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Fターム[4J246GB15]の内容

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Fターム[4J246GB15]に分類される特許

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【課題】有効利用率が高く、物質移動を促進し得る表面構造を備え、ろ過材や触媒担体、吸着材などとして実用的な材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】シリカ材料を、半球カップ状、ボウル状、あるいは皿状に湾曲した二重薄膜構造を有し、膜厚が10〜100nmのものとして使用する。望ましくはその直径をナノサイズからマイクロサイズレベルのものであって、さらに望ましくはその表面にCH(メチル)基を備えたものとする。 (もっと読む)


【課題】樹脂粒子が、本体の表面に、体積平均粒径が100nm以上500nm以下、粒度分布指標が1.40以上1.80以下、かつ、平均円形度が0.5以上0.85以下である一次粒子が、円形度と体積平均粒径(nm)とについて、式(1)で表される回帰直線を有するシリカ粒子を付着していない場合に比べ、流動性を維持する樹脂粒子を提供する。
【解決手段】樹脂粒子本体と、前記樹脂粒子本体の表面に付着したシリカ粒子であって、体積平均粒径が100nm以上500nm以下、粒度分布指標が1.40以上1.80以下、かつ、平均円形度が0.5以上0.85以下である一次粒子が、円形度と体積平均粒径(nm)とについて、下記式(1)で表される回帰直線を有するシリカ粒子と、を含む樹脂粒子。
円形度=α×体積平均粒径/1000+β (1)
(−2.5≦α≦−0.9、0.8≦β≦1.2)。 (もっと読む)


【課題】低い誘電率及び改良された機械的性質、熱的安定性及び化学的耐性を有する多孔質有機シリカガラス膜を提供する。
【解決手段】式Si(ここで、v+w+x+y+z=100%、vは10〜35原子%、wは10〜65原子%、xは5〜30原子%、yは10〜50原子%、及びzは0〜15原子%)で表わされる多孔質有機シリカガラス膜を製造する。オルガノシラン及びオルガノシロキサンからなる群より選ばれる前駆体並びにポロゲンを含むガス状試薬を真空チャンバに導入し、ガス状試薬にエネルギーを加え、ガス状試薬の反応を生じさせて基体上に予備的な膜を堆積させる。その予備的な膜は細孔を持ち、誘電率が2.6未満である多孔質膜を得るために、実質的にすべてのポロゲンを除去される。 (もっと読む)


【課題】高耐熱性、高屈折率、高透過率を同時に満足するシリカ質膜と、それを製造するためのポリマーの提供。
【解決手段】スルホン化フェニル基を有するシルセスキアザンを構成単位に含むシルセスキアザンポリマー。構成単位として非置換フェニル基を有するシルセスキアザンを含んでもよい。さらに、このポリマーを含む組成物を基材に塗布し、焼成することにより、高屈折率の被膜を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】紫外線が照射されても疎水性の低下が抑えられ、誘電率の上昇が抑制された低誘電率膜を製造するための低誘電率膜の前駆体組成物、及び、低誘電率膜の製造方法を提供する。
【解決手段】低誘電率膜の前駆体組成物は、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチルシラン、ジエトキシジシラン、ジメトキシジシラン、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン及びジメチルメトキシシランから選択される一種以上の化合物と、式:(RO)−Si−X−Si−(RO)(ROはアルコキシ基、Xは有機架橋基であってメチレン基、エチレン基、ビニレン基、1,4−フェニレン基から選択される)で表される化合物、式:Si(OR)(Rは一価の有機基)で表される化合物、環状シロキサン、二重環状シロキサン及びゼオライト微結晶から選択される一種以上の物質と、熱分解性化合物と、アルコキシシラン加水分解触媒と、を含有する。 (もっと読む)


【課題】安価で高い断熱性能を有し、かつ量産性、柔軟性、施工性に優れた多孔質シリカ−繊維複合体の製造方法、多孔質シリカ−繊維複合体およびそれを用いた真空断熱材を提供する。
【解決手段】pH3〜4.5の酸性水溶液、非イオン性界面活性剤、水溶性の非プロトン性極性有機溶媒、および尿素を含む混合液に、アルキルトリアルコキシシラン、アリールトリアルコキシシラン、ビス(トリアルコキシシリル)アルカンからなる群より選択される1または複数を氷冷下添加し、シロキサンゾルを生成させ、これを繊維構造体に含浸後、その内部で前記シロキサンゾルを一定の温度で反応させ、多孔質の酸化ケイ素ゲルを生成させることにより多孔質シリカ−繊維複合体を調製後、内部に含まれる水をアルコール溶媒に置換し、常圧下で加熱乾燥させる多孔質シリカ−繊維複合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】化学修飾充填材を生成するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】1重量%より高い炭素含有量、0.15重量%より高いメルカプト含有量、少なくとも0.3のシラン変換指数(以下に説明される)、および4以上の標準強化指数(同じく以下に説明される)によって特徴付けられる、改良された修飾充填材(例えば、粒状もしくは非晶質の無機酸化物)が調製され得ることがここで見出された。本発明の修飾充填材は、2.5以下のpHを有する無機酸化物の水性懸濁液中で官能基化剤と疎水化剤との特定の組み合わせを利用し、この修飾充填材の酸性水性懸濁液を酸中和剤で処理してこの懸濁液のpHを3.0〜10の範囲に上昇させることにより、生成され得る。 (もっと読む)


