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Fターム[4J246GC53]の内容

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【課題】 膜強度を高くし、薬液耐性を向上させたポーラスシリカ膜を得るためのポーラスシリカ前駆体組成物及びその作製方法、この前駆体組成物を用いて作製したポーラスシリカ膜及びその作製方法、並びにこのポーラスシリカ膜を用いて得られた半導体素子の提供。
【解決手段】 界面活性剤をテンプレートとして用いるポーラスシリカ前駆体組成物の作製方法において、有機アルカリ触媒の存在下トリアルコキシシランの重縮合反応を行った後、酸触媒の存在下、ポーラスシリカ前駆体の骨格形成材料を添加してさらに重縮合反応を行うか、又は酸触媒の存在下、ポーラスシリカ前駆体の骨格形成材料及びさらにトリアルコキシシランを添加してさらに重縮合反応を行うことからなる。得られた前駆体組成物を用いて作製されたポーラスシリカ膜及びこのポーラスシリカ膜を用いて得られた半導体素子。 (もっと読む)


【課題】原料である環状シロキサンの環の径を大きくすることなく、かつ空孔形成剤を用いることなく、大きな空孔を形成する多孔質層間絶縁膜を提供する。
【解決手段】トランジスタが形成されたシリコン基板10上にSiOを主成分とする層間絶縁膜2が設けられ、さらに層間絶縁膜2の上には、多孔質層間絶縁膜1が設けられている。多孔質層間絶縁膜1には配線90およびビア91が埋め込まれている。
なお、この多孔質層間絶縁膜1は、環状シロキサンと、少なくとも1つの酸素原子を含む有機化合物と、を含む混合原料ガスを用いたプラズマCVD法により成膜している。これにより、大きな空孔径のかご型構造を有する層間絶縁膜が得られるようになる。すなわち、環状シロキサンの環の径を大きくすることなく、より大きな空孔を形成することが可能となる。大きな空孔の形成が膜密度低減に貢献し、その結果、多孔質絶縁膜の比誘電率低減が実現可能となる。 (もっと読む)


【課題】低い誘電率及び改良された機械的性質、熱的安定性及び化学的耐性を有する多孔質有機シリカガラス膜を提供する。
【解決手段】式Si(ここで、v+w+x+y+z=100%、vは10〜35原子%、wは10〜65原子%、xは5〜30原子%、yは10〜50原子%、及びzは0〜15原子%)で表わされる多孔質有機シリカガラス膜を製造する。オルガノシラン及びオルガノシロキサンからなる群より選ばれる前駆体並びにポロゲンを含むガス状試薬を真空チャンバに導入し、ガス状試薬にエネルギーを加え、ガス状試薬の反応を生じさせて基体上に予備的な膜を堆積させる。その予備的な膜は細孔を持ち、誘電率が2.6未満である多孔質膜を得るために、実質的にすべてのポロゲンを除去される。 (もっと読む)


【課題】トナー等の付着を抑制し、安定した帯電性能を発揮し得る帯電部材の提供。
【解決手段】基体、弾性層102および表面層103を有している帯電部材であって、該表面層は、Si−O−B結合を有し、かつ、下記式(1)で示される構成単位、および下記式(2)で示される構成単位を有している高分子化合物を含むことを特徴とする帯電部材。
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【課題】シアネート樹脂の優れた誘電特性を損なうことなく、硬化物の脆さを改善した樹脂組成物、およびこれを用いた多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】シアネートエステル化合物と、シアナト基と反応する官能基を分子内に少なくとも1個有する反応性ポリオルガノシロキサンとを反応させ、シアネート樹脂の優れた誘電特性を損なうことなく、硬化物の脆さを改善した樹脂組成物を得る。得られた樹脂組成物を内層板に積層して、その後回路形成することにより、多層プリント配線板を得る。 (もっと読む)


