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【課題】ガスバリア性に優れている光半導体素子用封止剤を提供する。
【解決手段】分子内に環状エーテル含有基1個以上有するシリコーン樹脂と、液状のフェノール樹脂とを含有し、前記シリコーン樹脂は、平均組成式が下記一般式(1)で表される樹脂を含み、かつ下記式(a)より求められるフェニル基の含有比率が15〜60モル%である、光半導体素子用封止剤。
【化1】


一般式(1)中、a、b及びcは、それぞれa/(a+b+c)=0〜0.3、b/(a+b+c)=0.5〜0.9、及びc/(a+b+c)=0.1〜0.4を満たし、R1〜R6は、少なくとも1個が環状エーテル含有基及び/またはフェニル基を表し、前記環状エーテル含有基及びフェニル基以外のR〜Rは、直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜8の炭化水素基のフッ化物基を表す。R〜Rは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
フェニル基の含有比率(モル%)=(平均組成式が一般式(1)で表される樹脂の1分子あたりに含まれるフェニル基の平均個数×フェニル基の分子量/平均組成式が一般式(1)で表される樹脂成分の平均分子量)×100 ・・・式(a) (もっと読む)


【課題】従来技術の問題点が解消され、滑性、耐摩耗性、耐薬品性、非粘着性、帯電防止性、耐熱性などに優れ、温暖化ガス削減の観点から環境対応の新規なポリシロキサン変性ポリヒドロキシポリウレタン樹脂が提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)で表せる5員環環状カーボネートポリシロキサン化合物とアミン化合物との反応から誘導されてなるポリシロキサン変性ポリヒドロキシポリウレタン樹脂。
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【課題】半導体基板への不純物拡散成分の拡散の際に拡散保護のために形成するマスクに好適に採用可能なマスク材組成物、当該マスク材組成物を用いた不純物拡散層の形成方法、および太陽電池を提供する。
【解決手段】マスク材組成物は、半導体基板への不純物拡散成分の拡散保護に用いられるマスク材組成物であって、下記式(a1)で表される構成単位を含むシロキサン樹脂(A1)を含有する。
【化1】


式(a1)中、Rは、単結合または炭素数1〜5のアルキレン基であり、Rは、炭素数6〜20のアリール基である。 (もっと読む)


【課題】(A)〜(E)のうち、(A)及び(C)を含む3つ以上に優れる宇宙空間用硬化性組成物、その硬化物、並びに、宇宙空間用複合膜を提供すること。(A)原子状酸素耐久性、(B)紫外線による太陽光吸収率増加抑制性、(C)アウトガス抑制性、(D)表面非粘着性、(E)硬化膜追従性。
【解決手段】式(1)で表されるポリシロキサンを含むことを特徴とする宇宙空間用硬化性組成物、その硬化物、並びに、宇宙空間用複合膜。wは正の数を表し、v、x及びyはそれぞれ独立に、0又は正の数を表す。
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【課題】塗料、コーティング剤又は接着剤などに適している無溶剤型硬化性樹脂組成物、また該組成物で構成されている塗膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】無溶剤型硬化性樹脂組成物は、第2級アミノ基及び第3級アミノ基から選択された少なくとも一種のアミノ基を有するアミノ基含有シランカップリング剤(A1)と、エポキシ基含有シランカップリング剤(A2)と、ポリイソシアネート(B)とで構成され、A1成分及びA2成分の加水分解縮合性基1モルに対して、B成分のイソシアネート基の割合は0.1〜5モル程度で、A1成分とA2成分との割合(重量比)は、例えば、前者/後者=90/10〜20/80程度である。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板と偏光板の接着、又は偏光板と位相差板との積層板との接着に適した感圧接着剤の提供。
【解決手段】(A)アクリル系ポリマーと、(B)下記平均組成式:YSi(OR3(OH)e(4−a−b−c−d−e)/2・・・(1)(式中、Yは一部がエノール化していてもよいβ-ケトエステル基含有有機基、Rはメルカプト基、エポキシ基などの官能基を含み又は含まない炭素原子数1〜18の一価炭化水素基、Rは官能基を含まず、且つRとは異なる炭素原子数1〜18の一価炭化水素基、R3は炭素原子数1〜4の一価炭化水素基、a,b,c,d,及びeは、それぞれ0.01≦a≦1、0≦b<1、0≦c≦2、0≦d≦2、及び0≦e≦1で示される数であって、且つ2≦a+b+c+d+e≦3を満たす。)で表されるオルガノポリシロキサン化合物からなる接着性改質剤とを含有する液晶素子用感圧接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】任意の水で希釈が可能な水溶性ケイ素化合物の製造方法を提供することであり、本製造方法で得られる水溶性ケイ素化合物を使用し、多孔質の酸化ケイ素の粉体や酸化ケイ素を含むガラス体を得ることが可能な水溶性ケイ素化合物を提供すること。
【解決手段】
下記式(1)で表されるケイ素化合物又は下記式(1)で表されるケイ素化合物の縮合物と、分子内に少なくとも1以上の水酸基及び/又はアミノ基を有する水溶性化合物とを接触させた後に、酸性物質を接触させることを特徴とする水溶性ケイ素化合物の製造方法。


