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Fターム[4J246HA70]の内容

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Fターム[4J246HA70]に分類される特許

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【課題】低粘度、正確な分子量、及び異なった2つのポリマー末端を有する線状シロキサンポリマー、このようなシロキサンポリマーを生成する方法およびこのようなシロキサンポリマーからなるエラストマの提供。
【解決手段】1つの不飽和基末端及び1つのヒドリド基末端を有する線状シロキサンポリマーであって、シロキサンポリマーが6を超える重合度を有し、不飽和基末端とヒドリド基末端の比が実質的に1:1であるシロキサンポリマーであり、このようなシロキサンポリマーをPt錯体などの触媒の存在下において、150℃未満の温度で段階成長重合を経て、エラストマーを生成する。 (もっと読む)


【課題】高速応答性等の諸特性に優れたPSA方式の液晶表示素子を形成することができる液晶配向剤、この液晶配向剤から形成された液晶配向膜を備えるPSA方式の液晶表示素子及びこのような液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、[A]下記式(1)で表される基を有する化合物(以下、「[A]化合物」ともいう。)を含有する。


(式(1)中、Rは少なくとも2個の単環構造を有する基である。Rは二重結合、三重結合、エーテル結合、エステル結合又は酸素原子を含む連結基である。aは0〜1の整数である。) (もっと読む)


【課題】耐熱着色性、耐UV着色性、強度、たわみに優れ、シロキサン骨格を内部に有しながらも線膨張係数が低い熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表され、エポキシ当量(g/eq.)が200〜2000であるエポキシシシリコーン樹脂及びこれを含む熱硬化性樹脂組成物。


1はエポキシ基を有する1価の有機残基である。 (もっと読む)


【課題】 ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールド用硬化性樹脂組成物、及び樹脂モールドを提供すること。
【解決手段】 ポリシロキサンセグメント(a1)と、ビニル系重合体セグメント(a2)とを有する複合樹脂(A)を含有する樹脂モールド用硬化性樹脂組成物を提供することで、ナノオーダーの微細パターンの転写が可能で、かつ剥離性に優れた樹脂モールドを提供することができる。また、該樹脂モールドから作成されるレプリカモールド、及びレプリカモールドの製造方法を提供する (もっと読む)


【課題】低温プロセスでゾルゲルガラスからなるクラッド・コア材の作製、屈折率の任意制御、光損失の極小制御が可能なポリマー光変調器の製造方法の提供。
【解決手段】下記式(1)
Si(OR4−n (1)
で表されるシリコンアルコキシド、その加水分解・縮合物、またはこれらの混合物と、光酸発生剤とを含む硬化性組成物を調製する工程と、
該硬化性組成物を基板上に塗布・硬化し、更にパターン形成を行い、ゾルゲルガラスから形成される下部クラッド層、コア層、側部クラッド層及び上部クラッド層を形成する工程と、
上部クラッド層中に、電気光学ポリマーから形成されるコア層を、該ゾルゲルガラスから形成されるコア層の上部に接触して埋設する工程とを含み、且つ、上部クラッド層と電気光学ポリマーから形成されるコア層との接続部の一部が、導波光の進行方向に対しテーパー構造を有する、ポリマー光変調器の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明により、耐熱性、耐久性、耐化学薬品性(耐食性)に優れたメタン分離膜または二酸化炭素分離膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、(a)(i)酸触媒、水、有機溶媒を撹拌して混合し、(ii)次にテトラアルコキシシランを加えて撹拌して混合し、(iii)その後、炭素数21〜6のアルキル基およびフェニル基から成る群から選択される炭化水素基を含有する炭化水素基含有トリアルコキシシランを加えて撹拌して混合して、金属アルコキシド溶液を調製する工程、(b)該金属アルコキシド溶液を無機多孔質支持体に塗布する工程、および(c)該金属アルコキシド溶液を塗布した無機多孔質支持体を30〜300℃で焼成する工程
を含むことを特徴とするメタン分離膜または二酸化炭素分離膜の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】優れたサイクル特性を有する二次電池用のラジカル化合物からなる電極活物質。
【解決手段】一般式(1)RSiO3/2で表される部分構造を有するラジカル化合物。(一般式(1)において、Rは一般式(2)で表される基を表す。)


(一般式(2)において、Yは含窒素複素環が5〜7員環を形成する基を表す。R1〜R4は炭素数1から3のアルキル基を示す。Xは、アルキレン基、又はカルボニル基を表す。) (もっと読む)


