【課題】簡素化した製造工程でも低酸素の焼結Ｍｏ合金スパッタリングターゲット材を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】（Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ）の群から選択される１種または２種以上の金属元素Ｍを０．５〜６０原子％含有し、残部がＭｏおよび不可避的不純物からなるＭｏ合金スパッタリングターゲット材の製造方法であって、Ｍｏ原料粉末と平均粒径２００μｍ以下の水素化した前記金属元素Ｍの粉末とを混合処理した混合粉末を加圧容器に充填し、次いで該加圧容器を加熱しながら減圧脱気処理をした後、熱間静水圧プレスで加圧焼結してＭｏ合金焼結体を作製する焼結Ｍｏ合金スパッタリングターゲット材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 耐湿性や耐酸化性を改善し、さらに、低抵抗な主導電層であるＡｌと積層した際に、加熱工程を経ても低い電気抵抗値を維持できる、Ｍｏ合金からなる被覆層を用いた電子部品用積層配線膜および被覆層を形成するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 基板上に金属膜を形成した電子部品用積層配線膜において、Ａｌを主成分とする主導電層と該主導電層の一方の面および／または他方の面を覆う被覆層からなり、該被覆層は原子比における組成式がＭｏ_{１００−ｘ−ｙ}−Ｎｉ_ｘ−Ｔｉ_ｙ、１０≦ｘ≦３０、３≦ｙ≦２０で表され、残部が不可避的不純物からなる電子部品用積層配線膜。 （もっと読む）

【課題】 飽和磁束密度、非晶質性および耐候性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金において、マグネトロンスパッタ時に効率良く使用できるターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、ＴａおよびＢの２種以上を含有し、残部ＣｏおよびＦｅ、ならびに不可避的不純物よりなり、下記式１および式２を満足し、相対密度９９％以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材。
０．６０≦Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）≦０．６５（ａｔ．％比） … （１）
５ａｔ％≦（Ｚｒ＋Ｈｆ＋Ｎｂ＋Ｔａ）＋Ｂ／２≦１０ａｔ％ … （２）
ただし、Ｂ：７％以下とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、熱間圧延で生じるフィッシュテールを抑制し、素材の端切り量の増大を低減できる、粉末焼結圧延素材の製造方法を提供することである。
【解決手段】 本発明は、長手方向の一方または両方の端面が外側に膨出した凸形状をなすキャビティを有する加圧容器に金属粉末を充填し、該加圧容器を脱気封止した後、熱間静水圧プレスを施し、次いで該加圧容器に前記長手方向を圧延方向とする熱間圧延を施す粉末焼結圧延素材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】圧粉体ロータ鍛造プリフォーム並びに鍛造圧粉体タービンロータ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】タービンロータ（１０）ディスク用の鍛造プリフォーム（２００）を開示する。本プリフォーム（２００）は、約５０００ポンド以上の質量を有する超合金材料（８）の本体を含み、超合金材料（８）は、ほぼ均質な粒子形態及び１０以下のＡＳＴＭ平均粒径を有する。鍛造タービンロータ（１０）ディスクも開示する。本ディスクは、約５０００ポンド以上の質量を有する超合金材料のほぼ円筒形ディスクを含み、超合金材料（８）は、ほぼ均質な粒子形態及び１０以下のＡＳＴＭ平均粒径を有する。タービンロータの製造方法（１００）も開示する。本方法（１００）は、超合金粉末材料を準備するステップ（１１０）と、超合金粉末材料を圧縮成形して（１２０）タービンロータディスク用の鍛造プリフォームを形成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 マグネトロンスパッタリング法のターゲット材の透磁率の低減方法の提供。
【解決手段】 鋳造法や粉末冶金法によるスパッタリングターゲット材で、周期律表の８Ａ族の４周期の元素のＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉの１つ以上から、または８Ａ族の４周期の元素のＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成分とし、これとＡｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｂ、Ｃ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｄｙ、Ｆｅ、Ｇｄ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｌａ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、ＺｎおよびＺｒの元素群から選択した少なくとも１つの元素から、成るターゲット材で、これら組成の鋳造後に、またはこれら粉末の熱間成形した冷却後に、機械加工でターゲット材寸法に加工し、このターゲット材を室温から５００〜９００℃に加熱し、次いで後冷却速度２１６０〜５４００００℃／ｈｒで室温に冷却して熱処理し、透磁率を低減してターゲット材とする。 （もっと読む）