【課題】プロセス適合性に優れ、高度な光学特性及び表面平滑性を有する透明複合材料を提供する。
【解決手段】特定の環状へテロ基構造を有する硬化性樹脂(a)、該硬化性樹脂(a)とは異なる環状エポキシ化合物(b)及びエポキシ硬化剤(c)を熱処理して得られる硬化樹脂(A)と、ガラスフィラー(B)とを含むフィルム状コア層の表面に、特定のポリオルガノシロキサン化合物を含む平滑化剤(C)を硬化させてなる平滑化層が形成されてなる、透明複合材料。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】(1)固体Si−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
(i)ピークトップの位置がケミカルシフト−40ppm以上0ppm以下の領域にあり、ピークの半値幅が0.5ppm以上、3.0ppm以下であるピーク、及び、
(ii)ピークトップの位置がケミカルシフト−80ppm以上−40ppm未満の領域にあり、ピークの半値幅が1.0ppm以上5.0ppm以下であるピーク
からなる群より選ばれるピークを、少なくとも1つ有するとともに、
(2)ケイ素含有率が20重量%以上であり、
(3)シラノール含有率が0.1重量%以上、10重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】硬化したオルガノポリシロキサン樹脂フィルム上に酸化窒化ケイ素層、窒化ケイ素層または酸化ケイ素層が接着性良く形成されており透明性、ガスバリアー性等が優れた硬化オルガノポリシロキサン樹脂フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ヒドロシリル化反応により架橋させてなる硬化オルガノポリシロキサン樹脂からなり、可視光領域で透明であるフィルム上に、有機官能基、重合性有機官能基が重合して生成した有機基、ヒドロシリル基またはシラノール基を有する硬化オルガノポリシロキサン層が形成され、該硬化オルガノポリシロキサン層上に酸化窒化ケイ素層、窒化ケイ素層または酸化ケイ素層が形成されている、ガスバリアー性硬化オルガノポリシロキサン樹脂フィルムおよびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】高性能多孔性絶縁膜を得るために、期待される誘電率、機械強度を満たし、化学的安定性に優れる多孔質膜を形成できる有機酸化ケイ素微粒子等を提供する。
【解決手段】無機酸化ケイ素、又はケイ素原子に直接結合した炭素原子を有する有機基を含有する第1有機酸化ケイ素からなる内核と、内核の外周に、ケイ素原子に直接結合した炭素原子を有する有機基を含有する有機基含有加水分解性シラン、又は有機基含有加水分解性シランと前記有機基を含有しない有機基非含有加水分解性シランの混合物からなる外殻形成用成分を塩基触媒の存在下で加水分解性縮合して得られる、第1有機酸化ケイ素とは異なる第2有機酸化ケイ素からなる外殻とを備えてなる有機酸化ケイ素微粒子であって、全炭素原子数[C]と全ケイ素原子数[Si]との比[C]/[Si]が、内核では0以上1未満であり、外殻では1以上である有機酸化ケイ素微粒子を提供する。 (もっと読む)


【課題】接合膜を介して接合される部材の構成材料によらず、気密性に優れた閉空間に可動板を収納してなる信頼性の高いアクチュエータ、およびかかるアクチュエータを備えた光スキャナおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】アクチュエータ1は、2自由度振動系を有する基体2と、支持体3、4とを有している。そして、基体2と支持体3とが接合膜81を介して、また、基体2と支持体4とが接合膜82を介して、それぞれ気密的に接合されている。これにより、2自由度振動系が閉空間内に封入されている。各接合膜81、82は、シロキサン結合を含むランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含むものであり、これらの接合膜81、82は、エネルギーを付与したことにより、脱離基がSi骨格から脱離し、各接合膜81、82に発現した接着性によって基体2と支持体3および基体2と支持体4を気密的に接合している。 (もっと読む)


【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、絶縁膜を形成する際に所望の比誘電率を簡便に得ることができる膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】上記膜形成用組成物は、下記式(1)で示されるケイ素化合物を、特定のシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物の存在下で、縮合させて得られる加水分解縮合物、ならびに有機溶媒を含有する。


