【課題】揮発性溶媒をほとんどもしくは全く含有せずそして上塗りして水に浸した場合にブリスタリングの発生を減少する塗料組成物を提供。
【解決手段】一般式Ｉ：（Ｒ^１Ｏ−）_ｍＳｉ（−Ｒ^Ｘ−ＮＲ^２Ｒ^３）_４−ｍ・・・Ｉ。［式中、基−ＮＲ^２Ｒ^３内の少なくとも１つの窒素基はＲ^Ｚ基に直接結合しており、そしてＲ^Ｚは−（Ｃ＝Ｏ）Ｒ^４もしくは−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ^５である］の少なくとも１種のモノマーを反応させて得られるオリゴマーもしくはポリマー化合物を含んでなる塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】高い光透過率と高い安定性と、機械的及び耐熱、耐ＵＶ性において優れた硬化物を与えるシロキサンハイブリッド樹脂及びそれを含有する樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）多官能アルコール化合物と（ｂ）有機アルコキシシランとのアルコール交換反応によって製造されてなる末端アルコキシシリル基を有するシロキサンハイブリッド樹脂、前記（ａ）と（ｂ）にさらに(ｃ)シラノール基またはアルコール性水酸基を持つシロキサン化合物を加えてアルコール交換反応させてなるシロキサンハイブリッド樹脂、ならびに前記末端アルコキシシリル基を有するシロキサンハイブリッド樹脂を含む熱または光硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】光配向法により液晶分子の配向規制力を付与することができ、垂直配向型の液晶表示素子に適用する場合にあっては垂直配向規制力と塗布性とのバランスに優れ、一方ＴＮ型、ＳＴＮ型または横電解方式の液晶表示素子に適用する場合にあっては配向規制力に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式（Ａ’）


で表される構造を有する感放射線性重合体を含有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ヒドロシリル化反応の手法によらずに、ダブルデッカー型シルセスキオキサンに対して官能基を導入し液状化させた有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】式（１）で示される構造を有するケイ素化合物、およびその製造方法。
【化１】
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【課題】光配向法により液晶分子の配向規制力を付与することができ、垂直配向型の液晶表示素子に適用する場合にあっては垂直配向規制力と塗布性とのバランスに優れ、一方ＴＮ型、ＳＴＮ型または横電界方式の液晶表示素子に適用する場合にあっては配向規制力に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式（１’−１）


で表される構造に代表される特定の構造を有する感放射線性重合体を含有する。 （もっと読む）

【課題】基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供する。
【解決手段】基材上に、光及び熱硬化性下塗り塗料組成物（Ｉ）を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つがウレタン結合及び１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（ａ）、及び光重合開始剤（ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物（II）を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】光反応性基を有する新規なポリシロキサン化合物およびその製造方法、および上記のポリシロキサン化合物よりなる屈折率変換材料を提供する。
【解決手段】ポリシロキサン化合物は、下記式（a）で表される基を有する。


〔式中、Ｒ²は、特定の光反応性基を示し、Ｒ³は、メチレン基または炭素数２〜１０のアルキレン基を示し、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立に炭素数１〜１０の炭化水素基を示す。ｎは０または１。〕 （もっと読む）

【課題】
耐熱性があり、化学安定性に優れ、低含水条件下でも良好なプロトン伝導性を有し、且つ、メタノールのクロスオーバー現象を抑制するための低いメタノール透過性の両方を兼ね備えた燃料電池用固体電解質膜、および当該電解質膜の工業的に簡便かつ多量生産に適した製造方法を提供する。
【解決手段】
強酸性の特定のビス（パーフルオロアルカンスルホニル）メチド部位を有するメチド系シロキサン化合物と、特定のポリシロキサン化合物および特定のシラン化合物を架橋反応させることにより得られるシリコン樹脂を用いたことを特徴とする燃料電池用固体電解質膜およびその製造方法。 （もっと読む）

