【課題】本発明の目的は、ＰＳＡ方式の液晶表示素子において、長時間の連続駆動後、特に長時間光に曝された場合に、液晶配向性能及び電気特性の維持に優れた液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供することを課題とする。特にＩＰＳモード、ＦＦＳモードといった横電界方式の液晶表示素子において上記課題を達成できるような液晶配向剤、それを用いて形成される液晶配向膜及び液晶表示素子を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、ＰＳＡ方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、［Ａ］光配向性基を有するポリオルガノシロキサン、［Ｂ］主鎖に光配向性基を有する重合体、及び［Ｃ］分解型光配向性を有するポリアミック酸及び／又はポリイミドからなる群より選択される少なくとも１種の重合体を含有する液晶配向剤である。 （もっと読む）

【課題】アミノ官能性化合物をベースとする有機官能性シロキサンオリゴマー混合物の提供。
【解決手段】式Ｉの連鎖状シロキサンオリゴマーと式ＩＩの環式シロキサンオリゴマーとの混合物。




（式中、置換基Ｒは、アミノプロピル官能基、メトキシ基、エトキシ基、２-メトキシエトキシ基、プロポキシ基などを有す） （もっと読む）

【課題】上層塗布時に溶解混合又は膨潤混合を起こさず、膜質に優れ、かつ素子性能向上（高発光効率、及び低駆動電圧）に寄与する有機電界発光素子用材料を提供すること。
【解決手段】２個以上のトリアリールアミンユニットを一つのペンダント基として有し、該ペンダント基が炭素数３以上の２価の連結基を介してケイ素原子と連結し、かつ前記ペンダント基の０．１％以上１０％以下が２個以上のケイ素原子と連結した構造を有するシロキサン化合物である、有機電界発光素子用材料。 （もっと読む）

【課題】耐久性、耐候性を有するコーティング用硬化性樹脂組成物、これを使用した太陽電池用保護シート及び太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】Ｒ¹ＳｉＯ_3/2単位および／またはＲ²Ｒ³ＳｉＯ_2/2単位と、シラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、アルコール性水酸基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、下記一般式で表される結合により結合された複合樹脂（Ａ）、ポリイソシアネート（Ｂ）、及び金属酸化物（Ｃ）を含有し、前記（ａ１）の含有率が１０〜６０重量％であり、且つ、ポリイソシアネート（Ｂ）の含有率が５〜５０重量％である硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を保護層に有する太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール。
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【課題】優れた耐擦り傷性、耐候性、さらにプラスチック製基材、特にポリカーボネート樹脂製基材に対する付着性を有する硬化塗膜を形成しうる活性エネルギー線硬化型塗料組成物を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つがウレタン結合及び１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（ａ）、分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレート（ｂ）、ポリ［（メタ）アクリロイルオキシアルキル］イソシアヌレート（ｃ）、及び光重合開始剤（ｄ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】従来と異なり、優れた熱的及び機械的特性を発揮する、ＯＬＥＤや有機太陽電池のような有機電子素子への適用に好適な、新規なはしご構造のポリシルセスキオキサン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるポリシルセスキオキサンは、置換されたまたは置換されていない芳香族複素環式基がシロキサン主鎖に連結されたはしご構造を有する。これにより、優れた熱的及び機械的特性を示しつつも、光活性基の種類に応じて高機能性及び多様な特性をもつポリシルセスキオキサンを提供することができ、該ポリシルセスキオキサンは、有機及び無機ハイブリッド材料物質が適用される多様な産業用新素材として利用され得る。 （もっと読む）

【課題】反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン含有膜形成用組成物は、下式（１）で表される化合物由来の構造単位（ａ１）を含有するポリシロキサンと、有機溶媒と、を含有する。


