である、
ことを特徴とする表面に微細な凹凸構造を有するフィルム。 （もっと読む）

【課題】 レジスト下層膜形成用に適し、レジスト膜との密着性に優れるシリコン含有膜を形成することができると共に、耐レジスト現像液性及び耐酸素アッシング性を有し、かつ現像時にレジスト残りが少なく、レジストパターンの形状が良好で倒れが少ないポリシロキサン組成物と、レジストパターンの形状が良好で倒れが少なく、微細化が可能なパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ポリシロキサン、並びに（Ｂ）窒素含有複素環構造と、極性基及びエステル基から選ばれる少なくとも一種とを有する化合物を含むことを特徴とするポリシロキサン組成物と、酸拡散制御剤を有するポリシロキサン組成物から得られるレジスト下層膜を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】改善された特性を有するポリマー分散液を提供する。
【解決手段】（ｉ）少なくとも１種の、一般式（Ｉ）：［Ｈ_２Ｃ＝ＣＸ（Ｙ）_ｎ］Ｓｉ（ＣＨ_３）_ｐ（Ｒ）_３−ｐ （Ｉ）［式中、Ｘは、水素原子又はメチル基であり、Ｙは、−ＣＨ_２−及び−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−から選択された二価の基であり、ｎは、０又は１であり、Ｒは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ及び２−メトキシエトキシから選択されたアルコキシ基であり、かつｐは、０又は１である］の不飽和シランと、（ｉｉ）少なくとも１種の、一般式（ＩＩ）：Ｒ^１Ｓｉ（ＣＨ_３）_ｑ（Ｒ^２）_３−ｑ （ＩＩ）［式中、Ｒ^１は、１〜１８個の炭素原子を有する直鎖状、分枝鎖状又は環状アルキル基若しくはアリール基若しくはポリエーテル基であり、Ｒ^２は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ及び２−メトキシエトキシから選択されたアルコキシ基であり、かつｑは、０又は１である］のオルガノシラン及び／又は少なくとも１種の、一般式（ＩＩＩ）：Ｓｉ（Ｒ^３）_４ （ＩＩＩ）［式中、基Ｒ^３は、同じ又は異なる基であり、かつＲ^３は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ及びイソブトキシから選択されたアルコキシ基である］のケイ酸エステルとを有する物理的混合物の成分が、ポリマー構造中に取り込まれているポリマー分散液。 （もっと読む）

【課題】水分の吸着が抑制されて環境耐性に優れた反射防止膜、反射防止積層体及び光学機器、並びに、反射防止膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】末端基として炭素数４〜８のフッ素化アルキル基と、シロキサン結合とを有する化合物を含むことを特徴とする反射防止膜。前記反射防止膜を最表層に有することを特徴とする反射防止積層体。末端基として炭素数４〜８のフッ素化アルキル基と、加水分解によりシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）に変化するアルコキシ基とを有するフッ素化合物を含有する液体材料を、対象面に塗布して硬化させることを特徴とする反射防止膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】親水性に富み親水性成分との相溶性に優れるだけでなく、疎水性をも備えており、また、シリコーン油、及び、炭化水素油、エステル油等の非シリコーン油の両方への相溶性に優れる新規なオルガノポリシロキサンを提供すること、並びに、この新規なオルガノポリシロキサンの良好な界面活性能、独特の使用感、高い安定性等の優れた特性を生かした様々な用途を提供すること
【解決手段】糖アルコール変性基とシロキサンデンドロン構造を有するシリルアルキル基、更に、任意に、長鎖炭化水素基、を同一分子中に備える、特定の化学構造を有する共変性オルガノポリシロキサンを調製し、当該共変性オルガノポリシロキサンを界面活性剤、粉体処理剤、ゲル化剤等として、適宜、粉体、油剤等と共に、化粧料用原料として外用剤、特に化粧料に配合する。 （もっと読む）

【課題】 トランスファー成形性などの成形加工性が良好であり、高い耐光性および耐熱性を有する半導体のパッケージ用硬化性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】 アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）に対して、前記（ａ）成分とヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する化合物（ｂ）を変性して得られた多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）を必須成分として含有することを特徴とする半導体パッケージ用硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

アルキルアルコキシシランとカチオン性アルコキシシランとを含む混合物を反応させ、自己分散したシリコーン樹脂を形成する工程と、続くシリコーン樹脂と水とを混合して分散体を形成する工程によるシリコーン樹脂の水分散体の製造方法が開示される。その結果としてもたらされる分散体は、様々な基板上に塗膜を形成するのに有用であり、実質的に共界面活性剤または揮発性有機溶媒を含まない。 （もっと読む）

【課題】樹脂への分散性に優れ、屈折率を調整した疎水性酸化ジルコニウム粒子であって、該疎水性酸化ジルコニウム粒子を利用することにより、光透過率が高く、耐熱性に優れた樹脂硬化物膜を調製することのできる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】疎水性酸化ジルコニウム粒子は、酸化ジルコニウム粒子の表面に、トリアルキルシリル基が結合したシリカ被覆層を有し、平均粒子径が５〜３０ｎｍの範囲にあり、屈折率が１．５８〜２．０の範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
皮膜化する際、硬化性を阻害せず、帯電防止性能と離型性能を１回の塗布工程にて発現し、密着性が高い皮膜を形成できる帯電防止離型組成物を提供すること。
【解決手段】
少なくとも１つ以上のイソシアネート基とケイ素原子が直接結合した構造を有するイソシアネートシラン化合物（成分Ａ）、末端又は側鎖に少なくとも１つ以上の活性水素を有するポリオルガノシロキサン化合物（成分Ｂ）、電解質塩化合物（成分Ｃ）及び溶剤（成分Ｄ）を反応又は混合してなるものであることを特徴とする帯電防止離型組成物、該帯電防止離型組成物を使用して製膜してなる帯電防止離型層、該帯電防止離型層を有するプラスチックフィルム、工程紙及び粘着フィルム。 （もっと読む）