[式(1)中、RないしRは、互いに同一でも異なってもよい、水素原子、ヒドロキシ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、RないしRの少なくとも1つの基は、中心のSi原子とSi−O結合をする酸素原子を有する基である。] (もっと読む)


本発明は、揮発性有機化合物(VOC)に乏しい又は本質的にVOCを含まないコーティング塗料中での組成物の使用に関し、その際、当該組成物は、1個又は複数個の部分又は完全加水分解され、かつ場合によっては縮合又は共縮合されたアミノアルキル−およびオリゴシリル化アミノアルキル−、アルコキシ−又はヒドロキシ−官能性ケイ素化合物を少なくとも部分的にベースとし、かつアルコールは少なくとも部分的に当該組成物から除去されている。さらに本発明は、アミノアルキル−又はオリゴシリル化−アミノアルキル−、ヒドロキシ−および場合によってはアルコキシ−官能性ケイ素化合物を含有する組成物ならびにこのような組成物を製造するための方法に関する。 (もっと読む)


【課題】従来技術の欠点が回避され、低く一定の残留揮発性と、一定の所望の粘度と、アミノアルキル基を有するシロキサン単位のポリマー中での一定の統計的分布とを有するオルガノポリシロキサンが得られる方法を提供する。
【解決手段】アミノアルキル基を有するオルガノポリシロキサンを、オルガノポリシロキサンと、アミノアルキルシラン又はその加水分解物とを、塩基性触媒と連鎖停止試薬との存在下で反応させること及び引き続き使用される塩基性触媒(C)を中和させることによって製造するための方法であって、但し、化合物(A)と(B)と(D)とを触媒(C)の存在下で連続的に長さ対直径の比率が4以上である反応室において反応させる方法によって解決される。 (もっと読む)


【課題】ハードコート特性と防錆機能を有する高分子組成物を提供する。
【解決手段】
(a)以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物
4−n−Si−(OR’)
(式中、Rはアミノ基含有の有機基を表わし、R’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、nは1〜3から選択される整数を表わす);及び
(b)HBO及びBからなる群から選択される少なくとも1種のホウ素化合物:
を、(a)成分1モルに対して(b)成分0.02モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、
(c)イミダゾール系窒素へテロ環化合物、トリアゾール系窒素へテロ環化合物、テトラゾール系窒素へテロ環化合物、及びピラゾール系窒素へテロ環化合物、並びにこれらの化合物の塩から成る群から選択される少なくとも一種の化合物と、
を含む、高分子組成物。 (もっと読む)


【解決手段】γ位に3級アミノ基を有するプロピルシラノール化合物及びそのシラノール縮合体を含有する水溶液。
【効果】本発明の3級アミノ基含有シラノール化合物含有水溶液は、使用の際にアルコールの生成がなく、高い沸点、低い蒸気圧を有するカップリング剤であり、かつ水溶液のままで長期保存が可能であり、使用時には水で希釈して使用できるといった特徴を持つ水溶液として、シランカップリング剤や表面処理剤の用途で非常に有用である。 (もっと読む)


