【課題】暗輝度を引き下げることで、コントラスト比が高く、また、高精細な表示装置とすることが可能な発光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 発光波長が異なる複数の発光素子と、発光素子が載置される複数の凹部を有する基体と、各凹部内に設けられる封止部材と、を有する発光装置であって、凹部は互いに離間するとともに、発光素子の発光波長と同系色の着色部材を含有する封止部材が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面に５０ｎｍ以上の深さの微細凹凸構造を有し、耐溶剤性にも優れたフィルムを提供すること。
【解決手段】光の作用により変形を誘起する光応答性部位を含む３官能のシラン化合物（Ａ）１〜２５モル％と、芳香環を１つ以上有し且つ前記光応答性部位を含まない３官能のシラン化合物（Ｂ）７０〜９８モル％と、４官能のシラン化合物（Ｃ）１〜２５モル％とを混合して調製したゾル溶液を用いて前駆体フィルムを作製し、該前駆体フィルムの表面に微細凹凸構造を形成し、該微細凹凸構造を有する前駆体フィルムに加熱処理を施すことによって得られるフィルムであり、
前記加熱処理後のフィルムの微細凹凸構造の深さが５０ｎｍ以上であり、
前記加熱処理後のフィルムをアセトンに室温で５分間浸漬した場合に、波長４８０ｎｍにおける、前記加熱処理を施す前の前駆体フィルムの吸光度に対する浸漬後のフィルムの吸光度の残存率が９０％以上である、
ことを特徴とする表面に微細な凹凸構造を有するフィルム。 （もっと読む）

【課題】高い電気伝導性を示す有機シリカ系材料を提供すること。
【解決手段】下記式（１）：
【化１】


（式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４のうちの少なくとも１つの基およびＲ^５〜Ｒ^８のうちの少なくとも１つの基は、下記式（２）：
−Ｚ−［Ｓｉ（ＯＲ^ａ）_ｎＲ^ｂ_３−ｎ］_ｋ （２）
（式（２）中、Ｒ^ａはアルキル基、Ｒ^ｂはアルキル基またはアリル基、Ｚはアルキレン基、アリーレン基、エテニレン基、エチニレン基、単結合などを表す。）
で表されるゾルゲル重縮合反応が可能なシリル基を含有する置換基であり、
Ｒ^１〜Ｒ^８のうちの残りの基は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基などである。）
で表される［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］［１］ベンゾチオフェン系有機シラン化合物の縮重合体により形成されたメソ構造体と界面活性剤とを備えることを特徴とする有機シリカ系材料。 （もっと読む）

【課題】波長５００ｎｍ以上の光を吸収することができ、高い電気伝導性を示す有機シリカ系材料を提供すること。
【解決手段】下記式（１）：
【化１】


（式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^３のうちの少なくとも１つの基およびＲ^４〜Ｒ^６のうちの少なくとも１つの基は、下記式（２）：
−Ｚ−［Ｓｉ（ＯＲ^ａ）_ｎＲ^ｂ_３−ｎ］_ｋ （２）
（式（２）中、Ｒ^ａはアルキル基、Ｒ^ｂはアルキル基またはアリル基、Ｚはアルキレン基、アリーレン基、単結合などを表す。）
で表されるゾルゲル重縮合反応が可能なシリル基を含有する置換基であり、
Ｒ^１〜Ｒ^６のうちの残りの基は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基などである。）
で表されるジチエニルベンゾチアジアゾール系有機シラン化合物の縮重合体により形成されたメソ構造体と界面活性剤とを備えることを特徴とする有機シリカ系材料。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、化学的安定性および寸法安定性に優れ、プロトン伝導を促進する水が構造内部から放出される１００℃を越える温度および低湿度でも、プロトン伝導体として安定に作動させることができるプロトン伝導体の提供。
【解決手段】式（１）で表されるオルガノポリシロキサンを含むことを特徴とするプロトン伝導性膜。


（Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、Ｈ又はＯＨ、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基、ＡはＯＨ、炭素数１〜４のアルキル基、又は架橋に関与する−Ｏ−であり、ｍ_１，ｍ_２はそれぞれ１〜１０の整数、ｎは１〜２０の整数） （もっと読む）

