【課題】安全で環境汚染の危険性の無いポリシランの製造方法であって、分子量分布の狭いポリシランを収率よく製造し得るポリシランの製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１）：
Ｘ^１（ＳｉＲ^１Ｒ^２）_ｍＸ^１ （１）
（式中、ｍは１〜３であり、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２の（置換）ビニル基、炭素数６〜１２の（置換）アリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２の（置換）アミノ基またはシリル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で表されるジハロシランを、ハロゲン化サマリウム(II価)およびサマリウムの存在下、光を作用させて重合することにより、
一般式（２）：
−（（ＳｉＲ^１Ｒ^２）_ｍ）_ｎ− （２）
（式中、ｎは２〜１０００であり、ｍ、Ｒ^１およびＲ^２は前記と同義である。）
で表されるポリシランを形成させる、ポリシランの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＨ_４を高活性且つ高効率に重合して高分子量のポリヒドロシランを製造する方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、４族メタロセンと、アルキルリチウム、アルキルアルミニウム、アルキルマグネシウムおよびアルキルマグネシウムハライドから選ばれるアルキル化剤と、を接触させて得られる触媒によってＳｉＨ_４を重合する、ポリヒドロシランの製造方法であって、前記４族メタロセンとアルキル化剤との接触が、ＳｉＨ_４が存在する条件下で行われることを特徴とする。上記方法によって製造されたポリヒドロシランは、シリコンの前駆体として好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】Ｃ／Ｓｉ比が大きく、高純度かつ高収率で炭化ケイ素を得るのに有用なポリシランを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるユニットを少なくとも含み、ポリシランを構成する炭素原子とケイ素原子とのモル比（Ｃ／Ｓｉ）を３以下とする。


（式中、Ｒ^１は、アルキル基（メチル基、エチル基などのＣ_１−４アルキル基）などの炭化水素基を示す。） （もっと読む）

【課題】シロキセンに導入する官能基を任意に選択することが可能なシロキセン複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記組成式（２）：
Ｓｉ_６Ｈ_ａ（Ｏ−Ｅ−ＣＯＯＲ^３）_６−ａ （２）
（式（２）中、Ｒ^３は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｅは炭素数１〜３０の炭化水素基、１≦ａ≦５。）
で表されるシロキセン誘導体と、
下記式（３）：
ＨＮＲ^１Ｒ^２ （３）
（式（３）中、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、炭化水素基または複素基を表し、前記ＮＲ^１Ｒ^２において、Ｒ^１とＲ^２が互いに結合して含窒素複素環を形成していてもよい。）
で表される含窒素化合物とを有機溶媒中で反応させて、
下記組成式（１）：
Ｓｉ_６Ｈ_ａ（Ｏ−Ｅ−ＣＯＮＲ^１Ｒ^２）_６−ａ （１）
（式（１）中、Ｒ^１およびＲ^２は前記式（３）中のＲ^１およびＲ^２と同一、Ｅおよびａは前記式（２）中のＥおよびａと同一。）
で表されるシロキセン複合材料を得ることを特徴とするシロキセン複合材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポリシランに含まれる不純物を分離除去し、ポリシランを効率よく精製する方法、及びこの方法により得られたポリシランを提供する。
【解決手段】溶媒の存在下で、ポリシランと金属塩とを接触させたのち、金属塩を分離する。この方法では、溶媒に溶解したポリシランと固体状態の金属塩とを接触させてもよい。また、前記方法では、代表的には、ポリシランを溶解可能な溶媒中で、ポリシランと固体状態の金属塩とを混合し、撹拌してポリシランと金属塩とを接触させてもよい。溶媒に溶解したポリシラン溶液を固体状態の金属塩に流通させて接触させてもよい。また、溶媒に溶解したポリシラン溶液を、金属塩が敷設された濾過用部材に流通させてもよい。前記金属塩は、硫酸金属塩（硫酸ナトリウムなど）であってもよい。この方法では、不純物を含みやすい分岐状構造を有するポリシランであっても効率よく精製できる。 （もっと読む）

