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Fターム[4K022BA11]の内容

化学的被覆 (24,530) | 被膜 (7,733) | Mn (48)

Fターム[4K022BA11]に分類される特許

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【課題】賦形された無機薄膜、パターン化無機薄膜を形成するためのインプリント用組成物であって、凹凸の転写性に優れ、且つ、焼成による凹凸(パターン)の崩れを抑制できるインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】本発明のインプリント用組成物は、樹脂製の型を用いて無機薄膜を形成するためのインプリント用組成物であって、金属酸化物粒子と金属酸化物前駆体とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】良好な防錆効果を発揮する被膜を、簡便にかつ短時間で形成する。
【解決手段】金属アルコキシド(A)とアルコール(B)と酢酸(C)を含有し、金属アルコキシド(A)のアルコキシ基が、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、およびノルマルブトキシ基からなる群から選ばれる1種以上であり、金属アルコキシド(A)の含有量を1質量部とするときの酢酸(C)の含有量の比が0.05〜0.20質量部であり、金属アルコキシド含有組成物における金属アルコキシド(A)の固形分濃度が2.5〜3.5質量%であることを特徴とする金属アルコキシド含有組成物。 (もっと読む)


【課題】低コストで高性能な電気化学デバイス用触媒層付電極の製造に好適な触媒層形成用組成物、及び、それを使用する触媒層の製造方法を提供する。
【解決手段】電気化学デバイスの触媒層付電極の触媒層形成に用いられる触媒層形成用組成物であって、イオン伝導性の導入が可能なビニルモノマー、金属微粒子の前駆体である金属化合物、及び、炭素担体を含むものであり、前記ビニルモノマーは、放射線照射により重合して、イオン伝導性ポリマーを形成するものであり、前記金属化合物は、放射線照射により還元されて、金属微粒子を形成するものであることとする。 (もっと読む)


【課題】基板における局所的な温度差を解消し、基板の割れや金属酸化膜のクラックを防止する金属酸化膜を生産する製膜装置を提供する。
【解決手段】基板の全面を加熱する主加熱手段1と、金属酸化物前躯体を含む溶液を霧化して液滴微粒子とする霧化部と、前記液滴微粒子を含むガスを前記基板の所定の領域に吹きつけるノズル4と、液滴微粒子を含む前記ガスを吹きつける前記所定の領域を選択的に加熱する補助加熱手段3を備る金属酸化膜を生産する製膜装置。 (もっと読む)


【課題】相変化物質などの水溶性物質を包含するカプセル状粒子に無電解めっきする方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒から選択される少なくとも1種と、アルコール溶媒およびエーテル溶媒から選択される少なくとも1種とを含む溶媒中、金属前駆体と有機酸系還元剤の存在下、水溶性物質を包含するカプセル状粒子表面に無電解めっきを行う。好ましくは、無電解めっきは2段階で行う。 (もっと読む)


【課題】チタン系焼結体の優れた性能を維持しつつ、耐酸化性を向上できる表面被覆サーメット部材を提供する。
【解決手段】本発明は、炭化チタン、窒化チタンおよび炭窒化チタンのうち、少なくとも1種以上のチタン化合物を硬質相の主成分とする焼結体によって構成されたサーメット基材11に、耐酸化膜12が形成された表面被覆サーメット部材を対象とする。耐酸化膜12は、サーメット基材11との界面12aと、最表面12bとで異なる組成を有する複合酸化物によって構成される。耐酸化膜12の最表面12bは、鉄と、チタンと、カルシウムと、酸素とを含有する。 (もっと読む)


【課題】チタン系焼結体の優れた性能を維持しつつ、耐酸化性を向上できる耐酸化膜を容易に形成することのできる、表面被覆サーメット部材の耐酸化膜形成用の処理液を提供する。
【解決手段】本発明の処理液は、チタン化合物と反応してイルメナイト型複合酸化物を生成する金属塩を含有する組成とする。前記金属塩は、鉄属2価イオンの遷移金属の化合物であるのが好ましい。本発明の処理液を、サーメット基材11に塗布した後加熱することによって、イルメナイト型複合酸化物を含む耐酸化膜12を形成させることができる。 (もっと読む)