【課題】有効利用率が高く、物質移動を促進し得る表面構造を備え、ろ過材や触媒担体、吸着材などとして実用的な材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】シリカ材料を、半球カップ状、ボウル状、あるいは皿状に湾曲した二重薄膜構造を有し、膜厚が10〜100nmのものとして使用する。望ましくはその直径をナノサイズからマイクロサイズレベルのものであって、さらに望ましくはその表面にCH(メチル)基を備えたものとする。 (もっと読む)


【課題】加熱養生時間を短縮することで生産コストの低減を実現することのできる変成シリコーン樹脂発泡体を提供すること
【解決手段】分子鎖中に少なくとも2個のヒドロシリル基を有する硬化剤(A)、分子鎖中に少なくとも1個のアルケニル基を有し、主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキレン系単位からなる数平均分子量が5000超え100000以下の重合体(B)、ヒドロシリル化触媒(C)、発泡剤(D)、主鎖を構成する繰り返し単位がオキシアルキレン系単位からなり、分子鎖中に2個以上のアルケニル基を有する数平均分子量45〜5000の化合物(E)、を含んでなる発泡性液状樹脂組成物を硬化・発泡させてなる圧縮歪みが40%以下で、40%圧縮強度が40N以下である変成シリコーン樹脂発泡体。 (もっと読む)


【課題】光配向法により液晶分子の配向規制力を付与することができ、垂直配向型の液晶表示素子に適用する場合にあっては垂直配向規制力と塗布性とのバランスに優れ、一方TN型、STN型または横電解方式の液晶表示素子に適用する場合にあっては配向規制力に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式(A’)


で表される構造を有する感放射線性重合体を含有する。 (もっと読む)


【課題】凝集性が少なく、分散性に優れた粉体を得ることができる粉体処理剤。
【解決手段】主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメントのケイ素原子の少なくとも一つに、一般式(1)で表される有機基が結合してなるオルガノポリシロキサンを含有する粉体処理剤。


[式(1)中、X及びYはそれぞれ独立に、炭素数1〜10の2価の炭化水素基であり、mは0〜4の整数であり、Raは水素原子又は炭素数1〜4の1価の炭化水素基である。Zは一般式(2)


(式(2)中、Rbはアミノ酸の側鎖、Rcは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、Rdは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数1〜22のアシル基である。)で表される有機基である。] (もっと読む)


【課題】優れた液晶配向能を有する液晶配向膜を備えることで液晶の配向均一性が高いコレステリック液晶ディスプレイ、及びこのコレステリック液晶ディスプレイの製造方法、並びにこのような液晶配向膜を形成するために用いられる液晶配向剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、対向する一対の基板、この各基板と垂直方向に分割された基板間の複数の領域にそれぞれ配置されるコレステリック液晶、及び上記各基板とコレステリック液晶との間にそれぞれ積層される液晶配向膜を備えるコレステリック液晶ディスプレイであって、少なくとも一方側の上記液晶配向膜が感放射線性液晶配向剤によって形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】収縮に対する耐性が向上し、新規な物理的特性をもつナノコンポジットモノリス材料、ならびに前記材料を含むクロマトグラフィーカラムを提供する。
【解決手段】クロマトグラフィー分離用の新規材料、それらの調製方法、特に、第2の材料の表面と化学的に相互作用できる支持骨格官能基を含み重合した支持骨格ナノコンポジット(PSN)を備えるハイブリッド無機/有機モノリス材料が記載される。このハイブリッド無機/有機材料では、従来技術のモノリス材料に比べて、壁との付着性が向上し、収縮に対する耐性が向上している。モノリスの付着性が向上したことにより、内径(I.D.)≧50μmをもつキャピラリカラムの作製が可能である。 (もっと読む)