【課題】局所的な凝集が発生せず分散安定性に優れた被膜用シリカゾルを提供し、また耐擦傷性、耐薬品性が良好な被膜を形成し得る組成物を提供し、さらに前記組成物を硬化させて形成する被膜、及び樹脂積層体を提供する。
【解決手段】（ａ−１）中空シリカ微粒子４０〜９０質量％と、（ａ−２）特定のシラン化合物６０〜１０質量％と極性溶媒とを含む混合物を加熱する第１の工程、固形分濃度が３５質量％以下にある前記混合物に前記極性溶媒の沸点より高い沸点を有する非極性溶媒を添加する第２の工程、加熱を行い極性溶媒を揮発させ、前記固形分濃度を３０質量％〜８０質量％とする第３の工程、前記混合物中、縮合反応させる第４の工程を有する被膜用シリカゾルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】安価で高い断熱性能を有し、かつ量産性、柔軟性、施工性に優れた多孔質シリカ−繊維複合体の製造方法、多孔質シリカ−繊維複合体およびそれを用いた真空断熱材を提供する。
【解決手段】ｐＨ３〜４．５の酸性水溶液、非イオン性界面活性剤、水溶性の非プロトン性極性有機溶媒、および尿素を含む混合液に、アルキルトリアルコキシシラン、アリールトリアルコキシシラン、ビス（トリアルコキシシリル）アルカンからなる群より選択される１または複数を氷冷下添加し、シロキサンゾルを生成させ、これを繊維構造体に含浸後、その内部で前記シロキサンゾルを一定の温度で反応させ、多孔質の酸化ケイ素ゲルを生成させることにより多孔質シリカ−繊維複合体を調製後、内部に含まれる水をアルコール溶媒に置換し、常圧下で加熱乾燥させる多孔質シリカ−繊維複合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高温下環境でも柔軟性および粘着性が損なわれない基板の搬送キャリアについて課題とする。
【解決手段】シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応することによって得られた組成物を主成分とする材料を熱硬化してシートを成形した後、前記シートを２６０℃以上３００℃以下の温度で、２時間以上８時間以下の時間、加熱し、ベースに固定する基板の搬送用キャリアの製造方法を提供する。かかる構成により、高温下環境でも柔軟性および粘着性が損なわれない基板の搬送キャリアを提供できる。 （もっと読む）

【課題】低い光損失と共に高い屈折率値を有する改善されたゾル−ゲル組成物およびその調製法を提供すること。
【手段】本明細書では、光パターン化可能ゾル−ゲル前駆体およびその調製法が記載される。ゾル−ゲル前駆体は、熱的に安定であり、高い屈折率および低い光損失値を有する組成物を形成する。該前駆体を使用して、通信波長の領域の光導波路用途に理想的に適したゾル−ゲル組成物を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大きさが揃った薄片状物質を提供しやすい製法を提供することを課題とする。
【解決手段】薄片状金属酸化物の製法において、塗布液を微滴化する工程、微滴化された塗布液を基材に吹き付けて基材上に塗布液を塗着させる工程、塗着された塗布液を乾燥させて薄片状物質の前駆体を形成する工程、及び該前駆体を基材から剥離させる工程を有するものとし、微滴化される塗布液は、塗布液中に８〜４０重量％の固形分と残部の溶媒とを有し、該溶媒は沸点が１３０℃以上の有機溶媒と酸性水溶液とを含有し、前記固形分は金属酸化物オリゴマーを有し、該金属酸化物オリゴマーはポリスチレン換算の重量平均分子量で５００〜５００００とすること。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも1種類の治療活性材料を有する新規なシリカゾル材料、ならびに改善された特性を有する生体吸収性および生分解性シリカゲル材料の製造のためのその使用に関する。繊維、不織マット、粉末、モノリスおよび／またはコーティングなどの該材料が、例えば、医療技術および／またはヒト用医薬において、特に、創傷処置のために使用される。 （もっと読む）

【課題】アルコキシシリル基を有するイオン液体から得られる高分子イオン性化合物は、帯電防止剤として優れていると考えられる。そこで、重合性のアルコキシシリル基を利用して帯電防止剤を提供することにある。
【解決手段】 アルコキシシリル基を有するイオン液体を加水分解縮合することにより有機−無機ハイブリッド高分子イオン性化合物を得ることを特徴とする。アルコキシシリル基を酸触媒で加水分解縮合をするとシロキサン結合を有する有機−無機ハイブリッド高分子イオン性化合物が得られ、アセトニトリルに溶解して製膜すると粘着性が残る帯電防止剤が創製できる。また、アルコキシシリル基を塩基触媒で加水分解縮合するとシロキサン結合を有する高分子イオン性化合物が得られ、アセトニトリル等に溶解して製膜すると有機−無機ハイブリッドに基づく柔軟性、高強度、高い耐熱性、耐水耐薬品性を付与した、従来にはない難燃性の帯電防止剤が創製できる。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング速度の選択性が高く、かつレジスト等に用いる微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することのできる転写材料用硬化性組成物およびその形成方法を提供する。
【解決手段】アクリロイル基を有するポリシロキサンからなり、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）_３（ここでＲは炭素数１〜４のアルキル基である）または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）_３（ここでＸはアクリロイル基を含有する基である）であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である硬化性ケイ素化合物を含有する、微細パターンを形成するための転写材料用硬化性組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