(式中、xは3〜25の整数を示す。) (もっと読む)


【課題】 低誘電率、高機械的強度を有し、疎水性の改良された多孔質膜及びその作製方法、この多孔質膜の前駆体組成物及びその調製方法、並びにこの多孔質膜を利用した半導体装置の提供。
【解決手段】 式:Si(OR)及びR(Si)(OR)4−a(式中、Rは1価の有機基を表し、Rは水素原子、フッ素原子又は1価の有機基を表し、Rは1価の有機基を表し、aは1〜3の整数であり、R、R及びRは同一であっても異なっていてもよい)で示される化合物から選ばれた化合物と、熱分解性有機化合物と、触媒作用をなす元素と、尿素等とを含む。この前駆体組成物から得られた多孔質膜に対して紫外線照射した後、疎水性化合物を気相反応させる。得られた多孔質膜を用いて半導体装置を得る。 (もっと読む)


【課題】従来の乾燥ゲルは、温度変化による膨張収縮の度合いが小さいため、乾燥ゲルを他の物体に取り付けて用いる場合、他の物体と乾燥ゲルとの温度変化による伸縮の度合いが大きく異なり、強度の弱い乾燥ゲルに割れが生じたり、剥離したりする課題がある。
【解決手段】本発明の乾燥ゲルは、それを構成する材料の工夫により柔軟性をもたせる。柔軟性は、乾燥ゲルの材料であるオルガノシラン化合物9を、加水分解性有機基12と、非加水分解性有機基10が同一のケイ素11に直接結合したものを含有するようにすることで得られる。 (もっと読む)


【課題】温度変化、湿度変化など環境変動に対する安定性の向上を図ることが可能で、光透過率の高い光学素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学素子としての対物レンズ7は、体積換算平均粒子径が2〜100nmである無機微粒子と有機材料からなる有機無機複合材料を成型したものであり、前記無機微粒子が、一般式Si−R(Rは非極性置換基を表す。)で表される有機官能基を、少なくとも粒子中心部に有する。 (もっと読む)


【課題】シリケート化合物を配合する塗料において、その耐汚染性を改善することが可能な実用的な手法を提供する。
【解決手段】塗料用樹脂の固形分100重量部に対し、シリケート化合物をSiO換算で0.1〜50重量部の比率で含む塗料組成物において、前記シリケート化合物として、テトラアルコキシシラン縮合物(a)が、一分子中に水酸基を3個以上有し、分子量が500未満である多価アルコール(b)によって変性された変性シリケート化合物を使用する。前記変性シリケート化合物としては、前記テトラアルコキシシラン縮合物(a)1モルに対し、前記多価アルコール(b)0.01〜1モルの比率で変性されたものが好適である。 (もっと読む)


【課題】 低誘電率、低屈折率、高機械的強度を有する疎水性多孔質膜及びその作製方法、この多孔質膜を作製するための多孔質膜の前駆体組成物及びその調製方法、並びにこの多孔質膜を利用した半導体装置の提供。
【解決手段】 式:Si(OR)及びR(Si)(OR)4−a(式中、Rは1価の有機基を表し、Rは水素原子、フッ素原子又は1価の有機基を表し、Rは1価の有機基を表し、aは1〜3の整数であり、R、R及びRは同一であっても異なっていてもよい)で示される化合物から選ばれた少なくとも1種の化合物と、250℃以上で熱分解を示す熱分解性有機化合物と、触媒作用をなす元素と、有機溶媒とからなる多孔質膜の前駆体組成物。この前駆体組成物の溶液を用いて疎水性化合物と気相重合反応せしめ、多孔質膜を作製する。この多孔質膜を用いた半導体装置。 (もっと読む)


【課題】集積回路において階間誘電体として用いる場合の低誘電率材料及びそれを含む膜の性能の改良、並びにその製造方法について明らかにする。
【解決手段】これらの材料は、約3.7又はそれ未満の誘電率(k)、前記材料の誘電率から部分的に導出される約15GPa又はそれよりも大きい標準化壁体弾性率(E′)、及び金属不純物レベルが500ppm又はそれ未満のものとして特徴づけられる。また、約1.95未満の誘電率及び約26GPaを超える前記材料の誘電率から部分的に導出される標準化壁体弾性率(E′)を有する低誘電率材料について開示する。 (もっと読む)


【課題】構造誘導体物質として環状シロキサン系モノマーを使用する、誘電率が低く且つ諸般物性に優れた低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】環状シロキサン系モノマー、有機溶媒、酸または塩基、および水を混合してコーティング液を準備する第1段階と、前段階で得たコーティング液を基板上に塗布した後、熱硬化させてメソポーラス薄膜を得る第2段階とを含む、低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法。 (もっと読む)


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