【課題】 高耐久性、高耐候性、高基材追従性に加えて、高い伸び率を保持する塗膜を形成可能な水性硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 親水性基含有ポリウレタン（ａ１）とビニル重合体（ａ２）とがポリシロキサン（ａ３）を介して結合した複合樹脂（Ａ）、伸度良好な樹脂（Ｄ）及び、水系媒体を含有する水性硬化性樹脂組成物であって、前記親水性基含有ポリウレタン（ａ１）と前記ポリシロキサン（ａ３）との結合が、前記親水性基含有ポリウレタン（ａ１）の有する加水分解性シリル基及び／またはシラノール基と前記ポリシロキサン（ａ３）の有する加水分解性シリル基及び／またはシラノール基との反応によって形成されかつ、前記複合樹脂（Ａ）全体に対する前記ポリシロキサン（ａ３）由来の構造の質量割合が１５〜５５重量％の範囲であることを特徴とする水性硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光半導体装置用組成物に用いられるオルガノポリシロキサンの製造方法であって、表面のべたつきが少ない光半導体装置用組成物を得ることができるオルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るオルガノポリシロキサンの製造方法は、珪素原子の数が１０を超える高重合度オルガノポリシロキサンと珪素原子の数が１０以下である低重合度オルガノポリシロキサンとを含有するオルガノポリシロキサン成分と、プロトン性有機溶剤とが混合された混合液を得る工程と、第２の層よりも上記高重合度オルガノポリシロキサンを多く含む第１の層と、該第１の層よりも上記低重合度オルガノポリシロキサンを多く含む第２の層とに、上記混合液を分液させた後、上記第１の層を分離し、該第１の層に含まれているオルガノポリシロキサンを得る工程とを備える。 （もっと読む）

本発明は、部分的に加水分解されて存在するか乃至完全に加水分解されて存在することができ、かつ特に水溶性であり、わずかなＶＯＣ割合を有する、第４級アミノ官能性の有機ケイ素化合物を、特にオリゴマー及びポリマーの形で含有する組成物及び製造方法並びにその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】高い撥水性を有し、分散性が高いフラーレン含有ナノコンポジット粉末状粒子。
【解決手段】フラーレンと下記一般式（１）で表される含フッ素オリゴマー及び、下記一般式（２）で表されるアルコキシシリル基を有するフルオロアルキル基含有オリゴマーの反応工程を行い得られる、フラーレンを含有するナノコンポジット粉末状粒子。
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【課題】ポリ乳酸の湿熱安定剤として有用な新規ポリシリルカルボジイミド化合物を提供する。
【解決手段】カルボジイミド基の窒素原子が、シリル原子により結合されている特定構造を重合度１〜２０のくり返し単位で有し、末端に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基またはエステル基あるいはエーテル基で封止されているポリシリルカルボジイミド化合物である。 （もっと読む）

【課題】３００℃より低い温度での封止に用いることができ、紫外光〜可視光の波長領域で優れた光透過性、耐光性、耐熱性、湿熱耐性、及び紫外線耐性を有し、かつ長期間使用しても亀裂及び剥離が生じない硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を提供する。また、硬化性ポリオルガノシロキサンを用いた封止材を提供し、上記した硬化性ポリオルガノシロキサンの優れた特性を使用した航空宇宙産業用材料を提供する。
【解決手段】縮合性官能基の合計含有量が３００ｐｐｍ以下であるポリオルガノシロキサンを含有する組成物であって、ヒドロシリル化触媒の含有量（金属元素換算）が３ｐｐｍ以下であり、且つ、ヒドロシリル化触媒及び縮合触媒の実質的非存在下で、１５０℃において４８時間以内に硬化しうることを特徴とする硬化性ポリオルガノシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】
高純度の両末端（メタ）アクリロキシプロピル基封鎖ジオルガノポリシロキサンを生産性良く製造する方法を提供する。
【解決手段】
両末端ジオルガノハイドロジェンシロキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサンと（メタ）アクリル酸アリルのヒドロシリル化反応による両末端（メタ）アクリロキシプロピル基封鎖ジオルガノポリシロキサンの製造方法において、副生した片末端が（メタ）アクリロキシプロピル基で封鎖され、他末端が（メタ）アクリロキシ基で封鎖されたジオルガノポリシロキサンと両末端（メタ）アクリロキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサンを加水分解し、生成したシラノール末端ジオルガノポリシロキサン同士を縮合させる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１個のシリコーンイオノマーを含む熱可塑性エラストマーに関する。このような熱可塑性エラストマーは再加工および／または再利用することができる。 （もっと読む）

