【課題】１３０℃以上の高温下に長時間、曝されても劣化しない、さらなる耐熱性を有する、耐熱性封止材用のシロキサン系組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）


（式中、Ｘは、一般式で表される特定の基。）で表されるシロキサン化合物（Ａ）および金属化合物を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】所定の温度条件下で所定の周波数帯の振動を検出してひび割れを検出する温度ひび割れセンサを提供する。
【解決手段】所定の温度条件下で所定の周波数帯の振動を検出してひび割れを検出する温度ひび割れセンサ１であって、コイル状に巻かれ所定の接着剤７で固められた光ファイバ４と、ひび割れが発生したときに生じる振動が印加される振動印加部２と、光ファイバ４への入射光Ｌ１と出射光Ｌ２との間の周波数変化に基づいて振動を検出する振動検出部３とを備える。所定の温度条件は−１６２℃以上０℃以下、所定の周波数帯は１０ｋＨｚ以上１０００ｋＨｚ以下、所定の接着剤は水酸基含有エポキシ樹脂（Ａ）、１分子中に１つの水酸基を持つエポキシ化合物（Ｂ）およびアルコキシシラン部分縮合物（Ｃ）を脱アルコール縮合反応させて得られるアルコキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂（１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】重縮合によって架橋され、かつ毒性の問題を呈するアルキルスズベースの触媒を含有しない、エラストマーへ室温で加硫され得るオルガノポリシロキサン組成物を提供すること。
【解決手段】重縮合反応によって硬化してシリコーンエラストマーになることができるシリコーンベースＢと、触媒として有効量の少なくとも１種の重縮合触媒とを含み、前記触媒が式 ［Ｚｎ（Ｌ¹）（Ｌ²）］（ここで、記号Ｌ¹およびＬ²は、β−ジカルボニラトアニオン、または式Ｒ¹ＣＯＣＨＲ²ＣＯＲ³のβ−ジカルボニラル−含有化合物のエノラートアニオンまたはβ−ケトエステル由来のアセチルアセテートアニオンであるリガンドを表す）の金属錯体Ａ（亜鉛ジアセチルアセトネート、Ｚｎ（ａｃａｃ）₂化合物を除く）またはその塩であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する有機無機ハイブリッド膜を提供する。
【解決手段】下記式で表されるフルオレン化合物と、非ケイ素系金属アルコキシド（チタンアルコキシドなど）とを含む重合性組成物をゾルゲル反応させたハイブリッド膜。


（例えば、９，９−ビス［４−（３−トリエトキシシリルプロポキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−トリエトキシシリルプロポキシ）フェニル］フルオレンである。） （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性、耐リフロー性及び耐温度サイクル性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上、３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピークからなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有するとともに、ケイ素含有率が２０重量％以上であり、シラノール含有率が０．１重量％以上、１０重量％以下であり、デュロメータタイプＡによる硬度測定値（ショアＡ）が５以上９０以下である。 （もっと読む）

【課題】保存安定性、放射線感度、耐メルトフロー性に優れるとともに、表面硬度、屈折率、耐熱性、透明性、低誘電性等の諸性能に優れる層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］ポリシロキサン、［Ｂ］光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び［Ｃ］金属キレート化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。当該ポジ型感放射線性組成物では、［Ａ］ポリシロキサンが、［Ｃ］金属キレート化合物の存在下での加水分解性シラン化合物の加水分解縮合により得られるポリシロキサンであり、［Ｂ］光酸発生剤として、キノンジアジドを含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 屈折率が低く、耐摩耗性に優れ、水に対して安定なシリカ多孔質体、および、それを用いた光学用途積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系組成物からシリカ多孔質体を製造する製造方法であって、該組成物が、下記（Ａ）〜（Ｅ）を含み、該組成物中の全アルコキシシラン類由来の珪素原子に対する水の割合（ｍｏｌ／ｍｏｌ）が１０以上５０以下であって、該組成物を膜厚が０．０５〜０．５μｍになるように膜化し、１００℃〜２００℃で加熱した後、更に３００℃〜７００℃で加熱する。
（Ａ）：下記（ａ）及び／又は（ｂ）
（ａ）少なくともテトラアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるテトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種、並びにテトラアルコキシシラン類以外のアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなる他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種
（ｂ）該テトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種及び他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種の部分縮合物
（Ｂ）：水
（Ｃ）：有機溶媒
（Ｄ）：触媒
（Ｅ）：有機ポリマー （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および加工耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物１を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
Ｒ^１_ｂ（Ｒ^２Ｏ）_３−ｂＳｉ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＲ^３）_３−ｃＲ^４_ｃ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜１の数を示す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、光透過率、耐光性及び耐熱性、光屈折率、機械的強度などの特性において優れており、成形する場合、殆ど収縮のないＬＥＤ封止用シロキサン樹脂を製造することのできるＬＥＤ封止用シロキサン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、有機アルコキシシランと有機シランジオールとの非加水縮合反応、または、有機アルコキシシラン及び金属アルコキシドの混合物と、有機シランジオールとの非加水縮合反応によって製造される有機オリゴシロキサンハイブリッドを含有するＬＥＤ封止用樹脂組成物を提供する。前記の有機オリゴシランハイブリッドは、縮合度の高い無機網目構造を有し、少なくとも１つ以上の有機基または有機官能基を包含する。また、本発明は、前記のＬＥＤ封止用樹脂組成物を使用してＬＥＤのカプセル化物質とすることができる。 （もっと読む）