〔式中、Ｒ^１は、ｂ価の置換されてもよい芳香族炭化水素基又は置換されてもよい複素環基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して１価の有機基を表す。ａは０〜１の数であり、ｂは２又は３である。Ｘ^１は、単結合、置換されてもよいメチレン基、炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又はフェニレン基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れ、形成されるレリーフ層の弾性及びインキ転移性に優れたレリーフ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物、及び、（ｂ）バインダーポリマーを含有する。Ｒ¹は結合性基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ａは（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、ｋは０〜４の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表す。
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【課題】べたつき感を与えることなく、皮膚との親和性及び密着性に優れるオルガノポリシロキサン、及び該オルガノポリシロキサンを含む化粧料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるオルガノポリシロキサン。


[式（１）中、Ｒ^１は、互いに独立に、Ｃ_１−３０アルキル基、Ｃ_１−３０フッ素置換アルキル基、Ｃ_６−３０アリール基、及びＣ_６−３０アラルキル基から選ばれる基であり、Ｒ^２は、無水アリルコハク酸の反応生成物であり，さらに２−アミノ１．３−プロパンジオールとの反応生成物である。Ａはポリジアルキルシロキサンの反応生成物である。 （もっと読む）

【課題】 ポリオルガノシロキサン粒子の製造毎の平均粒子径のばらつきが小さく、所望の粒子径のポリオルガノシロキサン粒子を再現性よく製造する。
【解決手段】 下記式（１）で表される加水分解性有機ケイ素化合物相を上層に配置し、加水分解用触媒の水／アルコール混合溶媒相を下層に配置し、加水分解性有機ケイ素化合物と加水分解用触媒とを接触させるポリオルガノシロキサン粒子の製造方法において、アルコールが炭素数５〜１０の一価アルコール（ＲＯＨ₁）を含む。
Ｒ¹_nＳｉ（ＯＲ²）_4-n・・・・・・・（１）
（式中、Ｒ¹は置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数１〜１０の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数２〜５のアシル基を示し、ｎは０〜３の正数である） （もっと読む）

医療用具の成分として局所用途と内部用途の両方に使用される両親媒性バイオミメティックホスホリルコリン含有シリコーン化合物。双性イオン性ホスホリルコリン基を含むシリコーン化合物は重合性であっても、または非重合性であってもよい。具体的な応用例としては、眼用レンズ、眼用レンズケア溶液、液体絆創膏、創傷ドレッシング、ならびに潤滑性および抗血栓性コーティングの有効機能成分としての使用が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】所望の粒子径を有し、且つ、粒度分布の狭いポリオルガノシロキサン粒子および有機無機複合粒子の製造方法、特に、製造ロット間における粒子径のバラツキが少ないポリオルガノシロキサン粒子および有機無機複合粒子の製造方法を提案する。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン粒子および有機無機複合粒子の製造方法であって、アルコールを必須とする混合溶媒中で、アルコキシシラン化合物の加水分解縮合反応を行ってポリオルガノシロキサン粒子を合成する合成工程を含み、上記合成工程において、不可避不純物である粒子径２μｍ以下のパーティクル量が５個／ｍｌ〜２００個／ｍｌのアルコールを用いる。 （もっと読む）

【課題】高い撥水性を有し、分散性が高いフラーレン含有ナノコンポジット粉末状粒子。
【解決手段】フラーレンと下記一般式（１）で表される含フッ素オリゴマー及び、下記一般式（２）で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーの反応工程を行い得られる、フラーレンを含有するナノコンポジット粉末状粒子。
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【課題】光配向法によりプレチルト角を付与することができ、付与されたプレチルト角の経時的安定性に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、エポキシ基を有する特定のポリオルガノシロキサンと、（Ａ）桂皮酸誘導体および（Ｂ）好ましくはアセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造、フルオレン構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、アクリジン構造およびインドール構造から選択される光増感性構造を有する特定の化合物とを反応させて得られる感放射線性ポリオルガノシロキサンを含有する。 （もっと読む）