【課題】従来のナノシリコン材料の応用面の限界を克服し、シリコンの薄膜形成を可能にした、形状異方性の薄片粒子(シリコンナノシート)とその製造方法を提供するものである。
【解決手段】二ケイ化カルシウムを−30℃以下に冷却した濃塩酸水溶液と反応させて、組成式(SiH)で示される層状ポリシラン粉末を生成させ、得られた層状ポリシラン粉末と末端に炭素―炭素二重結合または炭素−炭素三重結合を有する不飽和有機化合物とをヒドロシリル化反応触媒を用いて反応させ、層状ポリシランのH基を有機基に置き換えることにより、シリコンナノシートを得る。 (もっと読む)


【課題】ポリウレタンフォームに配合しても経時で発生するアルデヒド類の量が極めて少ないポリウレタンフォーム用整泡剤、及びこの整泡剤を用いたポリウレタンフォームの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともオルガノハイドロジェンポリシロキサンとアリル基含有ポリオキシアルキレン化合物とのヒドロシリル化反応により合成されるポリエーテル変性シリコーン化合物を含有してなるポリウレタンフォーム用整泡剤であって、
該ポリエーテル変性シリコーン化合物が、0.23規定の塩酸中、50℃で0.5時間加熱エージングした時のアルデヒドの発生量が該ポリエーテル変性シリコーン化合物に対して質量基準で100ppm以下のものである上記整泡剤、並びにポリオール、イソシアネート化合物、発泡剤、触媒及び上記整泡剤を含有する混合物を発泡させることを含むポリウレタンフォームを製造する方法。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1種類のフルオロシランと、少なくとも1種類のアミノシランとを含む組成物、前記フルオロシランと前記アミノシランとの縮合生成物、及びそれによって調製された表面保護剤に関するものである。 (もっと読む)


本発明は、式Xm−M−(OR)n-mを有する少なくとも1つの化合物の溶液を調製し、ドーパントの溶液に添加し、該化合物を加水分解してゾルを形成し、場合により、酸化物を添加し、ゾルをゲル化し、前記液体を再循環し、かつ液体のpH値を調節して、アクアゲル中のドーパントを固定させ、ゲルを乾燥させ、かつ密度を高めてガラスを得ることから成るゾル−ゲル法に関する。 (もっと読む)


ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを(好ましくは)長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有MQ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 (もっと読む)


ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを(好ましくは)長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有MQ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 (もっと読む)


【化1】


本発明は、一般式(1)の新規化合物に関する{式中、Xは、R1、二つのA1成分に結合する基-[CO2(CH2)nCO2]-(A1は、X以外のAであり、nは2〜4である)、C(=W)R、(CR3Z)iCHR3Z、OH、O(M+g)1/g及びOC(=W)Rから選ばれ(式中、Wは酸素、硫黄、NR4及びNNR4R5から選ばれ、ZはOR6、NR6R7及びSR6から選ばれ、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7又はSR6であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基、アリール基又はアルキルアリール基である)}。Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである。Vは所望により置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基又はアリール基又はアルキルアリール基であり;eは、整数の0〜2であり;fは、整数の0〜100、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜6であり、tは整数の1〜20、好ましくは1〜3であり;hは0又は1である。シリケート酸素原子の遊離原子価は、一般式(1)の他の基のシリコン原子、水素、線状又は分岐のアルキル基、又は末端基、架橋メンバー又はシリコン、アルミニウム、チタニウム又は他の公知のオキソ金属架橋系を含むポリマー鎖の一つ以上により飽和されている。整数a、b、c及びdは、i)bが0の場合、a:cの比は0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bは0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBの両方が常に存在する。末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dに対する比は、0〜999:1である。本化合物は、固相抽出、固相合成、酸及び金属介在不均一触媒、金属イオン抽出及び生物分子の固定化のために、不必要な有機及び無機化合物を除去するためのスカベンジャーとして有用である。
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水環境に曝露された構造物の汚損を防止するのに有用な防汚材料は、殺生物側鎖および任意に汚損遊離側鎖を伴う炭素および/またはシリコーン骨格を有するブロックコポリマーを含む。

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