【課題】 スパッタ法により良好にＮａ添加されたＣｕ−Ｇａ膜を成膜可能なスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 Ｇａ：２０〜４０ａｔ％を含有し、
さらに、Ｎａ：０．０５〜２ａｔ％およびＳ：０．０２５〜１．０ａｔ％を含有し、残部がＣｕ及び不可避不純物からなる成分組成を有する。また、このスパッタリングターゲットを作製する方法は、Ｎａ_２Ｓ粉末とＣｕ−Ｇａ合金粉末との混合粉末、又はＮａ_２Ｓ粉末とＣｕ−Ｇａ合金粉末と純Ｃｕ粉末との混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程、または、熱間静水圧法で焼結する工程を有している。 （もっと読む）

【課題】 マグネトロンスパッタリング法に用いる透磁率の低減したスパッタリングターゲット材の製造方法の提供。
【解決手段】 スパッタリングターゲット材の粉末を熱間で固化成形し急冷することで、ターゲット材の結晶構造やターゲット組成または温度によらずターゲット材の透磁率の低減方法で、周期律表の８Ａ族の４周期の元素のＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉからなる粉末原料を、あるいは周期律表の８Ａ族の４周期の元素のＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成分とし、これとＡｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｂ、Ｃ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｄｙ、Ｆｅ、Ｇｄ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｌａ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｐ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｓｉ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、ＺｎおよびＺｒから成る元素群から選択した少なくとも主成分以外の１つの元素の粉末原料を熱間で成形し、冷却速度１４４〜３６０００℃／ｈｒで３００℃まで冷却してターゲット材とする。 （もっと読む）

【課題】成形ロータホイール（１９）、そのようなロータホイール（１９）を備えたターボ機械、及びそのようなロータホイール（１９）を製造する方法を開示する。
【解決手段】実施形態では、少なくとも１つのディスク部材（３６）と少なくとも１つのスペーサ部材（３８）とを含み、また１以上のブレード（２０）段を担持しかつ軸方向に間隔を置いて配置することができるロータホイール（１９）が設けられる。さらに、そのようなロータホイール（１９）を製造する方法も開示しており、本方法は、出発材料として金属粉末を使用するステップと、粉末冶金法を使用して金属粉末を処理するステップとを含む。 （もっと読む）

少なくとも１つの焼結した多結晶超硬構造（２２、２４）と、超硬合金を含む支持体（３０）とを接触させて、プレコンパクトアセンブリー（４０）を形成することと、プレコンパクトアセンブリー（４０）を超硬材料が熱力学的に安定的な圧力および温度に曝露し、超硬先端部のためのプレフォーム体を形成することと、プレフォーム体を処理し、超硬先端部を形成することとを含む、回転機械ツールのための超硬先端部を作製する方法。
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【課題】高温強度、特に底部と側壁部とを連結する角部の高温強度に優れるタングステン製ルツボを提供すること。
【解決手段】純度９９．９％以上のタングステンからなり、底部２と側壁部３とが角部４を介して連結された上部開放の有底筒状のタングステン製ルツボ１であって、前記タングステンは、粒径が１０μｍ以上１００μｍ以下のタングステン結晶粒の割合が粒子数の割合で９０％以上であるもの。また、焼結工程やＨＩＰ焼結により製造する。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリング時の異常放電の防止、あるいはターゲットの製造中やスパッタリング中の割れや欠けを防止できる緻密で高強度のＮａを含有するＭｏ系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 平均粒径１５μｍ以下のＮａＦ粉末と平均粒径２０μｍ以上のＭｏ粉末との焼結体からなり、ＮａＦを０．１〜８質量％含有し、相対密度９０％以上かつ抗折力が１５０N／ｍｍ²以上であるＭｏ系スパッタリングターゲットである。 （もっと読む）