【課題】 特に、無電解メッキ法を用いて、従来に比べて半田転写の改善や接触抵抗の安定性等を図ることが可能な表面層を弾性変形部に形成することが可能な接触子の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 弾性変形部を備える接触子の製造方法において、固定部21と、前記固定部21から延出形成された前記弾性変形部22とを有する芯部23を形成する工程、前記芯部23の表面に、無電解メッキ法にて、白金族金属層28をメッキ形成する工程、前記白金族金属層28の表面に、無電解メッキ法にて、Au層29をメッキ形成する工程、加熱処理を施して、最表面層に、白金族元素とAuとの合金層を形成する工程、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


溶媒に溶解した硫酸を用いて、金属めっき用の熱可塑性基材を同時にコンディショニングおよびエッチングするための改善された方法を記載する。 (もっと読む)


本発明は部品を製造する方法に関し、
a)ブランク材を用意するステップ、
b)無機−有機複合ポリマー層をブランク材の表面に適用するステップ、
c)コーティングされたブランク材を加熱して、前記ポリマー層を硬化するステップ、及び、
前記コーティングされたブランク材を冷却するステップを特徴とする。
本発明は、さらに、特に家庭用器具に使用するための部品、及び前記部品の使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、感光性の金属含有組成物を基材に塗布し、感光性の金属含有組成物を乾燥し、感光性の金属含有組成物を化学線源にて露光し、及び金属含有組成物を後処理することによって金属含有フィルムを形成する方法に係る。該方法は、また、感光性の金属含有組成物を、マスク又は型を通して化学線源にて露光し、組成物の非露光部分を現像することを含む。本発明の他の具体例は、前記の方法によって形成された金属含有フィルム、三次元の物体又は物品である。本発明は、直接パターン化された金属含有フィルム及び微小デバイスの製造に有用である。 (もっと読む)


【課題】電界紡糸法により一次元的に伸びた繊維を用いて長尺の一本の金属ナノチューブが調整できる金属ナノチューブ製造方法およびこの方法で製造した長尺の金属ナノチューブを提供する。
【解決手段】電界紡糸によりナノファイバーを調製し、このファイバーの表面を無電解めっきにより金属層で被覆した後、ファイバーを加熱除去する金属ナノチューブの製造方法。
ナノファイバーには、ポリメタクリル酸メチルを使用し、ナノファイバーに被覆する金属層には、Niを使用する。 (もっと読む)


【課題】微粒子がめっき膜中に均一に分散されるとともに、ピンホール、ボイド、及びノジュールの発生が抑制される複合めっき膜の形成方法、並びに、ワイピング耐性、耐インク性、及び吐出安定性に優れたインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】高圧流体と、微粒子を含むめっき液とを混合して攪拌した混合流体に、めっきを施すべき被めっき体を接触させて複合めっき膜を形成する。インクジェット記録ヘッドを製造する場合、ノズルプレート11のインク吐出側とは反対側の面にめっき用保護膜14を形成し、好ましくは、超臨界二酸化炭素と、撥液性微粒子及び界面活性剤を含むめっき液とを混合して攪拌した混合流体にノズルプレートを接触させてインク吐出側の面に複合めっき膜16を形成する。めっき後、ノズルプレートからめっき用保護膜を除去する。 (もっと読む)


【課題】 金属イオンを光還元して金属構造体を製造する方法において、従来の技術よりも加工分解能を大幅に改善することができる方法を提供する。より具体的には、金属構造体を構成する金属結晶の成長を抑制することで加工分解能を改善した金属構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属結晶の成長を抑制することができる物質を金属イオンが分散した媒体中に添加することで、当該金属イオンが光還元されて生成される金属結晶の成長を防ぎ、これにより当該金属結晶からなる金属構造体の加工分解能を改善する。 (もっと読む)


