【課題】本発明は、表示素子用硬化膜の一般的特性である放射線感度等を十分満足する表示素子用硬化膜を形成することができ、かつ表示素子用硬化膜形成の際の加熱工程において、人体に有害なベンゼン等のアウトガスの発生を低減することができるポジ型感放射線性組成物、このポジ型感放射線性組成物から形成された表示素子用硬化膜、この表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子を提供することを目的とする。
【解決手段】［Ａ］シロキサンポリマー、及び［Ｂ］キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性組成物であって、［Ａ］シロキサンポリマーが、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物を含む加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であり、かつ［Ａ］シロキサンポリマーにおける下記式（２）で表される化合物に由来する構造単位の含有率が、５モル％以上６０モル％以下であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

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【課題】低粘度や光硬化速度などの基本的な性能を有すると共に、低臭気、低皮膚感作性など取り扱い性能が両立できること、更に地肌汚れや画像ボケを抑制すると共に、充分な定着性を有する光硬化型液体インク、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるシリコーン材料。


但し、上記一般式（１）中、Ｒ１は独立に、メチル基、或いはフェニル基を表し、Ｙは置換或いは無置換の炭素数１〜１８のアルキル基を表し、ｌ、ｍ及びｎは０〜１００の整数を表し、Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３は、独立にメチル基、或いはフェニル基、或いは、特定のクロトン酸エステル構造を有する置換基Ａを表し、Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３うち少なくとも１つは置換基Ａである。） （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）下記式（１）
Ｒ¹_mＲ²_nＳｉＯ_(4-m-n)/2 （１）
（Ｒ¹は１価炭化水素基、Ｒ²はエポキシ基を含有する有機基、ｍ＞０、ｎ＞０、０＜ｍ＋ｎ≦３である。）
で示されるエポキシ変性オルガノポリシロキサンと、
（Ｂ）（メタ）アクリル酸とを、
（Ｃ）塩基を用いて反応させる下記式（２）
Ｒ¹_mＲ⁶_nＳｉＯ_(4-m-n)/2 （２）
（Ｒ¹は１価炭化水素基、Ｒ⁶は（メタ）アクリロキシ基を含む有機基、ｍ＞０、ｎ＞０、０＜ｍ＋ｎ≦３である。）
で示される（メタ）アクリル変性オルガノポリシロキサンの製造方法。
【効果】本発明によれば、安価な原料を使用しているため原材料費が大幅に削減でき、得られた（メタ）アクリル変性オルガノポリシロキサンはアクリル基の導入率が高く、放射線を照射することによって硬化させることができ、その硬化物は基材密着性に優れた剥離紙として利用可能である。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィのための組成物および反射防止コーティングの提供。
【解決手段】少なくとも下記の：Ａ）式１：


（式中、Ｒａは、１つまたは複数の多重結合を含み、ただし、Ｒａが、２つ以上の多重結合を含む場合、これらの多重結合は、共役配置にはなく；Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は、各々独立して、アルコキシル、ヒドロキシル、ハライド、ＯＣ（Ｏ）Ｒ、またはＯＣ（Ｏ）ＯＲ（式中、Ｒは、アルキルまたは置換アルキルである）から選択される）から選択される化合物Ｆ１；およびその他３種類の特定ケイ素含有化合物を含む第一組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー性を有し、光硬化と加熱硬化とを組み合わせて硬化させることができるシリコーン樹脂組成物を用いることにより所望の硬化薄膜を高精度で容易に形成することができる硬化薄膜の製造方法を提供する
【解決手段】（Ａ）分子中に２つ以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）分子中にケイ素原子に結合した水素原子を２つ以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び（Ｃ）光活性型触媒を含有する光硬化型シリコーン樹脂組成物を硬化させて硬化薄膜を形成する方法であって、
(i)該組成物を基板上に塗布し、(ii)得られた塗膜に光を照射して半硬化状態の薄膜を得、及び(iii)該半硬化状態の薄膜を加熱して完全に硬化する工程を含み、
前記の工程(ii)で照射される光のスペクトルが、３００ｎｍ〜４００ｎｍの波長領域に最大ピークを有し、かつ、３００ｎｍより短い波長領域におけるいずれの波長の光においても分光放射照度が前記最大ピーク波長の光の分光放射照度の５％以下である方法。 （もっと読む）