【課題】未硬化時は固体又は半固体で硬化後は可撓性に優れ、表面のタック性が少ない硬質樹脂硬化物を形成する付加硬化型シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｒ¹ＳｉＯ_1.5単位、Ｒ²₂ＳｉＯ単位、及びＲ³_aＲ⁴_bＳｉＯ_(4-a-b)/2単位からなり（Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は独立に水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、又はフェニル基を示し、Ｒ⁴はビニル基、アリル基又は水素原子を示し、ａは０、１又は２で、ｂは１又は２で、かつａ＋ｂは２又は３である。）、
上記Ｒ²₂ＳｉＯ単位の少なくとも一部は連続して繰り返してなり、その繰り返し数が５〜３００個である構造を含む分子中にケイ素原子結合アルケニル基及びヒドロシリル基を有する樹脂構造のオルガノポリシロキサン、並びに、
（B）白金族金属系触媒
を含有してなる付加硬化型シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】基材に対して低屈折率低反射層を形成でき、安定性に優れた低屈折率組成物、反射防止材およびディスプレイを提供する。
【解決手段】（１）少なくとも１種の加水分解可能な官能基を２個以上有する下記一般式１で表されるアルコキシシランを有機溶媒中で金属キレート化合物と混合させて得られたシリカ前駆体および（２）シリカ粒子の有機溶媒分散液を混合してなり、前記有機溶媒が、アルコール類およびケトン類から選択された少なくとも１種からなる低屈折率組成物、それを用いた反射防止材およびディスプレイ。一般式１：Ｒ_ｍＳｉ（ＯＲ^１）_ｎ（一般式１中、Ｒは有機基を表し、Ｒ^１は加水分解可能官能基を表し、ｍは０〜２の整数を表し、ｎは２〜４の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、高温下でも黄色化や分解劣化しにくく、耐熱性、耐紫外線性および耐湿熱性に優れた発光素子コーティング用組成物およびそれを用いた発光素子、ならびに発光素子コーティング用組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】有機溶媒中、塩基性化合物、酸性化合物または金属キレート化合物の存在下で、
（Ａ）金属酸化物微粒子、および
（Ｂ１）下記平均組成式（１）
Ｒ¹_aＳｉＯ_b（ＯＲ²）_c （１）
で表され、特定の重量平均分子量を有するアルコキシ末端の多官能ポリシロキサン（ｂ１）と、特定の重量平均分子量を有するヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン（ｂ２）とを反応させて得られる多官能ポリシロキサン等を混合して得られる発光素子コーティング用組成物。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１個のシラノール基を有する有機ケイ素化合物（Ａ）と、少なくとも２個のオルガニルオキシ基を有する有機ケイ素化合物（Ｂ）とを反応させることによる、オルガニルオキシ基を有する有機ケイ素化合物の製造方法に関し、この場合、この方法は、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び場合により他の成分（Ｃ）を互いに機械的に混合し、その際、エネルギー入力量は、（Ａ）、（Ｂ）及び場合により（Ｃ）から成る混合物１ｋｇ当たり少なくとも０．２ｋＷであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点が回避され、低く一定の残留揮発性と、一定の所望の粘度と、アミノアルキル基を有するシロキサン単位のポリマー中での一定の統計的分布とを有するオルガノポリシロキサンが得られる方法を提供する。
【解決手段】アミノアルキル基を有するオルガノポリシロキサンを、オルガノポリシロキサンと、アミノアルキルシラン又はその加水分解物とを、塩基性触媒と連鎖停止試薬との存在下で反応させること及び引き続き使用される塩基性触媒（Ｃ）を中和させることによって製造するための方法であって、但し、化合物（Ａ）と（Ｂ）と（Ｄ）とを触媒（Ｃ）の存在下で連続的に長さ対直径の比率が４以上である反応室において反応させる方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、硬化反応を円滑に行うことが出来、未反応や低分子量のオルガノシロキサンの残留量が少ない有機−無機ハイブリッドポリマーを提供することを課題とする。
【解決手段】主鎖の片側または両側にアルコキシ基を有するアルコキシシラン部分を有する変性ポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドおよび／または類金属アルコキシドとの縮合反応、あるいはポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドおよび／または類金属アルコキシドとの縮合反応物に上記変性ポリジメチルシロキサンを導入した有機−無機ハイブリッドポリマーを提供する。上記変性ポリジメチルシロキサンの官能基濃度は高いので、有機−無機ハイブリッドポリマーの硬化反応性が改良される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも次の成分：（ｉ）グリシジルオキシプロピルアルコキシシラン、（ｉｉ）＞１質量％の固体含有量を有する水性シリカゾル、（ｉｉｉ）加水分解触媒としての有機酸、及び（ｉｖ）架橋剤としてのｎ−プロピルジルコナート、ブチルチタナート又はチタンアセチルアセトナートを反応させることに基づき、０．７５の成分（ｉｉ）の固体質量対成分（ｉ）の質量比から出発する、あらゆる比率で水で希釈可能なゾルゲル組成物、その製造方法、その使用、特に腐食保護被覆、相応する腐食保護被覆又はプライマー被覆としてのゲル組成物としての使用、及びこのような被覆を備えた物品を提供する。 （もっと読む）