【課題】重合安定性及び貯蔵安定性、機械安定性に優れ、水性塗料として用いた場合、高度な耐候性、耐温水性、温冷サイクル性、顔料分散性、耐汚染性、低温時の伸び性を同時有する重合体エマルションを提供する。
【解決手段】オルガノシロキサン（Ｉ）とグラフト交叉剤（ＩＩ）とを重縮合して得られるオルガノシロキサン重合体（ＩＩＩ）を含む第一のエマルションに、第一のエチレン性不飽和単量体（ＩＶ）と、第二のエチレン性不飽和単量体（Ｖ）と、所定の化学式で表されるエチレン性不飽和単量体（ａ）を含む第三のエチレン性不飽和単量体（ＶＩ）と、を所定量順次添加して多段乳化重合を行う。 （もっと読む）

【課題】弾性率、機械強度等の基本的性能に加えて、特に耐熱性や低誘電性、低誘電正接等の特性に優れ、高温環境下においても各種物性の低下が低い成型体を形成できる繊維複合樹脂組成物として、特に自動車等の構造部材用途、スポーツ製品用途、プリント配線基板等の実装用途等に好適に使用することができる熱硬化性樹脂組成物、繊維複合樹脂組成物及びそれを硬化して得られる成型体を提供する。
【解決手段】繊維複合樹脂組成物を調製するために用いられる熱硬化性樹脂組成物であって、上記熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂及び下記平均組成式（ｍ）で表されるシラン化合物（Ｉ）を必須成分として含有し、熱硬化性樹脂組成物を１００質量％とすると、シラン化合物（Ｉ）が５〜８０質量％であることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
ＸａＹｂＺｃＳｉＯｄ （ｍ）
式中、Ｘは、同一若しくは異なって、イミド結合を有する有機骨格を表す。Ｙは、同一若しくは異なって、水素原子、水酸基、ハロゲン原子及びＯＲ基からなる群より選ばれる少なくとも１種を表す。Ｒは、同一若しくは異なって、アルキル基、アシル基、アリール基及び不飽和脂肪族残基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表し、置換基があってもよい。Ｚは、同一若しくは異なって、イミド結合を有さない有機基を表す。ａは、０でない３以下の数であり、ｂは、０又は３未満の数であり、ｃは、０又は３未満の数であり、ｄは、０でない２未満の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋２ｄ＝４である。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する２種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、化学増幅ポジ型レジスト組成物を塗布し、レジスト膜を形成する工程、該膜に第１ポジ型パターンを得る工程、更に該ポジ型パターンに反転膜形成用組成物に使用される有機溶剤への耐性を与える工程、第２化学増幅ポジ型レジスト材料で反転膜を形成し、該膜に第２ポジ型パターンを得る工程を含み、更に第２ポジ型レジストパターンを得るアルカリ現像液工程において、上記アルカリ性現像液に可溶に反転された第１ポジ型パターンが、第２パターンを得る工程中に溶解除去、反転転写される工程を含むダブルパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ヒドロキシ基含有溶剤や高極性溶剤を用い反転用膜の第２レジスト膜を成膜しても、第１ポジ型レジストパターンにダメージを与えず、間隙に第２レジスト材料を埋め込むことができ、第１ポジ型パターンを現像液でアルカリ可溶除去でき、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

本発明は、アミノ官能基及びビシナルジヒドロキシアルキル官能基及び／又はエポキシ官能基を有するほぼ完全に加水分解された水溶性のポリシロキサンを含有する、金属表面を被覆するための組成物、その製造方法、金属表面を被覆するための前記組成物の使用、並びに前記組成物で処理された金属部材、特にブレーキキャリパーに関する。 （もっと読む）

【課題】高い誘電率の絶縁膜を形成することができ、しかも表面平滑性が損なわれがたい、シルセスキオキサン系絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記の式（１）で示す構造を有するポリシルセスキオキサンを含むことを特徴とする。
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