ナノシリカ粒子の表面が、アルデヒド官能基を含有するシロキサン置換基で修飾され、ポリマーコーティング組成物等の組成物に容易に組み込まれる粒子を提供し、引っかき抵抗性、吸塵抵抗性、非接着性を向上させる一方で、優れた膜形成特性を維持する。新規のシリカ粒子、それらを調製するための簡素で経済的なプロセス、ならびに防塵塗料およびそれらを含有するポリマー成形組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】ポリマーの物性を損なうことなく、耐候性、表面撥水性、表面平滑性及び潤滑性等の特性を付与することが可能なポリオルガノシロキサンおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされる平均分子量が５００〜１２０，０００の末端カルボン酸変性ポリオルガノシロキサン。
【化１】


（１） （もっと読む）

【課題】有機ケイ素基を表面に備える金属又は金属酸化物の微粒子を含有するポリシロキサン組成物、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】平均組成式(Ａ)で表されるポリシロキサン、及び、一般式(Ｂ)で表される有機ケイ素基が化学結合により表面に固定化された金属又は金属酸化物の微粒子からなるポリシロキサン組成物、並びに、金属又は金属酸化物の微粒子、及び、反応性官能基を有する一価有機基、及びケイ素原子結合加水分解性基若しくはシラノール基を有する有機ケイ素化合物を、水の存在下、２００℃以上の温度の条件下で反応させ、前記ポリシロキサン及び前記金属又は金属酸化物の微粒子を同時に形成することを特徴とする前記ポリシロキサン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板と偏光板の接着、又は偏光板と位相差板との積層板との接着に適した感圧接着剤の提供。
【解決手段】（Ａ）アクリル系ポリマーと、（Ｂ）下記平均組成式：Ｙ_ａＲ^１_ｂＲ^２_ｃＳｉ（ＯＲ³）_ｄ（ＯＨ）_eＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）／２}・・・（１）（式中、Ｙは一部がエノール化していてもよいβ-ケトエステル基含有有機基、Ｒ^１はメルカプト基、エポキシ基などの官能基を含み又は含まない炭素原子数１〜１８の一価炭化水素基、Ｒ^２は官能基を含まず、且つＲ^１とは異なる炭素原子数１〜１８の一価炭化水素基、Ｒ³は炭素原子数１〜４の一価炭化水素基、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，及びｅは、それぞれ０．０１≦ａ≦１、０≦ｂ＜１、０≦ｃ≦２、０≦ｄ≦２、及び０≦ｅ≦１で示される数であって、且つ２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦３を満たす。）で表されるオルガノポリシロキサン化合物からなる接着性改質剤とを含有する液晶素子用感圧接着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】
揮発性成分が少なく、各種処理剤の成分として使用してもアルコール発生量が少ないβ−ケトエステル構造を有する有機ケイ素化合物として新規なオルガノポリシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】平均組成式：
Ｙ_ａＲ^１_ｂＲ^２_ｃＳｉ（ＯＲ³）_ｄ（ＯＨ）_eＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）／２}
（式中、Ｙは少なくとも一部がエノール化していてもよいβ-ケトエステル基を有する有機基、Ｒ^１はメルカプト基、エポキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の官能基を含んでもよい一価炭化水素基であり、Ｒ^２は官能基を含まない一価炭化水素基、Ｒ³は一価炭化水素基、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，及びｅは、それぞれ、０．０１≦ａ≦１、０≦ｂ＜１、０≦ｃ≦２、０≦ｄ≦２、及び０≦ｅ≦１で示される数であって、かつ２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦３を満たす。）
で表されるオルガノポリシロキサン化合物。 （もっと読む）

【課題】
硬化物の耐熱性が高く、環境に与える負荷の低いポリオルガノシロキサン組成物およびその硬化体を提供すること。
【解決手段】
本発明のポリオルガノシロキサン組成物は、（Ａ）１分子中の少なくとも一方の末端がシラノール変性したポリオルガノシロキサンと、（Ｂ）上記ポリオルガノシロキサンを架橋する架橋剤であって、上記ポリオルガノシロキサン１モルに対して０．３〜３モルのシリコンアルコキシドと、（Ｃ）上記ポリオルガノシロキサン１モルに対して０．０５〜２モルのヒドロキシアセトンを含む。 （もっと読む）

