【課題】常温でハンドリングしやすい液体であり、ポットライフや貯蔵安定性が良好で、硬化収縮が少なく、硬化物の硬度が高く、表面にべたつきがない、耐熱性、耐UV性に優れるLED封止材用樹脂として適する多官能エポキシシリコーン樹脂を提供する。
【解決手段】ＯＲ基を３つ有するシランモノマー１０〜７０重量％と１つのエポキシ基及び２つのＯＲ基を有するシランモノマー３０〜９０重量％を、水とアルカリ金属炭酸塩又はアルカリ土類金属炭酸塩からなる塩基性触媒の存在下で縮合させ、次いで末端停止剤としてＯＲ基を１つ有するシラン化合物１０〜９０重量％用いて、酸性条件下で末端アルコキシ基、末端シラノール基の封止反応を行うことにより多官能エポキシシリコーン樹脂を得る。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどの層間絶縁膜に用いられる低い誘電率と優れた機械強度を有する層間絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）で表される化合物と下記一般式（２）で表される化合物とを酸触媒により脱水縮合して得られるポリマーを含有することを特徴とする。
【化１】


（Ｒ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも２つはヒドロキシル基、メトキシ基等から選ばれ、残りはメチル基、エチル基等から選ばれる。Ａはカゴ型構造を有する構造を表し、Ｙ_１〜Ｙ_４のうち少なくとも２つはヒドロキシル基であり、残りは水素、メチル基、エチル基等から選ばれる。） （もっと読む）

【課題】半導体素デバイスなどにおける低誘電率層間絶縁膜として使用するのに適した絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させた高分子化合物を含有する塗膜を基板上に形成した後、酸素雰囲気中で２５０〜３５０℃で焼成し、さらに水酸基と結合可能な架橋性化合物を含む媒体で処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高い空隙率を持ち低い屈折率を示し、生産性も良く、壊れ難く、しかも粒子径分布の狭い１μｍ以下の粒子径を有する中空シリコーン系微粒子凝集体とマトリックス樹脂とからなる被膜によって、屈折率が低く膜強度の高い透明な被膜を有する基材を提供することを目的とする。
【解決手段】 中空シリコーン系粒子が凝集した、体積平均粒子径が０．０４〜１μｍの範囲にある中空シリコーン系粒子凝集体を使用する。該凝集体と有機溶剤およびマトリックス樹脂を含んでなる透明被膜形成用塗布液により屈折率が低く膜強度の高い透明な被膜を作成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた透明性、接着性、耐クラック性を有し、ＬＥＤ封止材として利用価値の大きい水酸基とエポキシ基とを含有する変性オルガノポリシロキサン、その製造方法、それを含有する組成物及び発光ダイオード封止用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】下記平均組成式（Ｉ）で示され、かつ、下記（１）及び（２）を満たす変性オルガノポリシロキサン、該変性オルガノポリシロキサンの製造方法、それを含有する組成物及び発光ダイオード封止用組成物である。


（１）変性オルガノポリシロキサン１分子中に少なくとも２個の一価のエポキシ基含有有機基を含む。
（２）ｓ／（ｑ＋ｒ）＝０．１〜０．５ （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、（ａ）式Ｉ（ＳｉＸ_４）の１以上の異なるシリコン化合物の少なくとも１つのＸラジカルに第１の加水分解縮合反応（ＨＣＲ）を行う段階であって、ここでＸラジカル同士は同じまたは異なっており、各Ｘラジカルは、エタノール（ＥｔＯＨ）またはエタノールと水の混合物を溶媒として、１から２４時間の間、摂氏０度から摂氏７８度（エタノールの沸点）の温度で、０から７以下の範囲の初期ｐＨで酸触媒されるヒドロキシル、水素、またはエトキシ（ＥｔＯ）を表す段階と、（ｂ）段階（ａ）で得られた材料に第２のＨＣＲを行い、同時に、ガス拡散密閉された容器（gas diffusion tight container）で、１００から１０１３ｍｂａｒの圧力下で、好適には３００ｍｂａｒから８００ｍｂａｒの僅かな負圧下で、摂氏５０から７８度の温度で、好適には約７０度で、粘度が（摂氏４度で１０ｓ^−１のせん断率において）０．５から２の間の値に大幅に増加するまで、好適には１に増加するまで、一定の重量になるまで、および、一般式((SiO(OH)_0.75(OEt)_1.25? 1/64 H₂O)₄のシクロテトラシロキサンが形成され、モル質量が４＊約１１４ｇ＝約４５６ｇになるまで、徐々に蒸発させることで溶媒を除去する段階と、
（ｃ）ＰＥＳ材料を、閉鎖された、好適にはガス拡散密閉された容器で、数分（２から５分）から数時間（０．２から５時間、好適には０．５時間）という期間で冷却する段階と、（ｄ）段階（ｃ）で得られたＰＥＳ材料を、第３のＨＣＲによりｒＰＥＳ材料に変換する段階と、から得られるポリエトキシシロキサン（ＰＥＳ）材料に関する。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）レジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する第一のパターンどうしの間に、ポリシロキサンを含む樹脂成分及び溶媒を含有するとともに、酸発生剤から発生する酸の作用により架橋可能な樹脂組成物からなる未架橋埋め込み部を形成する工程と、（３）未架橋埋め込み部の所定領域を架橋させて、第一のパターン、第一の架橋部、未架橋埋め込み部、及び第二の架橋部がこの順で配列して繰り返す配列構造を形成する工程と、（４）第一のパターン及び未架橋埋め込み部を除去して第二のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