【課題】低い電圧で変形(変位)することが可能な刺激応答性化合物およびそれを用いたアクチュエータを提供すること、また、刺激応答性化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の刺激応答性化合物は、分子構造が変形する複数の変形基と、液晶性を有する複数の液晶性官能基と、変形基と液晶性官能基とを連結する複数の連結基とを有し、前記変形基は、回転軸として機能する結合を有しかつ該結合の一端に位置する第1の基と、結合の他端に位置する第2の基とを有するユニットAと、第1の基の第1の結合部位に配置された第1のユニットBと、第2の基の第1の結合部位に配置された第2のユニットBとを有し、変形基は、第1の基の第2の結合部位および第2の基の第2の結合部位において、連結基と結合しており、第1のユニットBと第2のユニットBとが、酸化還元反応によって結合することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】安定して製造でき、且つ十分なイオン交換能を有する縮合物、該縮合物の製造原料として好適な有機ケイ素化合物の提供。
【解決手段】下記一般式(1−1)又は(1−2)で表される有機ケイ素化合物(Arは単環又は縮環構造の芳香族基であり;R1はスルホ基、水素原子が金属原子で置換されたスルホ基、スルフィノ基、スルホニルイミド基、アルコキシスルホニル基、硫酸基、またはホスホノ基、アルコキシヒドロキシホスホキシ基、リン酸基、等の燐化合物であり;Rはヒドロカルビル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、アシル基、ニトロ基又はシアノ基であり;Yは置換基を有していてもよいヒドロカルビル基であり;Zはハロゲン原子、アルコキシ基又は水酸基である。)。
[化1]
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【課題】工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】シロキセンに導入する官能基を任意に選択することが可能なシロキセン複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記組成式(2):
Si(O−E−COOR6−a (2)
(式(2)中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基、Eは炭素数1〜30の炭化水素基、1≦a≦5。)
で表されるシロキセン誘導体と、
下記式(3):
HNR (3)
(式(3)中、RおよびRは水素原子、炭化水素基または複素基を表し、前記NRにおいて、RとRが互いに結合して含窒素複素環を形成していてもよい。)
で表される含窒素化合物とを有機溶媒中で反応させて、
下記組成式(1):
Si(O−E−CONR6−a (1)
(式(1)中、RおよびRは前記式(3)中のRおよびRと同一、Eおよびaは前記式(2)中のEおよびaと同一。)
で表されるシロキセン複合材料を得ることを特徴とするシロキセン複合材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】モールドの微細凹凸構造の転写性が良好であり、硬化物層に残存する気泡が抑えられ、基材としてプラスチックを用いることができ、しかも製造時間を短縮できる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】モールド40の微細凹凸構造側の表面にアルコキシシラン、その加水分解物、縮合物の1種以上と光感応性酸発生剤とレベリング剤とを含む塗布液を塗布して塗布液層24を形成する工程、塗布液層24を部分硬化させてナノインデンテーション測定において、0.4mN試験荷重がかかった時の押し込み深さが、0.18μm以上である部分硬化物層26を形成する工程、部分硬化物層26を介してモールド40と基材10とを重ね、部分硬化物層26に活性エネルギー線を照射して硬化物層20を形成する工程、モールド40を離型する工程を有する物品1の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】シリコーンゴム成形体を、50℃での飽和蒸気圧が0.01〜30mmHgである洗浄用オルガノポリシロキサン中に浸漬させて、上記シリコーンゴム成形体が含有するオルガノポリシロキサンの低分子体を低減させることを特徴とするシリコーンゴム成形体の洗浄方法。
【効果】本発明によれば、シリコーンゴム成形体を50℃での飽和蒸気圧が0.01〜30mmHgである洗浄用オルガノポリシロキサン中に浸漬させて、上記シリコーンゴム成形体が含有するオルガノポリシロキサンの低分子体を低減させたシリコーンゴム成形体を得ることができる。また、シリコーンゴム成形体のバックアップ材として樹脂フィルムを用いた場合でも樹脂フィルムの溶解、変形の無いものとすることができる。 (もっと読む)


【課題】未加水分解の残基が殆どなく、しかも副生物が極めて少なく高収率である両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1):
SiRR(OCOR3 (1)
(式中、R1およびR2は独立に置換または非置換の一価炭化水素基、R3は炭素原子数1〜4のアルキル基)
で示されるジオルガノジアシルオキシシランを、シクロペンチルメチルエーテル中において、少量の水の存在下、部分加水分解および縮合反応に供し、
(B)工程(A)で得られた反応混合物を、大過剰量の水で洗浄することにより、前記ジオルガノジアシルオキシシランの加水分解を完全に進行させるとともに加水分解副生物であるカルボン酸を有機相から抽出、除去し、
(C)工程(B)で得られた有機相からシクロペンチルメチルエーテルを留去させる、
工程を有する両末端シラノール基封鎖低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法。 (もっと読む)


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