【課題】ポリジメチルシロキサンの調製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、８〜２５重量％の含水量を有するスルホン酸含有カチオン交換樹脂によるポリジメチルシロキサンの制御された再編成のための方法、ならびにこのように調製されたポリジメチルシロキサンおよびその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】難燃性およびドリップ抑制の効果、生産安定性を満足する熱可塑性樹脂組成物およびそれからなる繊維構造物を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の成分から構成されるポリオルガノシロキサン組成物を１種または２種以上含有していることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。
（Ａ）平均組成式（１）：Ｒ_mＳｉＸ_nＯ_(4-m-n)/2 〔式中、Ｒは置換または非置換の一価の炭化水素基であり、ＸはＯＨ基または加水分解性基であり、ｍ，ｎは１．０≦ｍ＜２．０、０＜ｎ≦１．５および１．０≦ｍ＋ｎ≦３．０を満たす数であり、分子中に必ず１以上のＯＨ基または加水分解性基を有する〕で示されるポリオルガノシロキサン。
（Ｂ）金属（アルカリ金属およびアルカリ土類金属を除く）を含有する縮合触媒。
（Ｃ）縮合触媒の失活剤。 （もっと読む）

本発明は、シリコーン樹脂の水性エマルジョンを開示する。このエマルジョンのフィルムから水を除去すると、固体シリコーン樹脂コーティングが得られる。本シリコーン樹脂エマルジョンは、耐水性／撥水性を付与し、摩耗保護性／耐候性を向上させるための様々な基材の処理に有用である。特に、これらは、鉱物をベースとする結合材料に耐水性を付与するために有用であり、塗料中のバインダーとしても有用である。 （もっと読む）

【課題】エポキシ基含有オルガノポリシロキサンを、簡便な方法で１ポットで得ることができ、目的物の選択率に優れ、経時変化の少ないエポキシ基含有オルガノポリシロキサンを製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】有機溶媒中において、特定式で示されるエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物又は該エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物と特定式で示されるアルコキシシラン化合物を、前記アルコキシシラン化合物の全アルコキシ基１モルに対して０．８〜１．１モルの水を添加し、アルコキシ基を加水分解する工程と、引き続き、前工程において添加された水１モルに対して、酸無水物基当り１．５〜３モルに相当する酸無水物を添加して縮合反応を行う工程と、を含むエポキシ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、第一の段階において、一般式ＨＯ（Ｒ_２ＳｉＯ）_ｍ（ＨＲＳｉＯ）_ｎＨ （Ｉ）のＯＨ末端の主として線状のシロキサン（１）と、ｋ＝０の時、Ｈ_２Ｃ＝ＣＲ^３−Ｚ （２ａ）およびｋ＝１の時、Ｒ^４Ｃ≡Ｃ−Ｚ （２ｂ）の群から選択された式Ｃ_ｆＨ_{２ｆ−２ｋ−１}−Ｚ （ＩＩ）の有機化合物（２）とを反応させ、かつ第二の段階において、第一の段階において得られた一般式ＨＯ（Ｒ_２ＳｉＯ）_ｍ（（Ｚ−Ｃ_ｆＨ_{２ｆ−２ｋ}）ＲＳｉＯ）_ｎ−ｏ（ＨＲＳｉＯ）_ｏＨ （ＩＩＩ）［式中、ｏは、０でありまたは１〜１０の整数である］のシロキサンジオール（３）を縮合し、その際、基および添え字は請求項１の中で示された意味を有することを特徴とする、高分子量のシロキサンポリマーの製造法に関する。 （もっと読む）