カルダノールをベースとするダイマーが提供される。それらのカルダノールダイマーは、シランを用いたヒドロシリル化によって形成される。カルダノールをベースとするダイマーをさらに反応させて、船穀および海洋構造物上の防汚コーティングとして使用することが可能なエポキシ硬化剤およびエポキシ樹脂を形成させることができる。カルダノールダイマーはさらに、摩擦粒子またはフェノール樹脂を製造するために使用することもできる。さらに、カルダノールをベースとするダイマー、エポキシ硬化剤、よびエポキシ樹脂を合成するための方法もまた提供される。
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【課題】従来技術の欠点が回避され、低く一定の残留揮発性と、一定の所望の粘度と、アミノアルキル基を有するシロキサン単位のポリマー中での一定の統計的分布とを有するオルガノポリシロキサンが得られる方法を提供する。
【解決手段】アミノアルキル基を有するオルガノポリシロキサンを、オルガノポリシロキサンと、アミノアルキルシラン又はその加水分解物とを、塩基性触媒と連鎖停止試薬との存在下で反応させること及び引き続き使用される塩基性触媒（Ｃ）を中和させることによって製造するための方法であって、但し、化合物（Ａ）と（Ｂ）と（Ｄ）とを触媒（Ｃ）の存在下で連続的に長さ対直径の比率が４以上である反応室において反応させる方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】カルボキシル基含有層状高分子及びこれを含有するゲル、並びに複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属原子及び該金属原子に結合している酸素原子を有し該金属原子が中心原子である８面体構造が連結して形成された８面体シート１２と、８面体シート１２中の酸素原子と結合しているＳｉ原子を有し該Ｓｉ原子が中心原子である４面体構造が連結して形成された４面体シート１１と、カルボキシル基を有し４面体シート１１中のＳｉ原子に結合している有機側鎖と、を含むカルボキル基含有層状高分子１。 （もっと読む）

【課題】高分子量であり、重量平均分子量が熱処理後であっても経時的に変化せず、ガラス転移点を保持するポリオルガノシロキサン樹脂の製造方法およびシリコーン系難燃剤を提供。
【解決手段】オルガノクロロシラン、オルガノアルコキシシラン、それらのオリゴマーおよび平均組成式（１）：Ｒ_mＳｉＸ_nＯ_(4-m-n)/2 で示されるオルガノポリシロキサンから選ばれる１種又は２種以上からなる成分（ａ）を、金属を含有する縮合触媒（ｂ）の存在下で加水分解縮合反応または縮合反応させた後、縮合触媒の失活剤（ｃ）を添加することを特徴とするオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法、およびそのオルガノポリシロキサン樹脂からなるシリコーン系難燃剤。 （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができる絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、特定のテトラアルコキシシラン化合物および分子中に酸素原子、フェニレン基または炭素数１〜６のアルキレン基を有した特定のシラン化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物５０〜１００モル％と、他のシラン化合物０〜５０モル％とを加水分解縮合して得られた第１の加水分解縮合物と、分子中にアルコキシ基を２〜３個有した特定のシラン化合物を５０モル％超と、他のシラン化合物５０モル％未満とを加水分解縮合して得られた第２の加水分解縮合物と有機溶媒とを含み、前記第１の加水分解縮合物及び前記第２の加水分解縮合物の重量平均分子量は７００以上２０，０００以下である絶縁膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】プロトン伝導性電解質用の、スルホニルがグラフト化された複素環材料を提供する。
【解決手段】プロトン伝導性ポリマーは、ポリマー骨格と、このポリマー骨格に結合された複素環化合物とを含む。この複素環化合物は、それに結合されたスルホニル官能基を含む。
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【課題】有機成分を含まない高純度の二酸化ケイ素膜を形成するために有用な二酸化ケイ素前駆体および二酸化ケイ素前駆体組成物を提供すること。
【解決手段】上記二酸化ケイ素前駆体は、下記示性式（１）
（Ｈ_２ＳｉＯ）_ｎ（ＨＳｉＯ_１．５）_ｍ（ＳｉＯ_２）_ｋ （１）
（式（１）中、ｎ、ｍおよびｋはそれぞれ数であり、ｎ＋ｍ＋ｋ＝１としたとき、ｎは０．５以上であり、ｍは０を超えて０．３以下であり、ｋは０〜０．２である。）
で表され、１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂である。
上記二酸化ケイ素前駆体組成物は、上記シリコーン樹脂および有機溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性及び放熱性を有し、かつ成形性、信頼性に優れた封止用エポキシ樹脂材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤及び（Ｃ）無機充填剤を含有するエポキシ樹脂組成物であって、前記（Ｂ）硬化剤が、下記一般式（Ｉ−１）で示されるシラン化合物及びその部分縮合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｄ１）と、フェノール化合物（ｄ２）とを反応させて得られる化合物（Ｄ）を含有し、かつ前記（Ｃ）無機充填剤がアルミナを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
【化１】


