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Fターム[4J246CA23]の内容

珪素重合体 (47,449) | Si上の一価の基 (11,590) | Siの次位にC;C、Hのみの炭化水素基 (5,052) | その次位のCが脂肪鎖(脂環)の炭化水素 (3,988) | 飽和脂肪族基、アルキル (2,917)

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【課題】シラノール基を有するオルガノシラン及び低分子量のオルガノシロキサンを高収率で、しかも簡便かつ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1):
SiR(OR(4−m) (1)
(式中、Rは同一又は異なる、非置換もしくは置換の1価炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基、mは1,2又は3である)
で示されるオルガノアルコキシシランと、
(B)(A)成分のアルコキシ基に対して1.0倍モル〜3.0倍モル量の、体積抵抗率が1×10Ω・cm以上である水とを、
陽イオン交換樹脂と接触させることにより反応させることを特徴とする、シラノール基を有するオルガノシラン及びオルガノポリシロキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ベタつきがなく感触が良好であり、かつ、エタノールに均一に溶解するオルガノポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンに、下記一般式(1)で表される繰返し単位からなるポリ(N−アシルアルキレンイミン)のセグメントが結合してなるオルガノポリシロキサン化合物の製造方法であって、環状イミノエーテル化合物を開環重合して、末端反応性ポリ(N−アシルアルキレンイミン)を調製する工程、(b)前記工程(a)で得られた末端反応性ポリ(N−アシルアルキレンイミン)100gに対して、分子鎖の末端及び/又は側鎖にアミノ基を有する変性オルガノポリシロキサンを30g/分以上の速度で添加して反応させる工程を含む、オルガノポリシロキサン化合物の製造方法。


(前記一般式(1)中、R1は、水素原子、炭素数1〜22のアルキル基、アラルキル基、又はアリール基を表し、nは2又は3を表す。) (もっと読む)


【課題】解像度に優れており、且つ所望形状のパターンを精度良く形成することのできる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の感放射線性組成物は、(A)ポリシロキサンと、(B)1価の陰イオンを2個以上有する構造、及び1価の陽イオンを2個以上有する構造のうちの少なくとも一方を分子内に有する化合物と、(C)溶剤と、を含有する。 (もっと読む)


【課題】未加水分解の残基が殆どなく、しかも副生物が極めて少なく高収率である両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1):
SiRR(OCOR3 (1)
(式中、R1およびR2は独立に置換または非置換の一価炭化水素基、R3は炭素原子数1〜4のアルキル基)
で示されるジオルガノジアシルオキシシランを、シクロペンチルメチルエーテル中において、少量の水の存在下、部分加水分解および縮合反応に供し、
(B)工程(A)で得られた反応混合物を、大過剰量の水で洗浄することにより、前記ジオルガノジアシルオキシシランの加水分解を完全に進行させるとともに加水分解副生物であるカルボン酸を有機相から抽出、除去し、
(C)工程(B)で得られた有機相からシクロペンチルメチルエーテルを留去させる、
工程を有する両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】(メタ)アクリロキシ基を有するオルガノポリシロキサンを、一つの反応容器内においてワンポットで簡便に、ゲル化等の副反応を伴うことなく容易に製造することを可能にする方法、及び係る方法により得ることのできるオルガノポリシロキサンを提供すること。
【解決手段】下記一般式(1):
[化1]


(式中Rはアクリロキシ基又はメタアクリロキシ基を示す。)で表されるオルガノポリシロキサン。 (もっと読む)


【課題】ポリシランに含まれる不純物を分離除去し、ポリシランを効率よく精製する方法、及びこの方法により得られたポリシランを提供する。
【解決手段】溶媒の存在下で、ポリシランと金属塩とを接触させたのち、金属塩を分離する。この方法では、溶媒に溶解したポリシランと固体状態の金属塩とを接触させてもよい。また、前記方法では、代表的には、ポリシランを溶解可能な溶媒中で、ポリシランと固体状態の金属塩とを混合し、撹拌してポリシランと金属塩とを接触させてもよい。溶媒に溶解したポリシラン溶液を固体状態の金属塩に流通させて接触させてもよい。また、溶媒に溶解したポリシラン溶液を、金属塩が敷設された濾過用部材に流通させてもよい。前記金属塩は、硫酸金属塩(硫酸ナトリウムなど)であってもよい。この方法では、不純物を含みやすい分岐状構造を有するポリシランであっても効率よく精製できる。 (もっと読む)