線状及び架橋済みのＨＭＷ（高分子量）ポリシラン及びポリゲルマン、ポリペルヒドロシラン及びポリペルヒドロゲルマン、それを含む機能性液体の製造方法、並びに一連の望ましい用途における液体の使用方法を開示する。シラン及びゲルマンポリマーは一般に、Ｒ’置換基で置換されたＳｉ及び／またはＧｅの鎖で構成され、ここで、Ｒ’の各場合は、例えば、独立して、水素、ハロゲン、アルケニル、アルキニル、ヒドロカルビル、芳香族ヒドロカルビル、複素環式芳香族ヒドロカルビル、ＳｉＲ”_３、ＧｅＲ”_３、ＰＲ”_２、ＯＲ”、ＮＲ”_２、またはＳＲ”であり；ここで、Ｒの各場合は独立して、水素またはヒドロカルビルである。架橋済みポリマーを、脱ハロゲン化的カップリングまたはデヒドロカップリングによって合成することができる。線状ポリマーを、開環重合によって合成することができる。ポリマーを、ハロゲン化及び／または水素化物の源との反応によってさらに修正して、ペルヒドロシラン及びペルヒドロゲルマンポリマーを与えることができ、これらは、液体インキ配合物において使用される。合成は、液体特性（例えば、粘度、揮発度、及び表面張力）の適合に対処する。液体を、スピンコーティング、インクジェッティング、ドロップキャスティング等による膜及び物体の堆積のために使用でき、ＵＶ照射の使用はあってもなくてもよい。堆積した膜を、４００〜６００℃でのキュアリング及び（所望により）レーザー−または熱−誘起結晶化（及び／またはドーパントが存在する場合、ドーパント活性化）によって、アモルファス及び多結晶ケイ素またはゲルマニウム、並びにケイ素または酸化ゲルマニウムまたは窒化物に転換することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】プラスチックレンズ等の光学部品の耐擦傷性を向上させることができる光学部品の製造方法及びこの製造方法により製造された光学部品を提供すること。
【解決手段】ハードコート層は、ハードコート液をプラスチック製の基材に塗布する塗布工程と、前記ハードコート液を加水分解反応により予備硬化させる仮焼成工程と、水分を予備硬化ハードコート層に添加する水分添加工程と、加水分解反応により前記ハードコート液の硬化を完結させる本焼成工程とを含むハードコート層形成工程により形成される。 （もっと読む）

【課題】より高い配向秩序を有する有機半導体膜を、より簡便且つ効率よく形成できる有機半導体装置形成用基板、この基板を用いる有機半導体装置、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成されたゲート電極と、該ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に形成された有機薄膜とを有する有機半導体装置製造用基板であって、前記有機薄膜が、式（１）：Ｒ_ｎ−Ｓｉ−Ｘ_４−ｎ（式中、Ｒは置換基を有していてもよいＣ１〜２０の炭化水素基等を、Ｘは水酸基等を、ｎは１〜３の整数を表す。）で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜であることを特徴とする有機半導体装置製造用基板、この基板に、ソース電極、ドレイン電極、半導体膜および保護膜を有する有機半導体装置、並びにこの有機半導体装置の製造方法。 （もっと読む）