【課題】合金粉末の製造原料として添加する高純度な合金成分金属を準備する必要性を大幅に減じ、かつ製造工程数が少なく、合金粉末製造時の反応時間を大幅に短縮することができる合金粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】溶融塩を用いた2種以上の金属からなる合金粉末の製造方法において、(a)溶融塩を準備するステップと、(b)前記溶融塩へ、合金粒子の核となる金属A粒子を供給するステップ、および、前記溶融塩へ、前記金属Aより貴(イオン化傾向が小さい)な金属Bを溶解させるステップと、そして(c)前記金属Aと、金属Bのイオンとの置換反応により金属A粒子の表面に金属Bを析出させ、同時に、金属A粒子の表面からの相互拡散により金属A及びBを合金化させるステップとを含んでいる前記合金粉末の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、結晶性の低い金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材に接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が、金属酸化物膜の結晶性を低下させるホウ素化合物を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】簡易な工程で容易に傾斜面を形成することが可能な金属薄膜の形成方法および金属薄膜ならびに薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】基板11上の第1領域D1および第2領域D2に、無電解めっき処理の触媒材料を含む第1下地層13Aを形成したのち、この第1下地層13A上の第1領域D1に対応する領域に第2下地層13Bを形成する。第1領域D1において第2領域D2よりも、無電解めっき処理の触媒材料の濃度分布が高くなる。よって、これら第1下地層13Aおよび第2下地層13Bを形成した基板11に対して、無電解めっき処理を施すことにより、第1領域D1において第2領域D2よりも成膜レートが高くなる。 (もっと読む)


【課題】簡易な工程で容易に傾斜面を形成することが可能な金属薄膜の形成方法および金属薄膜ならびに薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】基板11上に、触媒材料を含む第1下地層13Aを形成したのち、無電解めっき処理を施し、第1下地層13Aを覆うように第1めっき層14Aを形成する。こののち、基板11上の第1めっき層14Aの近傍領域に、触媒材料を含む第2下地層13Bを形成し、この第2下地層13Bと第1めっき層14Aを触媒として、さらに2回目の無電解めっき処理を施す。第1下地層13A上に堆積した第1めっき層14Aと、第2下地層13Bとを覆うように第2めっき層14Bが成膜される。第1下地層13Aに対向する領域と第2下地層13Bに対向する領域との間に生じる膜厚差により、金属薄膜10の端部にテーパ14A−1が形成される。 (もっと読む)


熱画像形成方法によってベース基体上にパターニングされた触媒層を含むパターニングされた基体を提供するステップの後、めっきして金属パターンを提供するステップを含む、高い伝導性の金属パターンの製造方法が開示される。提供される金属パターンは、電磁妨害遮蔽デバイスおよびタッチパッドセンサーを含む電気デバイスに好適である。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、粒径分布が単分散で、層の界面の平滑性が高い多層構造粒子を、生産性高く、かつ簡便に合成する製造方法を提供することである。
【解決手段】中心層(L0)をコアとし、コアの中心に対して同心状に1層以上の層(Ln)を積層した構造を有する多層構造粒子を製造する製造方法であって、少なくとも1層(Ln)をマイクロ波照射により形成させる工程を含むことで、生産性が高く簡便に多層構造樹脂粒子を製造することができる。該工程は、例えばマイクロ波照射下に、粒子である中心層(L0)を水を0.5%以上の濃度で溶解させることが可能な有機溶剤中に分散させた分散液(D0)に金属アルコキシドと水を添加して、中心層(L0)粒子の表面に金属酸化物層を形成させ多層粒子分散液を得ることにより多層構造粒子を得る製造工程である。 (もっと読む)


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