【課題】安定化されたネットワーク状ポリシランを得る。
【解決手段】少なくともトリハロシランを含むハロシランが重合したネットワーク状のポリシラン(例えば、ポリアルキルトリハロシラン、アリールトリハロシラン−アルキルトリハロシラン共重合体、アリールトリハロシラン−アルキルアリールジハロシラン共重合体など)の重合末端(ハロシリル基、シラノール基など)を、炭化水素基(例えば、アルキル基など)などの封鎖基により封鎖する。 (もっと読む)


【課題】アルカリ現像性、露光感度、および解像度に優れ、その硬化物が、低温処理を採用した場合でも、基板との密着性および弾性回復特性に優れているフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 親水性エポキシ樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、エポキシ基および/またはアルコキシ基を2個以上を分子内に有するカチオン重合性化合物(C)、2個以上の加水分解性アルコキシ基を有するシロキサン化合物(D)、光ラジカル重合開始剤(E)、および酸発生剤(F)を含有するアルカリ現像可能なネガ型の感光性樹脂組成物で、光照射による硬化物を200℃以下でポストベークさせて形成されたフォトスペーサの弾性回復率が50%以上であることを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物(Q)である。 (もっと読む)


【課題】コンタクトレンズなどの眼用レンズに好適なポリマーを与えるモノマーとして好適に使用可能な、シリコーン化合物を高純度で提供する。
【解決手段】下記一般式(a)及び/または(a’)で表されるシリコーン化合物の純度が87%以上であり、(a)及び/または(a’)の加水分解物であるジヒドロキシアルキル基を有するシリコーン化合物の含有率が0.4%以上、3%以下であるシリコーン化合物。


(ここで、Aはシロキサニル基を表す。R1は重合性基を有する炭素数1〜20の置換基を表す。R2〜R4はそれぞれ独立に水素、置換されていてもよい炭素数1〜20の置換基または−X−Aを表す。Xは置換されていてもよい炭素数1〜20の2価の置換基を表す。) (もっと読む)


【課題】高温低加湿環境下でプロトン伝導を有するリン酸を固定化した全固体電解質を提供することを目的とする。
【解決手段】リン酸基を含む重合体とる重合体からなるブロック共重合体を含むことを特徴とし、リン酸の飛散防止と高温使用時の耐久性と低加湿環境下でプロトン伝導度を有する全固体電解質を提供する。 (もっと読む)


【課題】新規なシリコーンリン酸トリエステルを開発し、それを化粧料用粉体等の表面処理剤として応用すること。
【解決手段】新規なシリコーンリン酸トリエステルは、式(I)(式中、各Rは、それぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Rは−O−及び−CO−から選ばれる少なくとも1種を有していても良い炭素数2〜7の2価の炭化水素基を表し、nは5〜40のいずれかの整数を表す)で表される化合物であり、これを粉体の表面処理剤として使用すると、少量の処理量で撥水性、分散性を発現し、付着性に優れている。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の金属酸化物の表面被覆処理に好適である。化粧料には、シリコーンリン酸ジエステル及び/又はシリコーンリン酸モノエステルを含有していてもよい。
【化1】
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【課題】各樹脂への分散性に優れ、成形物の諸物性を低下させずに難燃性を付与でき、更に耐水性を向上できる表面処理無機粉体を提供する。
【解決手段】無機粉体を、Xm(R2nSi(OR1(4-m-n)
(X、R1、R2は1価炭化水素基、mは1又は2、nは0又は1、m+nは1又は2)
の化合物或いはその部分加水分解縮合物、又はこれと、
(OR13-q(R2qSi−Y−Si(R2p(OR13-p
(Yは2価有機基又は−(R4−Si(R32s−(OSi(R32r−R5t−、R3は1価炭化水素基、R4は2価炭化水素基、R5はO又は2価炭化水素基、rは1〜40、s,tは0又は1、p,qは0〜3、p+qは0〜4)
の化合物或いはその部分加水分解縮合物を含む原料を、生成するポリシロキサンと分離状態となる液状加水分解縮合触媒を用いて得たオルガノポリシロキサンで表面処理してなる表面処理無機粉体。 (もっと読む)


【課題】シルセスキオキサン骨格をケイ素系ポリマーの主鎖に含み、かつ耐熱性に優れるだけではなく、常温域で線膨張係数の非常に低い架橋シリコーン硬化物を提供すること。
【解決手段】式(1)で表されるケイ素化合物と、式(2)で表される架橋性ケイ素化合物及び式(2)で表される架橋性ケイ素化合物のオリゴマーからなる群より選ばれる一以上から得られる、ガラス転移点が30℃以下、かつ線膨張率が10ppm以下である、シロキサンポリマー架橋硬化物による。