ゾルゲル組成物、ゾルゲル組成物前駆体、および光パターン形成された構造を基板上で製作する方法を、本明細書中に記載する。本ゾルゲル組成物は、金属酸化物または金属アルコキシドを組み込まずして、高屈折率と低光損失の組み合わせを有する。本ゾルゲル組成物は、特に、１３００〜１６００ｎｍのテレコミュニケーション波長範囲における導波管製作への応用においてさらに有用である。さらに、本明細書中に記載するゾルゲル組成物を用いた、パターン形成された構造の製作は、例えば、シリコン・オン・シリカの基板およびモリブデン・オン・ガラスの基板をはじめとした種々の基板において達成することができる。
（もっと読む）

【課題】球状で，ナノレベルの微小な粒子径を有し，粒度分布が極めて狭く，低屈折率で且つ屈折率の調節が可能なシリカガラス微粒子及びその製法を提供すること。
【解決手段】アルコキシシランを原料として，その加水分解反応及び重合反応により球状微粒子の形態に作製され，次いで焼成されてなるものである，平均粒子径が５ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の範囲にあり，かつ屈折率が１．３５〜１．４４であることを特徴とする球状シリカガラス微粒子。 （もっと読む）

本発明は、１以上の異なるポリシロキサン物質を使用して形成された無毒性ポリシロキサン物質および熟成ポリシロキサン物質に関する。そのような熟成ポリシロキサン物質を本発明に従い例えば紡糸して生物吸収性および／または生物活性繊維を得、ついで更に加工して不織布を形成させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスで得ることができ、電気的絶縁性が高く、表面性状が良好なシルセスキオキサン系絶縁膜を得ることを可能とする方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランと、前記アルコキシシランの加水分解を促進するための酸触媒と、水と、第１の非プロトン性溶媒とを含む溶液を用意する工程と、前記溶液を０℃〜５０℃の温度に維持して加水分解する工程と、前記加水分解後に、前記溶液を５０℃〜７０℃の温度に維持し、加水分解重縮合を進行させる工程と、前記加水分解重縮合を進行させた後に、酸触媒及び副生成物を少なくとも留去するために減圧する工程と、減圧後に前記溶液を塗工する工程と、塗工された溶液を１５０℃〜１７０℃の温度で焼付けてシルセスキオキサン系膜を形成する工程とを備える、シルセスキオキサン系絶縁膜の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、（ａ）式Ｉ（ＳｉＸ_４）の１以上の異なるシリコン化合物の少なくとも１つのＸラジカルに第１の加水分解縮合反応（ＨＣＲ）を行う段階であって、ここでＸラジカル同士は同じまたは異なっており、各Ｘラジカルは、エタノール（ＥｔＯＨ）またはエタノールと水の混合物を溶媒として、１から２４時間の間、摂氏０度から摂氏７８度（エタノールの沸点）の温度で、０から７以下の範囲の初期ｐＨで酸触媒されるヒドロキシル、水素、またはエトキシ（ＥｔＯ）を表す段階と、（ｂ）段階（ａ）で得られた材料に第２のＨＣＲを行い、同時に、ガス拡散密閉された容器（gas diffusion tight container）で、１００から１０１３ｍｂａｒの圧力下で、好適には３００ｍｂａｒから８００ｍｂａｒの僅かな負圧下で、摂氏５０から７８度の温度で、好適には約７０度で、粘度が（摂氏４度で１０ｓ^−１のせん断率において）０．５から２の間の値に大幅に増加するまで、好適には１に増加するまで、一定の重量になるまで、および、一般式((SiO(OH)_0.75(OEt)_1.25? 1/64 H₂O)₄のシクロテトラシロキサンが形成され、モル質量が４＊約１１４ｇ＝約４５６ｇになるまで、徐々に蒸発させることで溶媒を除去する段階と、
（ｃ）ＰＥＳ材料を、閉鎖された、好適にはガス拡散密閉された容器で、数分（２から５分）から数時間（０．２から５時間、好適には０．５時間）という期間で冷却する段階と、（ｄ）段階（ｃ）で得られたＰＥＳ材料を、第３のＨＣＲによりｒＰＥＳ材料に変換する段階と、から得られるポリエトキシシロキサン（ＰＥＳ）材料に関する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、保形性、耐熱性に優れる自立性袋状の容器を提供する。
【解決手段】透明プラスチック基材１０、紙基材層２０、ガスバリア性積層フィルム４０とヒートシール層５０とを含む積層体を胴部とし、透明プラスチック基材とヒートシール層とを含む積層体を底部として製函してなる自立性袋状の容器である。ガスバリア性積層フィルム４０を使用することで、耐熱性、保形性、ガスバリア性に優れ、電子レンジ、レトルト処理に好適に使用できる自立性袋状の容器である。 （もっと読む）