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【課題】透明性、耐薬品性、及び耐熱性に優れ、クラックを生じず、かつ10〜200μmの厚みの硬化膜を得ることができる材料、及びそれを用いた硬化膜及び表示素子を提供する。
【解決手段】マレイミド構造とシラノール構造とを有する特定のシラノール化合物と、その他のシラノール化合物とのシラノール基の縮重合によって得られるシロキサンポリマー(A)と溶剤(B)とを含有する熱硬化性組成物を形成し、その塗膜の焼成によって硬化膜を得る。 (もっと読む)


【課題】低ガス透過性を示す光半導体封止用のシリコーン樹脂組成物、及び信頼性の高い光半導体装置を提供する。
【解決手段】シリコーン樹脂組成物は以下の(A)〜(D)成分を含有する。(A)下記一般式(1)で示され、かつ1分子中に少なくとも2個のアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン


(式中、Rはシクロアルキル基であり、Rは同一又は異なる置換もしくは非置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、x=0.5〜0.9、y=0.1〜0.5、z=0〜0.2の数であり、但しx+y+z=1.0である)(B)1分子中にSiH基を2個以上有するハイドロジェンオルガノポリシロキサン(C)付加反応用触媒(D)接着付与剤 (もっと読む)


【課題】パターン加工性に優れ、UV硬化および熱硬化により高硬度、高透明であり、耐薬品性の優れる硬化膜を与える、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂(B)光ラジカル重合開始剤、(C)多官能モノマーおよび(D)下記式(1)〜(3)のうちいずれか1種類以上の官能基を有するシランカップリング剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物であって、(A)カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が、(a−1)カルボキシル基とラジカル重合性基を有するポリシロキサンおよび/または(a−2)カルボキシル基を有するアクリル樹脂とラジカル重合性基を有する一置換エポキシ化合物とを反応させて得られるアクリル樹脂であるネガ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】省エネルギー型防食用金属塗膜組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の省エネルギー型防食用金属塗膜組成物は、5〜10μmの粒子サイズを有し、アルミニウム、マグネシウム及びその合金よりなる群から選択される少なくとも一つの金属粉末と、ジルコニウムテトラ−n−ブタノラート、ジルコニウムブトキシド、イソプロピルチタネート、及びその混合物よりなる群から選択される第1ゾルゲル樹脂と、トリ−(3−(トリメトキシシリル)プロピル)イソシアヌレート、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、n−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びその混合物よりなる群から選ばれる第2ゾルゲル樹脂と、溶媒とを含んでなる。 (もっと読む)


【課題】 成型加工性、透明性、耐熱性、耐光性等に優れ、耐衝撃性に優れる多面体構造ポリシロキサン変性体、及び該変性体を含有する組成物を提供すること
【解決手段】 式[XR2SiO−SiO3/2]a[XR2SiO−(R2SiO)m−SiO3/2]b[R'−(R2SiO)n−SiO3/2]c(a〜cは0または1以上の整数、a+b+cは6〜24の整数、b+cは1以上の整数、m、nは1以上の整数;Rは、アルキル基、アリール基であり、それぞれが複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい;R'は、他の多面体構造ポリシロキサン;Xは、水素原子、アルケニル基であり、同一であっても異なっていてもよい)を構成単位とする多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有する化合物(b)をヒドロシリル化させて得られることを特徴とする、多面体構造ポリシロキサン変性体。 (もっと読む)


【課題】有機溶媒系の発泡に対して優れた消泡効果、発泡抑制効果を示すシリコーン系消泡剤を提供する。
【解決手段】一般式(1):


[式中、Xは、式:−CH−、−CHO−、−CHOCH−又は−Y−NR−CO−(式中、Yは、式:−CH−又は特定式で表わされる二価の基であり、Rは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基またはアリール基である)で表される二価の基であり、R、R、Rは、互いに独立に炭素数1〜10のアルキル基またはアリール基であり、X’は、式:−CH−、−OCH−、−CHOCH−又は−CO−NR−Y’−(式中、Y’は、式:−CH−又は特定式で表わされる二価の基であり、Rは上記と同じである。)で表される二価の基であり、aは互いに独立に0又は1であり、zおよびz’は互いに独立に5〜100の整数]で示されるパーフルオロポリエーテル変性ポリシロキサンを消泡有効成分として含有する。 (もっと読む)


シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、塩基水溶液の揮散剤又はCFを含有する反応性イオンエッチング法を用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、フォトレジストの上面全体を露出する。次に、Oを含有する第2反応性イオンエッチング法を用い、フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
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【課題】樹脂成形体においては全光線透過率及び光拡散性等の光学特性の一層の向上、また化粧品においては使用感、ソフトフォーカス性及び持続性等の一層の向上等、近年における要求の高度化に充分に応えることができる中空異形微粒子、その製造方法及びその用途を提供する。
【解決手段】表面(11)に複数の凹部(21)を有しており、内部(31)に一つの中空部(41)を有していて、表面(11)と中空部(41)とが長径(L)の方向に沿う1本の割れ目(51)を介して連絡されている全体として紡錘形状の中空異形微粒子であって、長径(L)の平均値が0.1〜30μm、短径(L)の平均値/長径(L)の平均値=0.3〜0.8であることを特徴とする中空異形微粒子を用いた。 (もっと読む)