【課題】 熱間等方圧加圧を用いてビレットを成形するための改良容器２０１及び方法を提供する。
【解決手段】 容器２０１は、外壁２１０と、クラウン２４０の周縁部にリム２４５が設けられた容器上面２００と、容器底面２３５とを備える。容器上面２００は外壁２１０に嵌挿され、リム２４５が容器２０１の内部２７０に延在するように配置され、容器上面２００のリム２４５は外壁２１０に沿って摺動して内部２７０の容積を選択的に調節できるように構成されている。リム２４５は軸方向Ａから角度αで面取り部を画成し、面取り部の厚さはクラウン２４０に向かって増大する。容器の粉体充填量に基づいて所望の形状のビレットが得られるように、容器２０１の容積を調節することができる。さらに、容器２０１の隅部を調節して、縁部効果を解消し、得られるビレットをさらに形状制御することができる。 （もっと読む）

【課題】発光輝度の経時的低下の小さい上部発光型有機ＥＬ素子および前記上部発光型有機ＥＬ素子の陽極層を構成する反射膜の形成に用いられるＡｌ合金スパッタリングターゲットを提供する。
【課題手段】上部発光型有機ＥＬ素子の陽極層を構成する反射膜、および前記反射膜の形成に用いられるスパッタリングターゲットを、合金成分として、質量％で、Ｃａ：０．０５〜０．５％、Ｎｉ：２〜６％、を含有し、残りがＡｌと不可避不純物（ただし、０．０１％以下）からなる成分組成を有するＡｌ合金で構成する。 （もっと読む）

【課題】 平面表示装置等の配線膜のプロセス温度域で、低抵抗化が可能であるとともに、ガラス基板やＳｉ層への密着性が良好で、かつＳｉ拡散バリア性を有するＣｕ系配線膜を形成するために使用されるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 Ｃｕと添加元素と酸素の総和を１００原子％とした時に、添加元素としてＢを０．１〜１．０原子％、さらにＢと化合物を発現する元素の少なくとも１種類以上を０．１〜２．０原子％含むとともに、酸素を３．０〜１０原子％含有し、残部がＣｕと不可避的不純物からなるスパッタリングターゲットである。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−Ｃｒ合金中間層膜製造用スパッタリングターゲット材および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗを１〜２０％、Ｃｒを１〜２０％含み、残部Ｎｉからなる垂直磁気記録媒体における中間層膜に用いるＮｉ−Ｗ−Ｃｒ合金からなるスパッタリングターゲット材。また、上記合金組成の粉末を固化成形したスパッタリングターゲット材。さらに、上記、薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜。 （もっと読む）

１態様に従う金属物品を製造するための方法は、以下の：ナトリウム／モリブデン複合金属粉末の供給物を提供し；そのナトリウム／モリブデン複合金属粉末を十分な圧力の下で圧縮して予備成形された物品を形成し；その予備成形された物品を密閉された容器に入れ；その密閉された容器の温度をモリブデンの焼結温度より低い温度まで上げ；そして、その密閉された容器に、物品の密度を理論密度の少なくとも約９０％まで増大させるのに十分な時間の間等方圧をかける；ことを含んでいてよい。 （もっと読む）

本発明は、ＰＣＤ又はＰＣＢＮの層、及びＰＣＤ又はＰＣＢＮの層が中間層を介して結合された焼結炭化物基材を含む研摩インサートであって、中間層は、結合した塊の超硬質研磨粒子及び耐火性粒子を含み、超硬質研磨粒子の平均サイズは、耐火性粒子の平均サイズと同じか又は未満である研摩インサート、並びに当該インサートの製造の方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 内容物同士および内容物と容器との間の界面を拡散接合するに際して、処理後に除去しなければならない容器部分を減らすとともに、冷却段階における熱応力および使用時の残留応力による不具合を解消すること。
【解決手段】 容器１内に含包される内容物は、主軸受の構成材である軸受材となるＡ４０の粉末１Ａ、および裏金１Ｂとなるステンレス鋼ＳＵＳ３０４である。内容物１Ｂであるステンレス鋼ＳＵＳ３０４は容器の一部である外管２を兼ねる構造で、内管３の界面には剥離材６としてステンレス鋼ＳＵＳ３０４製で厚さ５０μｍの金属箔が２重巻きされて、粉末である内容物１Ａが金属箔の間隙や金属箔と内管３との隙間に侵入しないようにできるだけ隙間なく挿入され、内管３に点溶接で固定されている。 （もっと読む）