【課題】安定化されたネットワーク状ポリシランを得る。
【解決手段】少なくともトリハロシランを含むハロシランが重合したネットワーク状のポリシラン（例えば、ポリアルキルトリハロシラン、アリールトリハロシラン−アルキルトリハロシラン共重合体、アリールトリハロシラン−アルキルアリールジハロシラン共重合体など）の重合末端（ハロシリル基、シラノール基など）を、炭化水素基（例えば、アルキル基など）などの封鎖基により封鎖する。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含量が大きく、溶媒溶解性に優れる新規なネットワーク状ポリシランを提供する。
【解決手段】メチルトリハロシランと、炭素数２以上のアルキルトリハロシラン（例えば、エチルトリハロシランなどのＣ_１−４アルキルトリハロシラン）とを重合させて、ネットワーク状ポリシランを得る。メチルトリハロシランと、炭素数２以上のアルキルトリハロシランとの割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／９９〜５０／５０程度であってもよい。 （もっと読む）

【課題】金属マグネシウム成分を用い、末端が封鎖されたポリシランを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】非プロトン性溶媒中で、金属マグネシウム成分の存在下、ハロシランを重合させてポリシランを製造する際に、重合後の反応混合物中に残存する金属マグネシウム成分と有機ハロゲン化物とを反応させて、グリニャール試薬を生成させるとともに、生成したグリニャール試薬と、重合末端としてハロゲン原子を有するポリシランとをグリニャール反応させ、重合末端が封鎖されたポリシランを製造する。 （もっと読む）

【課題】ポリシランに予め含まれる金属成分を効率よく除去できる精製方法を提供する。
【解決手段】金属成分（１）を含むポリシラン（例えば、５００ｐｐｍ以上の金属成分（１）を含むポリシラン）と、前記金属成分（１）を構成する金属（ａ）（例えば、亜鉛など）よりも、イオン化傾向において小さい金属（ｂ）（例えば、鉄、コバルト、ニッケル、銅など）で構成されている金属成分（２）とを接触させる。このような方法では、金属成分（１）および金属成分（２）の割合が、金属（ａ）および金属（ｂ）の重量換算で、全体に対して１００ｐｐｍ以下のポリシランを得ることができる。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（１） Ｓｉ_nＲ_2n+2 （１）のポリシランの製造方法であって、一般式（２） Ｒ¹_mＳｉＨ_4-m （２）のシランを、一般式（３） Ｒ²₃Ｂ （３）のホウ素化合物の存在下で反応させる［前記式中、Ｒ¹は、１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基を意味し、Ｒは、水素又は基Ｒ¹を意味し、Ｒ²は、フッ素、塩素、臭素又は１〜１８個の炭素原子を有する炭化水素基であって、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びＮＯ₂から選択される置換基を有してよい基を意味し、ｎは、２〜１０００００の整数値を意味し、かつｍは、０、１又は２の値を意味する］、前記製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ポリ乳酸の湿熱安定剤として有用な新規ポリシリルカルボジイミド化合物を提供する。
【解決手段】カルボジイミド基の窒素原子が、シリル原子により結合されている特定構造を重合度１〜２０のくり返し単位で有し、末端に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基またはエステル基あるいはエーテル基で封止されているポリシリルカルボジイミド化合物である。 （もっと読む）

本発明は、純粋化合物又は化合物の混合物としてのハロゲン化ポリシラン（ポリシランとして以下に示す）、また、このポリシランを熱処理による製造方法に関する。ポリシランはその²⁹Si NMRスペクトルでの特性変化及びラマンスペクトルでのバンドの典型的な強度比によって特徴付けられる。ポリシラン（Sn_nX_y）は高比率の分枝鎖及び環を有する。ハロゲン化ポリシランの製造方法は、高い処理量（工業生産）や特に可溶性のポリシランの製造に関して改善されている。 （もっと読む）

【解決手段】分子内に２つ以上のＳｉ−Ｈ基を持つケイ素化合物を原料とし、該水素原子を脱水素することで得られた、主鎖中にＳｉ−Ｓｉ結合を有する高分子化合物。
【効果】本発明によれば、フォトレジスト材料、プレセラミックス材料、あるいは導電性材料用の素材などとして有用なＳｉ−Ｓｉ結合を主鎖中に有する高分子化合物を工業的有利に効率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】従来のナノシリコン材料の応用面の限界を克服し、シリコンの薄膜形成を可能にした、形状異方性の薄片粒子（シリコンナノシート）とその製造方法を提供するものである。
【解決手段】二ケイ化カルシウムを−３０℃以下に冷却した濃塩酸水溶液と反応させて、組成式（ＳｉＨ）_ｎで示される層状ポリシラン粉末を生成させ、得られた層状ポリシラン粉末と末端に炭素―炭素二重結合または炭素−炭素三重結合を有する不飽和有機化合物とをヒドロシリル化反応触媒を用いて反応させ、層状ポリシランのＨ基を有機基に置き換えることにより、シリコンナノシートを得る。 （もっと読む）