【課題】高プロトン伝導性を有し、燃料遮断性及び耐久性にも優れるプロトン伝導性膜の提供。
【解決手段】ケイ素−酸素結合を有する架橋性化合物(A’)、ケイ素−酸素−ケイ素結合を形成し得る基及び重合性不飽和二重結合を有するシラン化合物(α)、酸基及び重合性不飽和二重結合を有する酸基含有化合物(β)及び重合開始剤を混合して、重合性組成物を調製する第一工程と、該重合性組成物を成膜する第二工程と、成膜した重合性組成物を重合させる第三工程とを有し、前記構造体(A’)が、下記一般式(1’)で表され、前記重合開始剤として、10時間半減期温度が異なる複数種類の重合開始剤を使用することを特徴とするプロトン伝導性膜の製造方法。
〔化1〕
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本発明は、環状シロキサンの開環重合における共触媒としての、トコフェロールの使用に関する。更に、本発明は、ヒドリドを含む環状シロキサンが、モノマーを収得するための第一の触媒の存在下で、一般式(I)HC=CH−(CHR) −O−(CHRCR) 、又は(II)HC=CH−(CHR) −R(式中、nは、0〜4の整数であり、mは、0〜5の整数であり、R、R、R、R、及びRは、それぞれ独立して、水素又はC〜Cのアルキルであり、Rは、カルボニル基を含む飽和環状炭化水素である)を有する、炭素−炭素二重結合を含む親水性分子と反応し、そして第二の触媒及び共触媒としてのトコフェロールの存在下で、前記モノマーを重合する、親水性ポリシロキサンポリマーを製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】シリコーンオイルをゲル化でき、取り扱いの容易なゲル化剤および、熱安定性、経時安定性に優れ、チキソトロピックなレオロジー特性を有し、化粧料への配合が容易なゲル状組成物および化粧料を提供する。
【解決手段】
平均単位式:RSiO(4−a−b−c)/2 (1)
〔式中、Rは一価炭化水素基または一価置換炭化水素基であり、
は一般式:-R4-O-(C2H4O)d(C3H6O)eR5(2)で示されるポリオキシアルキレン基であり、Rは一般式:−R4-O-C(CH2OH)H(OH)(3)で示されるカルビノール基を有する有機基(式中、Rはアルキレン基であり、1≦f≦10,1≦gであり、(g+i+h)=2f+1の関係を満たす)であり、
a、b、cはそれぞれ1.0≦a≦2.5、0.0009≦b≦0.5、0.0009≦c≦0.5である。ただし、c≦bである。〕で示されるシリコーン化合物からなるゲル化剤。 (もっと読む)


【課題】飽和吸水率が極めて低く、気密性能を有し、耐熱性、化学的耐久性及び接着性が高く、低融点で透明な材料はなかった。
【解決手段】溶融性を有する原材料の濃縮、溶融後に減圧加熱処理を行い、さらに300℃以上で高温熱処理する有機無機ハイブリッドガラス状物質の製造方法。溶融性を有する原材料はフェニル基およびDユニットを含み、高温熱処理は300℃以上550℃以下で行う特徴を有す。さらに、飽和吸水率が0.1重量%以下である有機無機ハイブリッドガラス状物質。さらに、吸水による膨張率および屈折率の変化量がそれぞれ0.1%以下、0.00030以下である有機無機ハイブリッドガラス状物質。軟化温度が50℃〜350℃、溶融性を有し、1100nmでの光透過率を基準としたシラノール基の吸収による光透過の低下率が10%以下である特徴を有す。 (もっと読む)


【課題】優れたプロトン伝導性、メタノールクロスオーバー防止性を有するプロトン伝導性膜を製造することができ、かつ、プロトン伝導性膜の生産性を大幅に向上させることが可能なプロトン伝導性膜の製造方法、プロトン伝導性膜及び燃料電池を提供する。
【解決手段】スルホン酸基と金属−酸素結合からなる架橋構造とを有するプロトン伝導性膜を製造する方法であって、金属−酸素結合を有する構造単位(a)と金属−酸素結合を有する構造単位と共有結合で結合したメルカプト基及び/又はスルフィド基を有する構造単位(b)とからなる架橋性化合物を含有する液状体を調製する工程、前記架橋性化合物を含有する膜状体を作製する工程、及び、水蒸気雰囲気下で前記膜状体に紫外線照射又はプラズマ処理を行うことにより、前記メルカプト基及び/又はスルフィド基をスルホン酸基とすると同時に、前記膜状体を硬化させる工程を有するプロトン伝導性膜の製造方法。 (もっと読む)