（式（Ｉ−１）中、ｎは０〜２の整数であり、Ｒ^１は水素原子及び置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の炭化水素基からなる群より選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよく、Ｒ^２はハロゲン原子、水酸基、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の１価のオキシ基、置換基を有していてもよい炭素数０〜１８のアミノ基及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１８のカルボニルオキシ基からなる群より選ばれ、全てが同一でも異なってもよく、Ｒ^１及びＲ^２から選ばれる２以上が結合して環状構造を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有し、かつ、より簡単な方法で導波路を形成することが可能な高屈折率材料及び、この高屈折率材料から形成された高屈折率部材、並びに、イメージセンサを提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ−１）で表される構造単位を有する樹脂（Ａ）を含有する。


［式中、Ｒ^１は炭化水素基であり、Ｒ^２は水素又は炭化水素基であり、ｍは０又は１である。］ （もっと読む）

【課題】塗膜表面への汚染物質の付着を抑制することができ、十分な遮熱機能を発揮することができる塗料組成物を提供する。
【解決手段】塗料用樹脂の固形分１００重量部に対し、赤外線透過性粉体及び／または赤外線反射性粉体を１〜２００重量部、シリケート化合物をＳｉＯ_２換算で０．１〜２０重量部含有し、前記シリケート化合物として、テトラアルコキシシラン縮合物（ａ）が、一分子中に水酸基を３個以上有し分子量が５００未満である多価アルコール（ｂ）によって変性された変性シリケート化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】分散安定性および経時安定性に優れたポリオルガノシロキサンの水性コロイド分散液を、制約条件がより少ない簡易な方法によって得る。
【解決手段】本発明のポリオルガノシロキサンコロイド分散液の製造方法は、（Ａ）一般式：Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ………（１）（式中、Ｒ^１は置換または非置換の１価の炭化水素基を示し、Ｒ^２は置換または非置換のアルキル基を示す。ａは０，１，２または３である。）で表されるオルガノアルコキシシランを、酸性水中で加水分解してオルガノシラノールおよび／またはその部分縮合物の水／アルコール溶液を得る工程と、（Ｂ）前記オルガノシラノールおよび／またはその部分縮合物の水／アルコール溶液に、アニオン性界面活性剤またはＰＶＡ系分散剤の存在下でアルカリ水溶液を添加し、ｐＨ９〜１２の塩基性水中で縮合反応させる工程を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

重合性ジメチコーンコポリオールマクロマー組成物は、イタコン酸無水物をジメチコーンコポリオールと反応させることにより合成される。反応時にイタコン酸無水物は自発的に異性化してシトラコン酸無水物となり、次いでこれがジメチコーンコポリオールによってエステル化される。得られたマクロマーはオレフィン性不飽和モノマーと共重合が可能である。マクロマー反復単位を含んでいるポリマーは、パーソナルケア、織物および工業用の配合物を含むさまざまな用途において、柔軟性、潤滑性、固定性、撥水性、光沢性、表面改質性、および界面活性特性を付与するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）