【課題】常圧下で、塗布法により、基体上に、均一な燐ドープシリコン導電膜を形成する方法およびそのためのリン原子含有高次シラン化合物の製造法の提供。
【解決手段】光重合性シラン化合物およびリン化合物を含有する溶液に、４００ｎｍより長い波長の光線を照射せしめてリン原子含有高次シラン化合物を生成せしめるリン原子含有高次シラン化合物の製造法。上記方法で得られたリン原子含有高次シラン化合物を含む溶液を基板に塗布し、さらにその塗布基板を熱処理することからなるリン含有シリコン膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】容易且つ安価に製造可能で、発光色の制御が容易な発光性シリコンポリマーを提供する。
【解決手段】発光性シリコンポリマーは、組成式Ｓｉ_xＨ_yＲ_z（ここで、Ｒは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ｉ−ヘキシル、ｓｅｃ−ブチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、β−フェネチル、γ−フェニルプロピル、又はδ−フェニルブチルを表し、ｘ≧ｙ＋ｚ、０．０００１≦ｙ、０．０００１≦ｚであり、各Ｈ及びＲは、それぞれ異なるＳｉに直接結合している）で表される。 （もっと読む）

【課題】
透明性に優れ、光配線材料などとして好適な分岐型ポリシラン化合物を提供する。
【解決手段】
式：Ｒ^１Ｓｉ（Ｘ^１）_３（式中、Ｒ^１は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）で示されるシラン化合物（１）、式：Ｒ^２Ｓｉ（Ｘ^２）_３（式中、Ｒ^２は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、Ｘ^２はハロゲン原子を表す。）で示されるシラン化合物（２）、および式：Ｒ^３Ｒ^４Ｓｉ（Ｘ^３）_２（式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^４は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、Ｘ^３はハロゲン原子を表す。）で示されるシラン化合物（３）を縮重合させることを特徴とする分岐型ポリシラン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安全であって、より高収率なポリシランの製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で示される少なくとも１種のハロシランを、金属ナトリウムの存在下で反応させてポリシランを合成する工程、及び低級アルコールを添加する工程を含むポリシランの製造方法において、ポリシランの合成に用いるハロシランに含まれるハロゲン原子の総モル数に対して０．９５〜１．２倍のモル数の金属ナトリウムを用い、低級アルコールを金属ナトリウムに対して０．０５〜０．３当量用いることを特徴とするポリシランの製造方法である。本製造方法において、一般式（１）で示されるハロシランに加えて、一般式（２）で示されるハロシラン及び／又は一般式（３）で示されるハロシランを反応させてポリシランを合成してもよい。 （もっと読む）

【課題】 ポリシランに予め含まれる金属成分を効率よく除去できる精製方法を提供する。
【解決手段】 金属成分（１）を含むポリシラン（例えば、５００ｐｐｍ以上の金属成分（１）を含むポリシラン）と、前記金属成分（１）を構成する金属（ａ）（例えば、亜鉛など）よりも、イオン化傾向において小さい金属（ｂ）（例えば、鉄、コバルト、ニッケル、銅など）で構成されている金属成分（２）とを接触させる。このような方法では、金属成分（１）および金属成分（２）の割合が、金属（ａ）および金属（ｂ）の重量換算で、全体に対して１００ｐｐｍ以下のポリシランを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性に著しく優れたポリシランを提供する。
【解決手段】 ケイ素−水素結合（Ｓｉ−Ｈ結合）を有するジハロシランと、他のハロシラン類とを反応させることにより、下記式（１）で表される構造単位をポリシランに導入する。
【化１】


（式中、Ｒ¹は、水素原子又は置換基、ｎは１以上の整数を示す。）
上記式（１）において、Ｒ¹がアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であってもよい。前記式（１）で表される構造単位の割合は、前記ポリシランにおいて、ケイ素原子換算で、２５〜９０モル％程度であってもよい。 （もっと読む）