【課題】安定性に優れた有機ケイ素化合物を含有し且つ硬化性、耐傷性及び基材に対する密着性に優れる硬化物を与える硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の組成物は、（Ａ）ケイ素化合物Ｒ^０Ｓｉ（Ｒ^１）_ｎＸ^１_３−ｎ（Ｒ^０は（メタ）アクリロイル基、Ｘ^１は加水分解性基）及び（Ｂ）ケイ素化合物ＳｉＹ^１_４（Ｙ^１はシロキサン結合生成基）を、アルカリ性条件で化合物（Ａ）１モルに化合物（Ｂ）０．３〜１．８モルの割合で加水分解共重縮合させることにより得られた有機ケイ素化合物、及び、メタクリロイル基又はアクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線に対する硬化性に優れ、得られた硬化物が良好な柔軟性を示す、ポリオキシアルキレン系重合体含有硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分を含有する硬化性組成物。（Ａ）一般式（１）：−［Ｓｉ（Ｒ^１_２−ｂ）（Ｘ_ｂ）Ｏ］_ｎＳｉ（Ｒ^１_３−ａ）Ｘ_ａ（１）で表される反応性ケイ素基を分子内に有するポリオキシアルキレン系重合体１００重量部（Ｂ）ビニルエーテル基を有する化合物２０重量部から１１０重量部（Ｃ）光酸発生剤０．００１重量部から２０重量部 （もっと読む）

【課題】得られるコーティング膜の透明性と耐候性を確保できるシルセスキオキサン化合物及びこれを含むコーティング組成物、さらには活性エネルギー線硬化性コーティング組成物を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有し、該ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つが、紫外線吸収性基又は紫外線安定性基と、スルホニル基及び／又はスルフィニル基とを有することを特徴とするシルセスキオキサン化合物。該シルセスキオキサン化合物に重合性不飽和基を導入することにより活性エネルギー線硬化性を付与でき、硬化性、耐候性、耐擦り傷性に優れた硬化塗膜を得ることができる活性エネルギー線硬化性コーティング組成物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト解像性、エッチング耐性に優れるフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】重合性二重結合基を有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、酸基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（３）で表される結合により結合された複合樹脂（Ａ）を含有するフォトレジスト材料であって、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）の含有率がフォトレジスト材料の全固形分量に対して１０〜９０重量％であり、且つ前記複合樹脂（Ａ）の固形分の酸価が４０〜４００ＫＯＨｍｇ／ｇであるフォトレジスト材料。


（３） （もっと読む）

【課題】保護膜や層間絶縁膜に対する要求特性を高水準でバランスよく両立させた硬化膜を形成可能であり、かつ無機アルカリ現像液でも現像可能な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ¹］テトラエトキシシラン又はその部分加水分解物と、下記式（１）で表される加水分解性シラン化合物又はその部分加水分解物と、下記式（２）で表される加水分解性シラン化合物又はその部分加水分解物とを加水分解縮合させて得られるポリシロキサン［Ｂ］エチレン性不飽和基を２個以上有する化合物（但し、成分［Ａ¹］を除く）［Ｃ］光ラジカル重合開始剤を含有する感放射線性組成物。


〔式中、Ｒ¹及びＲ³は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜２０のアルキル基等を示し、ｍは１〜３の整数を示し、ｎは０〜６の整数を示し、ｘは１〜３の整数を示し、ｙは１〜６の整数を示し、ｚは０〜３の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントに使用可能であり、且つレジスト現像性、エッチング耐性に優れる、ナノインプリント用硬化性組成物、及びこれを使用したレジスト膜を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用硬化性組成物は、シラノール基及び／又は加水分解性シリル基、並びに重合性二重結合を有するポリシロキサンセグメントと、該ポリシロキサン以外の重合体セグメントとを有する複合樹脂を含有する。


（式中、炭素原子は前記ビニル系重合体セグメントの一部分を構成し、酸素原子のみに結合したケイ素原子は、前記ポリシロキサンセグメントの一部分を構成するものとする） （もっと読む）

【課題】フィルム又はシート成型が容易で、従来よりも大幅に表面硬度の改良された鉛筆硬度５Ｈ以上を持つシリコーン樹脂成形体を与えることのできるシリコーン樹脂組成物、及びこれから得られたシリコーン樹脂成形体を提供する。
【解決手段】一般式[ＲＳｉＯ_3/2]_nで表されて構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンを主たる成分とするシリコーン樹脂（Ａ）と、所定の多官能不飽和化合物（Ｂ）と、前記シリコーン樹脂とラジカル共重合が可能であり、前記多官能不飽和化合物（Ｂ）以外の不飽和化合物からなる成分であって、その８０〜１００重量％が所定の脂環式不飽和化合物である不飽和化合物成分（Ｃ）と、末端に不飽和基を有し、かつ、ウレタン結合を有する化合物（Ｄ）とを配合したシリコーン樹脂組成物であり、これをラジカル共重合させて得られたシリコーン樹脂成形体である。 （もっと読む）