高温オゾン処理を含むナノ細孔の超低誘電薄膜の製造方法及びこれによって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜が提供され、前記製造方法は、有機シリケートマトリックス−含有溶液と反応性ポロゲン−含有溶液とを混合して混合溶液を準備し、前記混合溶液を基材上に塗布して薄膜を形成し、前記薄膜を熱処理し、前記熱処理の過程中にオゾン処理を行うことを含み、このような製造方法によって製造されたナノ細孔の超低誘電薄膜は、高温のオゾン処理及び処理温度の最適化による薄膜内の細孔のサイズと分布度の改善を通じて、2.3以下の誘電率と10GPa以上の機械的強度とを有することができる。
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【課題】低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。
【解決手段】(A)重合体、(B)感放射線性酸発生剤および(C)溶剤を含有するネガ型感放射線性組成物であって、前記重合体(A)が、(a1)下記一般式(1)で表される加水分解性シラン化合物および(a2)下記一般式(2)で表される加水分解性シラン化合物から選ばれる少なくとも一種の加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られる重合体であって、重合体(A)に含まれる全ての構成単位の合計を100モル%とするとき、前記化合物(1)由来の構成単位の含有割合が、80〜100モル%であるネガ型感放射線性組成物。


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【課題】光学デバイスの長期信頼性を支える上で、その使用温度域にガラス転移に拠らない応力緩和機構を有し、かつ耐熱性、耐光性に優れる封止層を有する光学デバイスが求められている。
【解決手段】特定の粘弾性挙動を有する封止層が耐熱衝撃性において優れた特性を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。また、さらに本発明の封止剤において、特定のオルガノシロキサン組成物を硬化してなる硬化物が好ましいことを見出した。本発明は以下の構成を有する。
周波数10Hzで測定した損失正接の極大値が−40℃〜100℃の温度範囲内に1個以上あり、かつ極大値が0.01〜0.5の範囲内にある封止層を有する光学デバイス。 (もっと読む)


【課題】 成型加工性、透明性、耐熱性、耐光性等に優れ、耐衝撃性に優れる多面体構造ポリシロキサン変性体、及び該変性体を含有する組成物を提供すること
【解決手段】 式[XR2SiO−SiO3/2]a[XR2SiO−(R2SiO)m−SiO3/2]b[R'−(R2SiO)n−SiO3/2]c(a〜cは0または1以上の整数、a+b+cは6〜24の整数、b+cは1以上の整数、m、nは1以上の整数;Rは、アルキル基、アリール基であり、それぞれが複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい;R'は、他の多面体構造ポリシロキサン;Xは、水素原子、アルケニル基であり、同一であっても異なっていてもよい)を構成単位とする多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)に、ヒドロシリル基もしくはアルケニル基を含有する化合物(b)をヒドロシリル化させて得られることを特徴とする、多面体構造ポリシロキサン変性体。 (もっと読む)


【課題】シルメチレン結合を有するケイ素系ポリマーからなる縮合硬化型オルガノポリシルメチレンの提供、並びに該縮合硬化型オルガノポリシルメチレンを含有して成り、硬化すると、耐熱性、電気絶縁特性、耐水性、成型加工性に優れ、気体透過性の少ないオルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1):


で表され、ケイ素原子に結合したアルコキシ基、水酸基、またはハロゲン原子を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシルメチレン。 (もっと読む)


【課題】シルメチレン結合を有するケイ素系ポリマーからなる付加硬化型オルガノポリシルメチレンの提供、並びに該付加硬化型オルガノポリシルメチレンを含有して成り、硬化すると、耐熱性、電気絶縁特性、耐水性、成型加工性に優れ、気体透過性の少ない硬化物を与えるオルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1):


で表され、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシルメチレン。 (もっと読む)


【課題】低発熱性に一層優れ、且つ揮発性有機化合物(VOC)が発生しない変性共役ジエン系重合体及びその製造方法、その変性共役ジエン系重合体を用いたゴム組成物及びそのゴム組成物を用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】(a)活性末端を有する共役ジエン系重合体の該活性末端に、シロキサン化合物を反応させて変性を行い、末端シラノール基を有するポリシロキサンブロックをもつ共役ジエン系重合体を生成させる工程、及び(b)縮合促進剤の存在下、前記シラノール基が関与する縮合反応を行う工程、を含む変性共役ジエン系重合体の製造方法、この方法で得られた変性共役ジエン系重合体、これを含むゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤ部材に用いてなる空気入りタイヤである。 (もっと読む)