本発明のアルカリ可溶性珪素含有高分子化合物は、下記の式で表され、重量平均分子量が500〜500,000である。


式中、Aは水酸基を有するか若しくはアルコキシ基を有するフェニル基、Rは炭素数1〜4のアルキレン基、mは0又は1、Rは炭素数1〜4のアルキル基、s及びuは正の数であり、tは0又は正の数であって、0≦t/(s+u)≦1 且つ 0<u/s≦5 である。
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【課題】 有機EL素子等の吸水剤として用いることができる、透明でありかつ吸湿性がある組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシロキサンの主鎖の末端又は側鎖に、下式
−MXmn
(上式中、Mは2価以上の金属原子又はBもしくはP=Oより選ばれ、Xは水素、又は置換されたもしくは未置換のアルキル基、アルケニル基もしくはアルコキシ基であり、Yは置換されたもしくは未置換のアルコキシ基、シロキシ基、カルボキシル基またはジケトレートであり、mは1〜3であり、nは0〜2である)
で表される基を含有する化合物を含む湿気反応性組成物。 (もっと読む)


本発明の課題は、従来の固体高分子形燃料電池における問題点を解決し、耐熱性および高温下においてもプロトン伝導性に優れ、寸法安定性の高いプロトン伝導性膜、その製造方法およびこれを用いた燃料電池を提供することである。本発明のプロトン伝導性膜は、金属−酸素架橋構造からなる粒子1を有するプロトン伝導性膜であって、前記粒子1の表面にはスルホン酸基などの酸基が導入され、かつ、前記粒子1が連続体を構成する。そして粒子の間隙2は、前記プロトン伝導性膜の主表面から相対向する面に連通して、プロトン伝導路を形成している。
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【課題】アミン臭がない4級アンモニウム塩含有基含有オルガノポリシロキサン、その製法、増粘剤、ゲル化剤およびゲル状組成物を提供する。
【解決手段】平均単位式:R1a2bSiO(4-a-b)/2 (1)〔式中、R1は1価炭化水素基または1価置換炭化水素基(ただしR2に該当するものを除く)、R2は一般式:−(R−O−(CH(CH (2)で示される4級アンモニウム塩含有基(R3はアルキレン基、Rはアルキル基またはアルコキシ基で置換され得るフェニレン基。1≦a≦2.5、0.0005≦b≦1.5、cおよびdは0または1)で示される4級アンモニウム塩含有基含有オルガノポリシロキサン。ヒドロキシフェニル基含有オルガノポリシロキサンとグリシジルトリメチルアンモニウム塩との反応による製造方法。該オルガノポリシロキサンからなる増粘剤、ゲル化剤。疎水性シリコーンオイルと該オルガノポリシロキサンからなるゲル状組成物。 (もっと読む)


【解決手段】 非水溶媒と電解質塩と下記式(1)で示されるポリシロキサンとを必須成分とすることを特徴とする非水電解液。
【化1】


(式中、R1は水素原子又はメチル基であり、R2はメチル基、エチル基、プロピル基又はアセチル基のいずれかである。mは3〜6の整数、nは1〜6の整数である。)
【効果】 本発明のエーテル基を有する環状ポリシロキサンを含む非水電解液を使用した電池は、優れた温度特性及び高出力特性を有する。 (もっと読む)


【化1】


本発明は、一般式(1)の新規化合物に関する{式中、Xは、R1、二つのA1成分に結合する基-[CO2(CH2)nCO2]-(A1は、X以外のAであり、nは2〜4である)、C(=W)R、(CR3Z)iCHR3Z、OH、O(M+g)1/g及びOC(=W)Rから選ばれ(式中、Wは酸素、硫黄、NR4及びNNR4R5から選ばれ、ZはOR6、NR6R7及びSR6から選ばれ、RはR6、OR6、O(M+g)1/g、NR6R7、NHNR6R7又はSR6であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、水素、所望により置換されていてもよい線状又は分岐のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基、アリール基又はアルキルアリール基である)}。Mはランタニド、アクチニド、主族又は遷移金属から誘導される金属イオンである。Vは所望により置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基又はアリール基又はアルキルアリール基であり;eは、整数の0〜2であり;fは、整数の0〜100、gは整数の1〜4であり、iは整数の0〜6であり、tは整数の1〜20、好ましくは1〜3であり;hは0又は1である。シリケート酸素原子の遊離原子価は、一般式(1)の他の基のシリコン原子、水素、線状又は分岐のアルキル基、又は末端基、架橋メンバー又はシリコン、アルミニウム、チタニウム又は他の公知のオキソ金属架橋系を含むポリマー鎖の一つ以上により飽和されている。整数a、b、c及びdは、i)bが0の場合、a:cの比は0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びCの両方が常に存在し、ii)bが1以上の場合、比a:bは0.00001〜100,000であり、一般式AaBbCcDdにおいてA及びBの両方が常に存在する。末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+c+dに対する比は、0〜999:1である。本化合物は、固相抽出、固相合成、酸及び金属介在不均一触媒、金属イオン抽出及び生物分子の固定化のために、不必要な有機及び無機化合物を除去するためのスカベンジャーとして有用である。
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