【課題】視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、表示特性及び長期信頼性に優れる液晶表示素子の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）［Ａ］同一又は異なる重合体中に、重合性炭素−炭素二重結合を含む基及び下記式（Ａ１）で表される基を有する重合体成分を含有する液晶配向剤を用い、導電膜を有する一対の基板のこの導電膜上に塗膜を形成する工程、（２）上記塗膜を形成した一対の基板を、それらの一対の塗膜が対向するよう、かつ液晶層を介して配置することで、液晶セルを形成する工程、及び（３）上記一対の基板の導電膜間に電圧を印加した状態で上記液晶セルに光照射する工程を有する液晶表示素子の製造方法である。
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【解決手段】加水分解性シラン化合物（Ａ）を含むケイ素系単量体を加水分解・縮合して得られるケイ素系高分子化合物を含む光学材料形成用シリコーン樹脂組成物であって、加水分解性シラン化合物（Ａ）は、脂肪族炭化水素基又は芳香環含有炭化水素基による架橋基により結ばれた１対以上のケイ素原子を有し、該１対以上のケイ素原子には合計で３つ以上の水素原子、水酸基及び加水分解性基から選ばれる置換基が結合したシラン化合物であり、上記ケイ素系単量体は、加水分解性シラン化合物（Ａ）をケイ素基準で７０モル％以上含み、芳香族骨格を含むケイ素原子の置換基の割合が、ケイ素原子に結合した置換基全体の３０％モル以下である光学材料形成用シリコーン樹脂組成物。
【効果】本発明の光学材料形成用シリコーン樹脂組成物は、透明性に優れ、熱衝撃等のストレスに強い硬化物を与えることができる。従って、光学材料の用途に好適に使用できる。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性の高い微細パターンを形成させるための組成物の提供。
【解決手段】シラザン結合を有する繰り返し単位を含んでなる樹脂と、溶剤とを含んでなる微細パターン形成用組成物とそれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】紫外線吸収剤等を配合しなくとも長期に亘って良好な耐候性を発揮する塗膜を与え得る紫外線硬化型塗料組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ケイ素原子含量が１１質量％以上であり、ケイ素原子に直結する水酸基および／またはアルコキシ基を有する有機シラン化合物および／またはその縮合物、（Ｂ）ケイ素原子含量が２．７質量％以上であり、１分子中にアルコキシシリル基と（メタ）アクリレート基とをそれぞれ１個以上有する紫外線硬化性化合物、並びに（Ｃ）光重合開始剤を含み、（Ｂ）成分が、（ｉ）（メタ）アクリルモノマーと、アミノ基またはメルカプト基含有アルコキシシラン化合物および／またはその縮合物との付加反応物、並びに（ｉｉ）（メタ）アクリレート基含有アルコキシシラン化合物および／またはその縮合物から選ばれる少なくとも１種である紫外線硬化型塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】耐候性、基材との密着性に優れた保護被膜を有する積層体を提供すること。
【解決手段】基材表面に、以下の第１層および第２層からなる二層構造の保護被膜を有する積層体。（第１層）前記基材上に形成される層であって、（Ａ）多官能（メタ）アクリレートを成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００質量％中３５〜９５質量％、（Ｂ）表面修飾無機微粒子を成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００質量％中５〜６５質量％及び、（Ｃ）活性エネルギー線感応性ラジカル重合開始剤を含む組成物に活性エネルギー線を照射して得られる層。（第２層）第１層上に形成される層であって、（Ｄ）アルキルシリケート類及び一般式（２）で示されるオルガノシラン類


の少なくとも一方を加水分解縮合して得られるシロキサン化合物を含む硬化性組成物を硬化して得られる層。 （もっと読む）

【課題】 新規な特定の構造のシリコーン変性アダマンタン誘導体により、低照度の光照射でも硬化し、良好な耐湿性だけでなく各種基材に対しても良好な接着性を示す硬化物を得ることができる光ラジカル硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で示されるシリコーン変性アダマンタン誘導体。
【化１】


（式中、Ｒ_１は互いに独立に、水素原子またはメチル基であり、Ｒは互いに独立に、メチル基またはフェニル基であり、ｎは２〜１０００の整数であり、ｋは０〜２の数である。） （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）式（１）で示される繰り返し単位を有するエポキシ基含有高分子化合物、


（Ｂ）光酸発生剤：特定構造のスルホニウム塩を含有する光硬化性樹脂組成物。
【効果】平坦な基板上及び凹凸のある基板において、上記エポキシ基含有高分子化合物のエポキシ基同士が架橋し、幅広い波長領域の光で、幅広い膜厚に亘り微細なパターン形成を行うことができる。 （もっと読む）