【課題】複雑な工程を経ることなく簡便な操作で製造でき、保存安定性や硬化性に優れ、可撓性、耐溶剤性、密着性、耐候性、耐光性、耐熱性に優れた硬化被膜を得ることができる硬化性ポリメチルシロキサン樹脂、その製造方法、及び硬化性ポリメチルシロキサン樹脂組成物、その硬化被膜を有する物品を提供する。
【解決手段】Ｍｗが１０，０００〜１００，０００、Ｍｎが２，５００〜４，０００で、ＭｅＳｉ（ＯＲ）₂Ｏ_1/2単位、ＭｅＳｉ（ＯＲ）Ｏ_2/2単位、ＭｅＳｉＯ_3/2単位、（ＭＥ）₂Ｓｉ（ＯＲ）Ｏ_1/2単位及び（Ｍｅ）₂ＳｉＯ_2/2単位（ＲはＨ又はＣ１〜８のアルキル基）を含有し、３官能性シロキサン単位の合計（Ａ）／２官能性シロキサン単位の合計（Ｂ）の含有比率がモル比で６５／３５〜８５／１５であり、ＭｅＳｉ（ＯＲ）Ｏ_2/2単位／ＭｅＳｉＯ_3/2単位のモル比が１５／８５〜３０／７０である硬化性ポリメチルシロキサン樹脂。 （もっと読む）

本発明は、シリコーン樹脂のコーティング組成物において固形体を濃縮する改良された方法を提供した。上記組成物は、所定された基材に適用する場合、最終塗膜の厚さを増加するのに必要な高い固形体レベルを含む。 （もっと読む）

【課題】集積回路において階間誘電体として用いる場合の低誘電率材料及びそれを含む膜の性能の改良、並びにその製造方法について明らかにする。
【解決手段】これらの材料は、約３．７又はそれ未満の誘電率（ｋ）、前記材料の誘電率から部分的に導出される約１５ＧＰａ又はそれよりも大きい標準化壁体弾性率（Ｅ_ｏ′）、及び金属不純物レベルが５００ｐｐｍ又はそれ未満のものとして特徴づけられる。また、約１．９５未満の誘電率及び約２６ＧＰａを超える前記材料の誘電率から部分的に導出される標準化壁体弾性率（Ｅ_ｏ′）を有する低誘電率材料について開示する。 （もっと読む）

【課題】 超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を中和後、残存する該超強酸を効率良く除去できる、オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】 トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の超強酸により製造されたオルガノポリシロキサン中の該超強酸を、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸アンモニム、炭酸水素アンモニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等炭酸塩またはアンモニアで中和し、次いで該オルガノポリシロキサンをハイドロタルサイト類｛該オルガノポリシロキサン１００重量部に対して０.０１〜１重量部（但し、１重量部を含まない。）となる量｝で処理することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表されるかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー。
【化１】


（式中、Ｘは酸素原子を含有する炭素数１〜４０の重合性基を表す。Ｒ¹は同一でも異なってもよく、炭素数１〜２０の飽和炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜２０のオルガノキシ基、ハロゲン原子の中から選ばれる基を表す。Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜４０の非重合性一価炭化水素基を表し、同一ケイ素原子に結合したＲは互いに同一でも異なっていてもよい。）
【効果】 本発明により、溶媒や他の重合性モノマーとの相溶性を改善した新規なかご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー及びその製造方法が提供される。また本発明の製造方法によれば、かご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマーが一段階で高純度かつ高収率で得られる。 （もっと読む）

本発明は、求核性カルベンの存在下で線状、非線状又は環状のポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）を開環重合及び／又は再分配重合することによってＰＯＳを製造するための方法に関する。本発明の目的は、低温での効果的な触媒系の手段による改善されたＰＯＳの製造方法を提供することである。この場合、初期ＰＯＳ（例えばＤ４）の転化効率は、初期ＰＯＳ（例えばＤ４）の残留含有量が以前よりも少ないような方法で、先行技術と比較して実質的に上昇する。この目的のために、次の成分を使用する：５００ｇのＰＯＳ及び／又はＰＯＳｃｙ（すなわちＤ４）、０〜１０ｇ、好ましくは０．５〜２ｇの連鎖停止剤（すなわちＭ２）、０〜１０ｇ、好ましくは０．０１〜１ｇのカルベン塩先駆物質（式（III）又は（III'）、すなわちイミダゾリウム塩）、０〜１０ｇ、好ましくは０．０１〜０．５ｇの塩基（すなわち、ｔ−ＢｕＯＫ）並びに０．１〜１０ｍＬの溶媒（すなわち、ＴＨＦ）。 （もっと読む）