安全性の目的のために使用され、自動車等の乗り物の乗員を保護するエアバッグと共に、シリコーンゴム組成物でエアバッグおよびエアバッグ用布をコーティングする工程が記載されている。特に、本発明はヒドロシリル化によって硬化するシリコーンゴムコーティング、並びに脂肪族不飽和炭化水素または炭化水素酸素置換基を含むオルガノポリシロキサン（Ａ）、ケイ素に結合した３つ以上の水素原子、Ｓｉ−Ｈ基と脂肪族不飽和炭化水素または炭化水素酸素置換基の反応を促進する触媒、および補強材を含むシリコーン組成物の硬化性生成物であるエラストマーコーティングでコーティングされたエアバッグに関する。オルガノポリシロキサン（Ａ）は、（ｉ）式（ＳｉＯ_４／２）の１以上のＱ単位、（ｉｉ）式Ｒ^ｂ_２ＳｉＯ_２／２の１５〜６０００のＤ単位、および（ｉｉｉ）式Ｒ^ａＲ^ｂ_２ＳｉＯ_２／２［式中、Ｒ^ａ置換基はそれぞれ１〜６個の炭素原子を有するアルキル基、１〜６個の炭素原子を有するアルケニル基、１〜６個の炭素原子を有するアルキニル基からなる群から選択され、分岐鎖シロキサンの３つ以上のＲ^ａ置換基は、アルケニルまたはアルキニル単位であって、Ｒ^ｂ置換基はそれぞれ１〜６個の炭素原子を有するアルキル基、２〜６個の炭素原子を有するアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基およびメタクリレート基からなる群から選択される］Ｍ単位、からなり、単位（ｉ）および（ｉｉ）が適切な組み合わせで連結されている、分岐鎖オルガノポリシロキサン（Ａ１）を含む、工程である。
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【課題】高硬度でタック性が無く、耐熱黄変性及び耐光黄変性に優れた樹脂硬化物を与える樹脂組成物及び該樹脂組成物の材料を提供する。
【解決手段】シラノール基を含有するポリシロキサン化合物（ａ）とシリカ粒子（ｂ）とが縮合されてなる構造を少なくとも有し、該ポリシロキサン化合物（ａ）が、水酸基及び加水分解性基から選ばれる１つ以上の基を有するシラン化合物又はその縮合物の重合生成物であり、該ポリシロキサン化合物（ａ）中のシラノール基含有率が１〜９０ｍｏｌ％である、シリカ粒子含有縮合反応物。 （もっと読む）

【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液の作製方法等を提供する。
【解決手段】半導体装置のシャロートレンチアイソレーション構造の素子分離層の形成に用いられる素子分離材料用塗布液の作製方法は、混合液作製工程と絶縁膜形成前駆体作製工程と塗布液作製工程とを備えている。混合液作製工程では、炭素数２〜６個のアルコキシル基を有するアルコキシシラン化合物と第１の溶媒との混合液を作製する。絶縁膜形成前駆体作製工程では、この混合液に加水分解触媒及び水を添加し、加水分解、縮合して絶縁膜形成前駆体を作製する。水の添加量は、アルコキシシラン化合物中の全アルコキシル基１モルに対して０．３〜０．８倍モルの範囲とする。塗布液作製工程では、作製された絶縁膜形成前駆体に第２の溶媒を加え、素子分離材料用塗布液を作製する。 （もっと読む）

ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、式（Ｉ）のポリシラン単位、及び式（ＩＩ）のポリシラザン単位を含有し、式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立してＨ、Ｓｉ、及びＮ原子から選択され、Ｒ^３はＨ、Ｓｉ、又はＣ原子から選択され、ａ≧１であり、ｂ≧１であり、（ａ＋ｂ）≧２である。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、溶媒を含む組成物に製剤することができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、ＰＭＤ及びＳＴＩ用途において１００ｎｍ以下の幅及び少なくとも６のアスペクト比を有する溝を充填するために用いることができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、１分子当たり２個以上のケイ素原子を有するペルクロロポリシランの第１級アミンでのアミノ化により調製することができる。

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【課題】良好なインプリント性（転写性能）および高い生産性（ハイスループット）を有するとともに、フッ素系ガスと酸素ガスとのエッチング速度の高い選択性を発揮することができ、レジスト等に用いた場合、微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することができる転写材料用硬化性組成物およびその転写材料用硬化性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の転写材料用硬化性組成物は、炭素−炭素二重結合を有するイソシアヌレート化合物（Ａ）と、Ｓｉ−Ｈ基を有するシロキサン化合物（Ｂ）と、硬化性官能基および炭素−炭素二重結合を有する化合物（Ｃ）と、をヒドロシリル化反応させて得られる、イソシアヌレート骨格およびシロキサン骨格を有するヒドロシリル化生成物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）