【課題】液晶配向性に優れ且つ耐熱性および耐光性が高く、電気特性に優れる液晶配向膜を形成することができ、しかも保存安定性が良好な液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、Si−X’結合(ただしX’は液晶配向能を有する構造を含む基である。)およびSi−X結合(ただしXはエポキシ構造を含む基である。)を有するポリオルガノシロキサン(A)、ならびに分子内にカルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、カルボン酸の1−アルキルシクロアルキルエステル構造およびカルボン酸のt−ブチルエステル構造よりなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を2個以上有する化合物(B)を含有する。 (もっと読む)


【課題】 成膜温度が120℃〜200℃でリーク電流値が10−8A/cm以下の塗布膜が形成できるとともに、高誘電体膜との積層により低リーク電流及び高比誘電率がシリコン窒化膜と同等以上の特性が得られる誘電体層形成用塗布液及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の誘電体層形成用塗布液は、一般式Si(OR、及びRSi(ORで表されるSiアルコキシド、これらの部分加水分解物及び縮合物から選ばれる一種以上のSiアルコキシド誘導体を主成分として有機溶剤に溶解してなる。ここで、R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基であり、Rは炭素数2以上の置換基である。aはSiの価数であり、b、cはそれぞれ1以上の整数でb+cがSiの価数である。 (もっと読む)


【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および薬液耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式(1)で表される化合物1、下記一般式(2)で表される化合物2、および加水分解性ポリカルボシランを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
Si(OR4−a・・・・・(1)
(式中、Rは炭素数1〜2のアルキル基、ビニル基、アリル基、アセチル基またはフェニル基を示し、aは1〜2の整数を示し、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、アリル基、アセチル基またはフェニル基を示す。)
(RO)3−bSi−(R−Si(OR3−c・・・・・(2)
(式中、R〜Rは同一または異なり、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは同一または異なり、0〜1の数を示し、Rはフェニレン基または−(CH−で表される基(ここで、mは1〜6の整数である。)を示し、dは0または1を示す。) (もっと読む)


【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および加工耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式(1)で表される化合物1を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
(RO)3−bSi−CH−Si(OR3−c・・・・・(1)
(式中、R〜Rは同一または異なり、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは同一または異なり、0〜1の数を示す。) (もっと読む)


【課題】透明性に優れ、アクティブマトリクス基板の絶縁膜としても使用できる高度の耐熱性、高熱履歴後の耐薬品性を有する永久レジストを提供できるポジ型感光性組成物並びに該ポジ型感光性組成物を用いた永久レジスト及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポジ型感光性組成物は、(A)下記一般式(1)で表される基を、1分子中に少なくとも2個有するシリコーン樹脂、(B)グリシジル基を有するシロキサン化合物、(C)ジアゾナフトキノン類及び(D)有機溶剤を含有する。永久レジストは、上記ポジ型感光性組成物を基材上に塗布し、塗布物を露光し、アルカリ現像した後に、120〜350℃の温度でポストベークして製造される。
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【課題】誘電特性および機械的強度に優れた有機シリコン酸化膜を形成することができる膜形成用組成物、およびこの膜形成用組成物を用いて形成された有機シリコン酸化膜を備えた絶縁膜、およびこの有機シリコン酸化膜を備えた半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一の態様によれば、下記一般式(I)で表される化合物またはその加水分解脱水縮合物を含むことを特徴とする、膜形成用組成物が提供される。
3−mSiRSiR3−n (I)
(式中、RおよびRは水素原子または1価の置換基であり、Rは炭素数4の脂環構造を含む2価の基あるいはその誘導体であり、XおよびXは加水分解性基であり、mおよびnは0〜2の整数である。) (もっと読む)


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