Fターム[4J246FE31]の内容
Fターム[4J246FE31]の下位に属するFターム
触媒、調整剤 (68)
脱離分子、縮合反応過程で副生した物質 (64)
溶媒 (109)
未反応原料 (56)
物性に悪影響を及ぼす物質 (17)
これら以外の物質 (14)
Fターム[4J246FE31]に分類される特許
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膜形成用組成物およびシリカ系膜とその形成方法
【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、絶縁膜を形成する際に所望の比誘電率を簡便に得ることができる膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】上記膜形成用組成物は、下記式(1)で示されるケイ素化合物を、特定のシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物の存在下で、縮合させて得られる加水分解縮合物、ならびに有機溶媒を含有する。
(式中、xは3〜25の整数を示す。)
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シリカ系メソ構造体及びその製造方法
【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、1nm以上のd値に相当する回折角度に1本以上のピークを有するX線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Tサイト骨格成分の存在割合(Tモル%)と、Dサイト骨格成分の存在割合(Dモル%)と、Sサイト骨格成分の存在割合(Sモル%)とが、T≠0の場合は下記数式(F1)、T=0の場合は下記数式(F2):
{(D+S)/(T+D+S)}≧0.1 (F1)
{S/(D+S)}≦0.9] (F2)
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。
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