(式(1)中、mは、独立して4〜30の整数を表し;nは、重量平均分子量2,000〜10,000,000を満たす数字を表すR3−Si(R43(2) (もっと読む)


【課題】光反応性基を有する新規なポリシロキサン化合物およびその製造方法、および上記のポリシロキサン化合物よりなる屈折率変換材料を提供する。
【解決手段】ポリシロキサン化合物は、下記式(a)で表される基を有する。


〔式中、R2は、特定の光反応性基を示し、R3は、メチレン基または炭素数2〜10のアルキレン基を示し、R4およびR5は、それぞれ独立に炭素数1〜10の炭化水素基を示す。nは0または1。〕 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、200℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)〜(4)で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】流動性、耐衝撃性、耐熱性及び耐熱エージング性に優れている樹脂組成物、及び成形品を提供する。
【解決手段】(a)メルトフローレート(230℃、荷重2.16Kg)が0.1〜15g/10分のポリプロピレン系樹脂:20〜99質量部、
(b)ポリフェニレンエーテル系樹脂:80〜1質量部、
を含有し、
(a)成分と、(b)成分との合計100質量部に対して、
(c)ビニル芳香族化合物を主体とする少なくとも1個の重合体ブロックAと、共役ジエン化合物の1,2−ビニル結合量と3,4−ビニル結合量との合計量が45〜90%である共役ジエン化合物を主体とする少なくとも1個の重合体ブロックBとを有するブロック共重合体を水素添加してなる水添ブロック共重合体:1〜30質量部、
(d)籠型シルセスキオキサン及び/又は籠型シルセスキオキサンの部分開裂構造体:0.1〜10質量部、
を含有する樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】基板表面上のナノメートルレベルの開口幅を有し、アスペクト比が大きいトレンチ(溝)への埋め込み性に優れ、ボイドなどの欠陥の発生が抑制され、電気的絶縁性に優れたアイソレーション構造を製造するのに好適なトレンチ埋め込み用組成物、および該組成物を用いたトレンチ・アイソレーション構造の製造方法の提供。
【解決手段】アルキルトリアルコキシシランを50モル%以上含むアルコキシシラン原料を加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物を含有し、該加水分解縮合物の重量平均分子量が1000〜50000であり、該加水分解縮合物の含有量が組成物全量に対して14質量%超30質量%以下であるトレンチ埋め込み用組成物の塗膜14により、基板10表面上に形成されたトレンチ12を埋め込む。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性に優れている光半導体素子用封止剤を提供する。
【解決手段】分子内に環状エーテル含有基1個以上有するシリコーン樹脂と、液状のフェノール樹脂とを含有し、前記シリコーン樹脂は、平均組成式が下記一般式(1)で表される樹脂を含み、かつ下記式(a)より求められるフェニル基の含有比率が15〜60モル%である、光半導体素子用封止剤。
【化1】


一般式(1)中、a、b及びcは、それぞれa/(a+b+c)=0〜0.3、b/(a+b+c)=0.5〜0.9、及びc/(a+b+c)=0.1〜0.4を満たし、R1〜R6は、少なくとも1個が環状エーテル含有基及び/またはフェニル基を表し、前記環状エーテル含有基及びフェニル基以外のR〜Rは、直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基のフッ化物基を表す。R〜Rは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
フェニル基の含有比率(モル%)=(平均組成式が一般式(1)で表される樹脂の1分子あたりに含まれるフェニル基の平均個数×フェニル基の分子量/平均組成式が一般式(1)で表される樹脂成分の平均分子量)×100 ・・・式(a) (もっと読む)


【課題】界面活性剤を使用するまでもなく、1段階の乳化工程のみでも調製することができ、しかも生成率が高く、同時に長期間の安定性にも優れたW/O/W型ピッケリングエマルションを提供する。
【解決手段】内部に水相の粒子を閉じ込めた油相の粒子が水相中に分散した状態のW/O/W型ピッケリングエマルションにおいて、油相とその両側の水相との界面に特定の中空半球状有機シリコーン微粒子を含有する有機シリコーン微粒子を局在させ、且つ水相を40〜80質量%、油相を10〜50質量%及び有機シリコーン微粒子を10〜20質量%(合計100質量%)の割合で含有して成るものとした。 (もっと読む)


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