本発明は、化学線架橋性直鎖状ポリシロキサン共重合体を提供する。該化学線架橋性ポリシロキサン共重合を用いて、硬化後表面処理を行わずに、親水性表面を有するシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズを製造することができる。本発明は、本発明の化学線架橋性ポリシロキサン共重合体を含むレンズ形成材料から得られるシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ、及び本発明の化学線架橋性ポリシロキサン共重合体を製造する方法にも関する。加えて本発明は、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズの表面を親水性にすることができる内部湿潤剤として用いることができる、非架橋性直鎖状ポリシロキサン共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｒ¹ＳｉＸ₃（式中、Ｒ¹は、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランをアシル化して、アシル化されたトリハロシランを製造し、（Ｂ）層間移動触媒を含有する有機溶媒層と、水あるいは水とアルコール及び／又はグリコールとの混合水性媒体との二層状態を作り、前記有機溶媒層に前記アシル化されたトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたアシル化シルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、加熱、硬化することにより、耐熱性パターン膜を形成する。 （もっと読む）

一般式：［Ｒ³ＣＨ₂−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨＲ³−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−］_yＬ−（Ｓｉ） （Ｉ）〔式中、Ｒ³は、少なくとも１２個のＣ原子、特に少なくとも１４個のＣ原子を有する１価の置換されていてよい炭化水素基を表わし、Ｘは、式−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ²−または−Ｓ−、特に−ＮＨ−の基を表わし、この場合Ｒ²は、１個以上の離隔した窒素原子を含有していてよい、１〜１８個のＣ原子を有する１価の炭化水素基を表わし、Ｌは、（ｂ＋１）官能性有機基、特に１〜１８個のＣ原子を有する２価の炭化水素基であり、ｙは、１、２または３、特に１であり、および（Ｓｉ）−は、Ｓｉ原子に対する結合を表わし、但し、Ｒ³は、それぞれ有機ケイ素化合物の全質量に対して最大３０質量％、特に最大２５質量％、有利に最大２０質量％、特に有利に最大１５質量％、殊に最大１０質量％の量で含有されている〕で示される少なくとも１個のＳｉ結合基Ｂを含有するワックス状β−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物が記載されている。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、化学増幅ポジ型レジスト組成物を塗布し、レジスト膜を形成する工程、該膜に第１ポジ型パターンを得る工程、更に該ポジ型パターンに反転膜形成用組成物に使用される有機溶剤への耐性を与える工程、第２化学増幅ポジ型レジスト材料で反転膜を形成し、該膜に第２ポジ型パターンを得る工程を含み、更に第２ポジ型レジストパターンを得るアルカリ現像液工程において、上記アルカリ性現像液に可溶に反転された第１ポジ型パターンが、第２パターンを得る工程中に溶解除去、反転転写される工程を含むダブルパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ヒドロキシ基含有溶剤や高極性溶剤を用い反転用膜の第２レジスト膜を成膜しても、第１ポジ型レジストパターンにダメージを与えず、間隙に第２レジスト材料を埋め込むことができ、第１ポジ型パターンを現像液でアルカリ可溶除去でき、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】有機無機複合体を容易に回収することが可能な新規の合成方法を提供する。
【解決手段】Ｍ−Ｏ−Ｍ（Ｍは珪素原子または金属原子をそれぞれ独立に示す）で表される結合を含む珪素および金属の酸化物からなるとともに少なくとも一部の珪素原子に結合している有機基をもつ有機無機複合体の合成方法であって、
１以上のアルコキシ基をもち有機基と共有結合で結合した珪素原子を有するオルガノアルコキシシランおよび金属原子を含む金属化合物を極性溶媒である第一溶媒に溶解して原料溶液を調製する調製工程と、
オルガノアルコキシシランと金属化合物とを加水分解するとともに脱水縮合させて有機無機複合体を合成する反応工程と、
反応工程後の溶液に該溶液と相溶しない第二溶媒を加えて有機無機複合体を第二溶媒に溶解させた後、第二溶媒と相溶しない溶液を除去する除去工程と、
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）